專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光機(jī)的曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明有關(guān)一種曝光機(jī)的曝光方法，旨在提供一種可對(duì)曝光平臺(tái)的特定區(qū)域進(jìn)行 曝光作業(yè)，相對(duì)較不會(huì)產(chǎn)生聚熱現(xiàn)象，以及可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機(jī)，以及與其相 關(guān)的曝光方法。
背景技術(shù)：
按，一般印刷電路板或半導(dǎo)體晶片在進(jìn)行曝光顯影制程時(shí)，先在被加工物表面上 涂上一層光阻，再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖案映像至被加工物表面的光阻層 上，以使光阻層的化學(xué)性質(zhì)因光源的照射而產(chǎn)生變化，然后再利用去光阻劑將被光源照射 過(guò)的光阻或未經(jīng)曝光的光阻自被加工物表面去除，以形成對(duì)應(yīng)于原稿的線路布局。其中，用以執(zhí)行曝光顯影加工制程的曝光機(jī)基本結(jié)構(gòu)如圖1所示，主要具有一由 機(jī)殼11構(gòu)成的曝光室12，以及設(shè)有一可相對(duì)進(jìn)出曝光室12的曝光平臺(tái)13，而且至少在該 曝光室12內(nèi)部相對(duì)應(yīng)于曝光平臺(tái)13的上方或下方位置，設(shè)有一光源組14 ；請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D 2所示，該曝光平臺(tái)13為一供放置被加工物20與原稿(圖略)的透明平臺(tái)，整體曝光平臺(tái) 13并藉由一組線性滑軌15進(jìn)出曝光室12。該曝光平臺(tái)13連同被加工物及原稿進(jìn)入曝光室12至定位之后，一般必須在曝光 室12內(nèi)部停留一段時(shí)間(約3 5秒不等)使被加工物接受光源組14的曝光光源照射， 待完成曝光之后再由曝光平臺(tái)13將被加工物送出。由于，一般習(xí)用曝光機(jī)多采用曝光平臺(tái)13停滯在曝光室12內(nèi)部的方式進(jìn)行曝光 作業(yè)，因此多在其光源組14設(shè)有大量采用數(shù)組配置方式的燈泡141，藉以形成涵蓋整個(gè)曝 光平臺(tái)13的平行光源；在大量燈泡141同時(shí)運(yùn)作下，將使機(jī)殼11內(nèi)部產(chǎn)生嚴(yán)重的聚熱現(xiàn) 象，需另外用水冷統(tǒng)散熱，致使設(shè)備成本偏高。另有一種習(xí)用曝光機(jī)透過(guò)復(fù)眼裝置將燈泡的光線修正為所需的平行光及面積大 小，其動(dòng)作方式乃讓光源燈泡透過(guò)橢圓鏡將光線利用一組第一反射鏡投向復(fù)眼裝置使其光 線均勻化，再利用一組第二反射鏡將光線改變前進(jìn)方向，最后利用一組凸透鏡將光線修正 為所需的平行光及面積大小，進(jìn)而投射出所須的曝光光源，并藉以減少燈泡的數(shù)量。如此的設(shè)計(jì)不但使整體曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)趨于復(fù)雜，且整體曝光機(jī)的體機(jī)亦相對(duì)更趨 龐大；再者，其同樣采用涵蓋整個(gè)曝光平臺(tái)的曝光光源對(duì)被加工物進(jìn)行曝光顯影；然而，在 實(shí)際的曝光顯影制程中，并非所有被加工物的曝光區(qū)域皆與曝光平臺(tái)相當(dāng)，亦即整個(gè)曝光 平臺(tái)的某些區(qū)域并不需要被曝光光源照射，因此過(guò)度浪費(fèi)許多不必要的加工成本。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的主要目的即在提供一種可對(duì)曝光平臺(tái)的特定區(qū)域進(jìn)行曝光作 業(yè)，相對(duì)較不會(huì)產(chǎn)生聚熱現(xiàn)象，以及可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機(jī)，以及與其相關(guān)的曝 光方法。為達(dá)上揭目的，本發(fā)明的曝光機(jī)具有一曝光平臺(tái)供承載被加工物及原稿，另于曝光平臺(tái)上方處設(shè)有至少一光源組用以產(chǎn)生朝向曝光平臺(tái)照射曝光光源，該光源組并可依照 預(yù)設(shè)的路徑位移。