專利名稱：硅片制絨槽均勻加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及單晶硅片槽式制絨設(shè)備，尤其涉及單晶硅片槽式制絨設(shè)備中的加熱裝置。
背景技術(shù)：
隨著太陽(yáng)能電池生產(chǎn)技術(shù)的不斷提升，對(duì)于太陽(yáng)能電池產(chǎn)品的質(zhì)量以及成本提出了新的要求。制絨工藝是太陽(yáng)能電池整個(gè)工藝生產(chǎn)線中最為重要的一環(huán)，其目的是為了去除切割后硅片的表面損傷層，同時(shí)通過(guò)化學(xué)腐蝕的方法在硅片表面進(jìn)行織構(gòu)化處理，形成良好的陷光效應(yīng)，降低硅片表面發(fā)射率。目前，通用的生產(chǎn)工藝是采用槽式制絨設(shè)備，在制絨槽中加入強(qiáng)堿KOH或者NaOH溶液，在70° 80°左右的溫度條件下，用KOH或者NaOH 溶液對(duì)硅片進(jìn)行各向異性腐蝕，在硅片表面腐蝕出類似于金字塔結(jié)構(gòu)的角錐體，從而增加入射光的反射次數(shù)，降低表面反射率，提高吸光效率。在制絨過(guò)程中，制絨槽內(nèi)腐蝕液的濃度均勻性和溫度場(chǎng)的均勻性對(duì)大批量工業(yè)化制絨生產(chǎn)質(zhì)量的穩(wěn)定性影響很大，所以，在實(shí)際生產(chǎn)過(guò)程中，制絨槽內(nèi)的溫度場(chǎng)的穩(wěn)定性是非常重要的一個(gè)影響因子。目前，通常采用在制絨槽的底部間隔地布設(shè)2 3根不銹鋼管式加熱器或特氟龍管式加熱器，對(duì)制絨槽內(nèi)腐蝕液進(jìn)行加熱升溫，這種局部加熱方式只能對(duì)與加熱管接觸的液體進(jìn)行快速加熱，其它部位的液體通過(guò)對(duì)流的方式進(jìn)行熱傳遞，從而緩慢地提高制絨槽內(nèi)液體的溫度。這種局部加熱升溫方式，很難使制絨槽內(nèi)腐蝕液滿足制絨均勻的溫度場(chǎng)要求，要使整個(gè)制絨槽內(nèi)的腐蝕液溫度場(chǎng)滿足制絨的溫度均勻性要求，必須等足夠的時(shí)間，通過(guò)對(duì)流方式來(lái)升溫并達(dá)到溫度場(chǎng)的均化要求，不僅降低了制絨設(shè)備的產(chǎn)能，而且也會(huì)造成制絨質(zhì)量的不穩(wěn)定，不能滿足規(guī)?；平q工藝的生產(chǎn)要求。另一方面，裝載硅片的石墨舟都撂置在加熱管上，既不利于熱量的擴(kuò)散，也容易對(duì)加熱管造成磨損或壓壞，從而影響整個(gè)制絨設(shè)備的正常使用。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有硅片制絨設(shè)備中加熱裝置存在的上述不足，本發(fā)明提供了一種硅片制絨槽均勻加熱裝置。它既能對(duì)制絨槽內(nèi)的液體進(jìn)行均勻加熱，提高溫度場(chǎng)穩(wěn)定性，石墨舟與加熱管不接觸，能保護(hù)加熱管，它能滿足制絨工藝對(duì)腐蝕液溫度場(chǎng)的均勻性要求。本發(fā)明采取的技術(shù)方案是一種硅片制絨槽均勻加熱裝置，其特征是包括制絨槽和電加熱管和不銹鋼板罩， 不銹鋼板罩的大小與制絨槽的底部相當(dāng)，電加熱管設(shè)置在制絨槽的底部，不銹鋼板罩設(shè)置在電加熱管的上方，在不銹鋼板罩上設(shè)有透液孔。