專利名稱:?jiǎn)尉t加熱系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及熔融單晶硅爐裝置的領(lǐng)域。
背景技術(shù):
單晶爐加熱系統(tǒng)是將多晶硅熔化生長(zhǎng)成單晶硅的設(shè)備,現(xiàn)有的單晶爐加熱系統(tǒng)在結(jié)晶過(guò)程中,由于結(jié)構(gòu)的不合理存在溫度難以均衡,保溫效果差等缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種結(jié)構(gòu)合理、溫度均衡、保溫效果好的單晶爐加熱系統(tǒng)。本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的單晶爐加熱系統(tǒng),包括爐底、爐室和爐蓋,爐室包括下爐室和主爐室,下爐室連接在爐底的上方,主爐室連接在下爐室的上方,爐蓋連接在主爐室的上方,爐蓋的上端設(shè)置爐口,所述爐室內(nèi)設(shè)置環(huán)形保溫桶、下保溫層和上保溫層,保溫桶包括下保溫桶、中保溫桶和上保溫桶,中保溫桶設(shè)置在下保溫桶的上方,上保溫桶設(shè)置在中保溫桶的上方,下保溫層設(shè)置在上保溫桶的上方,上保溫層設(shè)置下保溫層的上方;所述爐底上穿置坩堝托桿,坩堝托桿的上端設(shè)置在保溫桶內(nèi),坩堝托桿的上端設(shè)置三瓣堝底座,三瓣堝底座的上方設(shè)置三瓣堝,三瓣堝內(nèi)設(shè)置石英坩堝,石英坩堝的上方設(shè)置外導(dǎo)流筒,外導(dǎo)流筒的上端擱置在下保溫層的內(nèi)周,外導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)置內(nèi)導(dǎo)流筒,內(nèi)導(dǎo)流筒的上端擱置在外導(dǎo)流筒的上端;所述保溫桶與三瓣堝之間設(shè)置加熱器,加熱器的下端連接兩個(gè)石墨電極,兩個(gè)石墨電極的下端分別設(shè)置在所述爐底的下方,所述下保溫桶上連接排氣管。本發(fā)明通過(guò)以上設(shè)計(jì),將多晶硅放入石英坩堝內(nèi),通過(guò)加熱器對(duì)石英坩堝內(nèi)的多晶硅進(jìn)行加熱溶化,將籽晶經(jīng)導(dǎo)流筒插入熔融多晶硅液中,使多晶硅液按籽晶的硅原子排列順序結(jié)晶凝固成單晶硅棒。由于加熱器的外周有下保溫桶、中保溫桶和上保溫桶,外導(dǎo)流筒和內(nèi)導(dǎo)流筒的上端有上保溫層和下保溫層,從而使得保溫效果好,且溫度均衡、結(jié)晶均勻、結(jié)構(gòu)合理。
圖1為本發(fā)明的一種結(jié)構(gòu)示意圖。圖中,1坩堝托桿,2石墨電極,3下爐室,4下保溫桶,5主爐室,6三瓣堝,7加熱器, 8中保溫桶,9上保溫桶,10爐蓋,11爐口,12上保溫層,13下保溫層,14內(nèi)導(dǎo)流筒,15外導(dǎo)流筒,16石英坩堝,17三瓣堝底座,18石墨螺釘,19排氣管,20爐底。
