技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種次臨界系統(tǒng)次臨界度的測量方法。其包括：將至少兩個相同的探測器均勻布置在受外源影響相同的對稱位置；獲取至少兩個相同的探測器的探測器截面Σdet空間及能量分布；改變系統(tǒng)次臨界度，測量預(yù)設(shè)組不同狀態(tài)的“真實”次臨界度；根據(jù)至少兩個相同的探測器的探測器截面Σdet空間及能量分布,測量預(yù)設(shè)組不同狀態(tài)的“測量”次臨界度；根據(jù)預(yù)設(shè)組不同狀態(tài)的“真實”次臨界度與“測量”次臨界度，得到“真實”與“測量”次臨界度的對應(yīng)關(guān)系；運行中，對任一當(dāng)前狀態(tài)，根據(jù)當(dāng)前狀態(tài)的“測量”次臨界度和“真實”與“測量”次臨界度的對應(yīng)關(guān)系，獲取當(dāng)前的“真實”次臨界度。本發(fā)明的技術(shù)方案對通量的畸變更不敏感，增強了測量的準(zhǔn)確性。

技術(shù)研發(fā)人員：楊英坤;劉超;常博;曾勤;吳宜燦
受保護的技術(shù)使用者：中國科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院
文檔號碼：201410281628
技術(shù)研發(fā)日：2014.06.20
技術(shù)公布日：2017.01.25