于實(shí)施時(shí)，曝光平臺(tái)的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)側(cè)分別設(shè)有一第一線性滑軌，另有至少一第二 線性滑軌跨設(shè)于兩個(gè)第一線性滑軌之間，該光源組即配設(shè)于該至少一第二線性滑軌上；以 及，設(shè)有一第一驅(qū)動(dòng)組件用以帶動(dòng)第二線性滑軌沿著第一線性滑軌位移，設(shè)有第二驅(qū)動(dòng)組 件用以帶動(dòng)光源組沿著所屬第二線性滑軌位移。透過(guò)光源組沿著所屬第二滑軌位移，以及 第二線性滑軌沿著第一線性滑軌位移的方式，讓曝光光源到達(dá)曝光平臺(tái)的預(yù)定區(qū)域，而對(duì) 曝光平臺(tái)上的被加工物進(jìn)行曝光顯影。具體而言，本發(fā)明具有下列功效1.用以產(chǎn)生曝光效果的光源可以為單點(diǎn)光源，而非涵蓋整個(gè)曝光平臺(tái)的大面積 光源，故可大幅減少光源組的燈泡數(shù)量，相對(duì)縮減整體曝光機(jī)的體積，以及相對(duì)降低設(shè)備成 本。2.所使用的控制電路可在曝光光源到達(dá)預(yù)定行程時(shí)，再行調(diào)升光源組的功率，故 可相對(duì)降低整體曝光機(jī)的聚熱現(xiàn)象。3.整體曝光機(jī)，可配合被加工物的規(guī)格變動(dòng)，而適時(shí)調(diào)整光源組的行程設(shè)定，可大 幅提升曝光機(jī)的適用性及實(shí)用性。4.光源組僅通過(guò)曝光平臺(tái)需要被曝光光源照射的區(qū)域，因此不會(huì)浪費(fèi)不必要的加 工成本。


圖1為一習(xí)用曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)剖視圖2為一習(xí)用曝光機(jī)的曝光平臺(tái)外觀立體圖3為本發(fā)明第--實(shí)施例的曝光機(jī)外觀立體圖
圖4為本發(fā)明第--實(shí)施例的曝光機(jī)側(cè)面結(jié)構(gòu)圖
圖5為本發(fā)明第--實(shí)施例的曝光機(jī)動(dòng)作示意圖
圖6為本發(fā)明第二二實(shí)施例的曝光機(jī)動(dòng)作示意圖
圖7為本發(fā)明第二二實(shí)施例的曝光機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖
圖8為本發(fā)明光源組的結(jié)構(gòu)示意圖9為本發(fā)明第三三實(shí)施例的曝光機(jī)外觀立體圖
圖10為本發(fā)明第四實(shí)施例的曝光機(jī)外觀立體圖
圖11為本發(fā)明第四實(shí)施例的曝光機(jī)動(dòng)作示意圖
圖號(hào)說(shuō)明
11機(jī)殼12曝光室
13曝光平臺(tái)14光源組
141燈泡15線性滑軌
20被加工物30曝光平臺(tái)
31支撐部32透空部
41第一線性滑軌42第二線性滑軌
43第三線性滑軌50光源組
51燈泡61第一驅(qū)動(dòng)組件62第二驅(qū)動(dòng)組件 70斷電開(kāi)關(guān)
具體實(shí)施例方式本發(fā)明旨在提供一種可對(duì)曝光平臺(tái)的特定區(qū)域進(jìn)行曝光作業(yè)，相對(duì)較不會(huì)產(chǎn)生聚 熱現(xiàn)象，以及可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機(jī)，以及與其相關(guān)的曝光方法；其曝光方法首 先在一供承載被加工物及原稿的曝光平臺(tái)上方處，設(shè)有至少一光源組用以產(chǎn)生朝向該曝光 平臺(tái)照射曝光光源，再以該光源組依照預(yù)設(shè)路徑位移的方式，讓曝光光源到達(dá)該曝光平臺(tái) 的預(yù)定區(qū)域，而對(duì)該曝光平臺(tái)上的被加工物進(jìn)行曝光顯影。如圖3及圖4所示，本發(fā)明的曝光機(jī)包括有一曝光平臺(tái)30、兩個(gè)第一線性滑軌 41、至少一第二線性滑軌42、至少一光源組50、至少一第一驅(qū)動(dòng)組件61、至少一第二驅(qū)動(dòng)組 件62，以及一控制電路(圖略)；其中該曝光平臺(tái)30，供承載被加工物及原稿；該兩個(gè)第一線性滑軌41呈平行狀態(tài)分別 配設(shè)在該曝光平臺(tái)30的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)側(cè)；該至少一第二線性滑軌42橫跨于該兩個(gè)第一線性 滑軌41之間；該至少一光源組50設(shè)于該至少一第二線性滑軌42上，各光源組50具有單一 光源51 (可以為燈泡或發(fā)光二極管)用以產(chǎn)生朝向該曝光平臺(tái)30照射的曝光光源，該光源 組50亦可以具有至少一光源51，如圖8所示，由復(fù)數(shù)光源51來(lái)形成照射效果。