具體實(shí)施例方式如圖1所示,為單晶爐加熱系統(tǒng),包括爐底20、爐室和爐蓋10,爐室包括下爐室3 和主爐室5,下爐室3連接在爐底20的上方,主爐室5連接在下爐室3的上方,爐蓋10連接在主爐室5的上方,爐蓋10的上端設(shè)置爐口 11。爐室內(nèi)設(shè)置環(huán)形保溫桶、下保溫層13和上保溫層12,保溫桶包括下保溫桶4、中保溫桶8和上保溫桶9,中保溫桶8設(shè)置在下保溫桶 4的上方,上保溫桶9設(shè)置在中保溫桶8的上方,下保溫層13設(shè)置在上保溫桶9的上方,上保溫層12設(shè)置下保溫層13的上方。爐底20上穿置坩堝托桿1,坩堝托桿1的上端設(shè)置在下保溫桶4內(nèi),坩堝托桿1的上端設(shè)置三瓣堝底座17,三瓣堝底座17的上方設(shè)置三瓣堝6, 三瓣堝6內(nèi)設(shè)置石英坩堝16,石英坩堝16的上方設(shè)置外導(dǎo)流筒15,外導(dǎo)流筒15的上端擱置在下保溫層13的內(nèi)周,外導(dǎo)流筒15內(nèi)設(shè)置內(nèi)導(dǎo)流筒14,內(nèi)導(dǎo)流筒14的上端擱置在外導(dǎo)流筒15的上端。中保溫桶8與三瓣堝6之間設(shè)置加熱器7,加熱器7的下端通過(guò)石墨螺釘 18連接兩個(gè)石墨電極2,兩個(gè)石墨電極2的下端分別設(shè)置在爐底20的下方,下保溫桶4上連接排氣管19。
權(quán)利要求
1.單晶爐加熱系統(tǒng),其特征在于包括爐底、爐室和爐蓋,爐室包括下爐室和主爐室, 下爐室連接在爐底的上方,主爐室連接在下爐室的上方,爐蓋連接在主爐室的上方,爐蓋的上端設(shè)置爐口,所述爐室內(nèi)設(shè)置環(huán)形保溫桶、下保溫層和上保溫層,保溫桶包括下保溫桶、 中保溫桶和上保溫桶,中保溫桶設(shè)置在下保溫桶的上方,上保溫桶設(shè)置在中保溫桶的上方, 下保溫層設(shè)置在上保溫桶的上方,上保溫層設(shè)置下保溫層的上方;所述爐底上穿置坩堝托桿,坩堝托桿的上端設(shè)置在保溫桶內(nèi),坩堝托桿的上端設(shè)置三瓣堝底座,三瓣堝底座的上方設(shè)置三瓣堝,三瓣堝內(nèi)設(shè)置石英坩堝,石英坩堝的上方設(shè)置外導(dǎo)流筒,外導(dǎo)流筒的上端擱置在下保溫層的內(nèi)周,外導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)置內(nèi)導(dǎo)流筒,內(nèi)導(dǎo)流筒的上端擱置在外導(dǎo)流筒的上端;所述保溫桶與三瓣堝之間設(shè)置加熱器,加熱器的下端連接兩個(gè)石墨電極,兩個(gè)石墨電極的下端分別設(shè)置在所述爐底的下方,所述下保溫桶上連接排氣管。
全文摘要
單晶爐加熱系統(tǒng),涉及熔融單晶硅爐裝置的領(lǐng)域,包括爐底、爐室和爐蓋,爐室包括下爐室和主爐室,爐蓋的上端設(shè)置爐口,爐室內(nèi)設(shè)置環(huán)形保溫桶、下保溫層和上保溫層,保溫桶包括下保溫桶、中保溫桶和上保溫桶;爐底上穿置坩堝托桿,坩堝托桿的上端設(shè)置三瓣堝底座,三瓣堝底座的上方設(shè)置三瓣堝,三瓣堝內(nèi)設(shè)置石英坩堝,石英坩堝的上方設(shè)置外導(dǎo)流筒,外導(dǎo)流筒內(nèi)設(shè)置內(nèi)導(dǎo)流筒;保溫桶與三瓣堝之間設(shè)置加熱器,加熱器的下端連接兩個(gè)石墨電極,下保溫桶上連接排氣管。本發(fā)明加熱器的外周有下保溫桶、中保溫桶和上保溫桶,外導(dǎo)流筒和內(nèi)導(dǎo)流筒的上端有上保溫層和下保溫層,從而使得保溫效果好,且溫度均衡、結(jié)晶均勻。
文檔編號(hào)C30B11/00GK102212887SQ20111013025
公開日2011年10月12日 申請(qǐng)日期2011年5月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月19日
發(fā)明者倪寶達(dá) 申請(qǐng)人:儀征市榮昌炭素材料有限公司