由于在制絨槽的底部設(shè)置了電加熱管，在電加熱管的上方架設(shè)了不銹鋼板罩，在不銹鋼板罩上開(kāi)設(shè)了透液孔，電加熱管所釋放熱量先加熱與其接觸的液體，然后使不銹鋼板罩內(nèi)的液體同步升溫，由不銹鋼板罩所籠罩的空間形成了一個(gè)等溫加熱源，不銹鋼板罩均勻地對(duì)位于其上方的液體進(jìn)行加熱。這樣，制絨槽內(nèi)的液體從下到上實(shí)現(xiàn)等梯度的溫度場(chǎng)，經(jīng)過(guò)底部的高溫液體再與上面的低溫區(qū)液體的等速熱對(duì)流，使制絨槽內(nèi)液體均勻地升溫，電加熱管對(duì)制絨槽內(nèi)液體的加熱方式由原來(lái)的局部加熱改為整面式同步加熱。不僅加速了整個(gè)制絨槽內(nèi)液體溫度上升的速度，而且提高了制絨槽內(nèi)液體溫度場(chǎng)均勻性，克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，在制絨過(guò)程中不需要對(duì)腐蝕液進(jìn)行攪拌，也不需要經(jīng)過(guò)長(zhǎng)時(shí)間等待才能形成均勻穩(wěn)定的溫度場(chǎng)，為制絨提供一個(gè)更均勻更穩(wěn)定的溫度環(huán)境，從而提高制絨質(zhì)量。


圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為電加熱線圈的分布示意圖；圖中1-制絨槽；2-電加熱管；3-不銹鋼板罩；4-透液孔。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合

本發(fā)明的
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1 一種硅片制絨槽均勻加熱裝置，它由制絨槽1、電加熱管2和不銹鋼板罩 3組成，不銹鋼板罩3的大小與制絨槽1的底部相當(dāng)，電加熱管2設(shè)置在制絨槽1的底部，不銹鋼板罩3設(shè)置在電加熱管2的上方，在不銹鋼板罩3上設(shè)有透液孔4。
權(quán)利要求
1. 一種硅片制絨槽均勻加熱裝置，其特征是包括制絨槽(1)、電加熱管( 和不銹鋼板罩(3)，不銹鋼板罩(3)的大小與制絨槽的(1)底部相當(dāng)，電加熱管(2)設(shè)置在制絨槽(1) 的底部，不銹鋼板罩(3)設(shè)置在電加熱管2的上方，在不銹鋼板罩(3)上設(shè)有透液孔(4)。
全文摘要
一種硅片制絨槽均勻加熱裝置，包括制絨槽、電加熱管和不銹鋼板罩，不銹鋼板罩的大小與制絨槽的底部相當(dāng)，電加熱管設(shè)置在制絨槽的底部，不銹鋼板罩設(shè)置在電加熱管的上方，在不銹鋼板罩上設(shè)有透液孔。電加熱管加熱與其接觸的液體，使不銹鋼板罩內(nèi)的液體同步升溫，使不銹鋼板罩所籠罩的空間形成了一個(gè)等溫加熱源，在加熱過(guò)程中，液體從下到上實(shí)現(xiàn)等梯度的溫度場(chǎng)，經(jīng)過(guò)底層高溫液體與頂層低溫液體的等速熱對(duì)流，使制絨槽內(nèi)液體均勻地升溫，由原來(lái)的局部加熱改為整面式同步加熱。不僅加速了整個(gè)制絨槽內(nèi)液體溫度上升的速度，而且提高了制絨槽內(nèi)液體溫度場(chǎng)均勻性，為制絨提供一個(gè)更均勻更穩(wěn)定的溫度環(huán)境，從而提高制絨質(zhì)量。
文檔編號(hào)H05B3/78GK102157619SQ201110046638
公開(kāi)日2011年8月17日 申請(qǐng)日期2011年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月22日
發(fā)明者吳旻 申請(qǐng)人:常州億晶光電科技有限公司