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Smt通孔回流技術(shù)工藝裝備的制作方法

文檔序號:8186767閱讀:610來源:國知局
專利名稱:Smt通孔回流技術(shù)工藝裝備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種電子產(chǎn)品生產(chǎn)中使用的工藝裝備,尤其涉及SMT通孔回流技術(shù)的工藝裝備。
背景技術(shù)
在電子產(chǎn)品生產(chǎn)中,SMT即表面貼裝技術(shù)是主導(dǎo),它包括印刷機(jī)刷錫膏、貼片機(jī)表貼元器件、高溫回流焊接機(jī)焊接三部分。貼片機(jī)把元器件標(biāo)貼到PCB上以后,要在高溫回流焊接機(jī)中焊接,如何焊怎樣焊才能使品質(zhì)最好,通孔回流技術(shù)就是研究這一問題的,可是當(dāng)下所有電子公司的生產(chǎn)中,雖然一些元器件諸如USB頭、晶振等可以被貼片機(jī)表貼到PCB 上,但在高溫回流焊接機(jī)焊接這一工序上缺少相應(yīng)的裝備,導(dǎo)致USB頭、晶振等無法在高溫回流焊接機(jī)中焊接,致使只能手工焊接USB頭、晶振,這樣生產(chǎn)效率大大降低,也可以這樣講,通孔回流技術(shù)能否應(yīng)用的好,其工藝裝備是關(guān)鍵。
發(fā)明內(nèi)容為了解決上述問題,使表面貼裝技術(shù)更好的應(yīng)用,本實(shí)用新型提供一種SMT通孔回流技術(shù)工藝裝備,本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)SMT通孔回流技術(shù)工藝裝備,包括托盤,其特征在于托盤橫截面的兩側(cè)是臺階形狀,托盤上表面的中部是PCB凹槽,PCB凹槽外側(cè)依次是通孔、USB槽,PCB凹槽上又設(shè)有表貼件凹槽,PCB凹槽的對角處各設(shè)有一個(gè)定位柱。本實(shí)用新型的有益效果是,利用一個(gè)工藝裝備,將PCB放在工藝裝備上,在PCB的通孔處印刷了一定比例的錫膏,再用貼片機(jī)將通孔插裝的元件插裝在PCB上,然后一起過高溫回流焊接機(jī)焊接。這樣SMT通孔回流技術(shù)工藝解決了通孔回流技術(shù)的應(yīng)用瓶頸,使USB 頭、晶振等元器件也可以在高溫回流焊接機(jī)中焊接,使表面貼裝技術(shù)更完善,從而減少了手工焊接的人力成本,利用工藝裝備提高生產(chǎn)效率,保證了品質(zhì)。

圖1是本實(shí)用新型的構(gòu)造示意圖。圖中1為托盤,2為USB槽,3為表貼件凹槽,4為定位柱,5為PCB凹槽,6為通孔, 7為臺階。
具體實(shí)施例現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實(shí)施例進(jìn)一步對本實(shí)用新型作詳細(xì)說明。如圖1所示,SMT通孔回流技術(shù)工藝裝備,包括托盤(1),托盤(1)橫截面的兩側(cè)是臺階(7)形狀,其作用是使本實(shí)用新型在SMT中,與印刷機(jī)、貼片機(jī)、高溫回流焊接機(jī)更好的匹配,使其固定,托盤(1)上表面的中部是PCB凹槽( ,PCB凹槽( 外側(cè)依次是通孔(6)、 USB槽O),通孔的作用是,當(dāng)PCB通過高溫回流焊接機(jī)時(shí),熱量更好的上下回流,使焊接效果最佳,PCB凹槽( 上又設(shè)有表貼件凹槽(3),其作用是把PCB底面的標(biāo)貼件避開,使PCB 放得更平穩(wěn),PCB凹槽(5)的對角處各設(shè)有一個(gè)定位柱G),其作用是使PCB更好的固定。
權(quán)利要求1.SMT通孔回流技術(shù)工藝裝備,包括托盤,其特征在于托盤橫截面的兩側(cè)是臺階形狀, 托盤上表面的中部是PCB凹槽,PCB凹槽外側(cè)依次是通孔、USB槽,PCB凹槽上又設(shè)有表貼件凹槽,PCB凹槽的對角處各設(shè)有一個(gè)定位柱。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種電子產(chǎn)品生產(chǎn)中使用的工藝裝備,尤其涉及SMT通孔回流技術(shù)的工藝裝備,SMT通孔回流技術(shù)工藝裝備,包括托盤,其特征在于托盤橫截面的兩側(cè)是臺階形狀,托盤上表面的中部是PCB凹槽,PCB凹槽外側(cè)依次是通孔、USB槽,PCB凹槽上又設(shè)有表貼件凹槽,PCB凹槽的對角處各設(shè)有一個(gè)定位柱,本實(shí)用新型的有益效果是,利用一個(gè)工藝裝備,將PCB放在工藝裝備上,在PCB的通孔處印刷了一定比例的錫膏,再用貼片機(jī)將通孔插裝的元件插裝在PCB上,然后一起過高溫回流焊接機(jī)焊接,從而減少了手工焊接的人力成本,利用工藝裝備提高生產(chǎn)效率,保證了品質(zhì)。
文檔編號H05K3/34GK202285460SQ20112044094
公開日2012年6月27日 申請日期2011年11月4日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月4日
發(fā)明者馮俊誼 申請人:北京航天達(dá)盛電子技術(shù)有限公司
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