該至少一第一驅(qū)動(dòng)組件61用以帶動(dòng)該第二線性滑軌42沿著該第一線性滑軌41 位移；該至少一第二驅(qū)動(dòng)組件62則用以帶動(dòng)各光源組50沿著所屬的第二線性滑軌42位 移，如圖5所示，整體曝光機(jī)即可透過(guò)所使用的控制電路設(shè)定該至少一第二線性滑軌42與 該至少一光源組50的移動(dòng)行程與移動(dòng)速度。至于，該控制電路供透過(guò)所使用的控制電路設(shè)定該至少一第二線性滑軌42與該 至少一光源組50的移動(dòng)行程與移動(dòng)速度，以及可供設(shè)定該光源組50的功率，使得以在曝光 光源到達(dá)預(yù)定行程時(shí)，再行調(diào)升光源組的功率；若整體曝光機(jī)設(shè)有復(fù)數(shù)光源組50時(shí)，如圖7 所示，該控制電路亦可控制各第二線性滑軌42上各光源組50間的間距a，以及各光源組50 上光源51的角度，以使整體曝光機(jī)不局限于特定尺寸的工作平臺(tái)。本發(fā)明的曝光機(jī)于使用時(shí)，將被加工物20及原稿固定在該曝光平臺(tái)30上(或是 藉由其它輸送裝置將被加工物及原稿運(yùn)送到達(dá)該曝光平臺(tái)的定點(diǎn)處)，再透過(guò)光源組50沿 著所屬第二滑軌42位移，以及第二線性滑軌42沿著第一線性滑軌位移41的方式，讓光源 組50所產(chǎn)生的曝光光源確時(shí)到達(dá)曝光平臺(tái)30的預(yù)定區(qū)域，進(jìn)而對(duì)該曝光平臺(tái)30上的被加 工物20進(jìn)行曝光顯影。如圖6所示本發(fā)明在具體實(shí)施時(shí)，可在該兩個(gè)第一線性滑軌41的間設(shè)有復(fù)數(shù)組第 二線性滑軌42及光源組50，以及設(shè)有復(fù)數(shù)組用以個(gè)別帶動(dòng)各第二線性滑軌42及各光源組 50位移的第一、第二驅(qū)動(dòng)組件61、62，在復(fù)數(shù)組第二線性滑軌42及光源組50的分工作業(yè) 下，可縮短被加工物20進(jìn)行曝光顯影的時(shí)間，或是同時(shí)對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)被加工物進(jìn)行曝光顯影。再者，整體曝光機(jī)至少在其中一個(gè)第一線性滑軌41兩端，以及在各第二線性滑軌 42兩端設(shè)有斷電開(kāi)關(guān)70，用以限制各第二線性滑軌42以及各光源組50超出安全范圍，避 免相關(guān)構(gòu)件因?yàn)樵馐艿诙€性滑軌42或光源組50撞擊而毀損。如圖9所示為本發(fā)明的另一實(shí)施例，其同樣設(shè)有一曝光平臺(tái)30、兩個(gè)第一線性滑
5軌41、至少一第二線性滑軌42、至少一光源組50、至少一第一驅(qū)動(dòng)組件61，以及至少一第二 驅(qū)動(dòng)組件62，而該第二線性滑軌42上裝設(shè)有一第三線性滑軌43，而該至少一光源組50則 設(shè)置于該第三線性滑軌43上，使該至少一光源組50可由該第一線性滑軌41進(jìn)行第一方向 (X方向)的動(dòng)作，由第二線性滑軌42進(jìn)行第二方向(Y方向)的動(dòng)作，而由第三線性滑軌 43進(jìn)行第三方向(Z方向)的動(dòng)作，且其中該曝光平臺(tái)30可如圖所示為單一平面的形式，亦 可以如圖10所示，該曝光平臺(tái)30設(shè)有復(fù)數(shù)支撐部31以及透空部32，該支撐部31設(shè)于靠近 第一線性滑軌41用以設(shè)置被加工物20，而該透光部32則設(shè)于二第一線性滑軌41間，各支 撐部31及透空部32上下排列，使上下的各支撐部31得以分別設(shè)置多個(gè)被加工物20，且當(dāng) 其中一被加工物20完成加工輸出時(shí)，如圖11所示的實(shí)施例中，該上方的被加工物20輸出 后，該光源組50則藉由第三線性滑軌43往下移動(dòng)至下層被加工物20處進(jìn)行加工，以大幅 增加工作效率。具體而言，本發(fā)明用以產(chǎn)生曝光效果的光源可以為單點(diǎn)光源，而非涵蓋整個(gè)曝光 平臺(tái)的大面積光源，故可大幅減少光源組的燈泡數(shù)量，相對(duì)縮減整體曝光機(jī)的體積，以及相 對(duì)降低設(shè)備成本；而且所使用的控制電路可在曝光光源到達(dá)預(yù)定行程時(shí)，再行調(diào)升光源組 的功率，故可相對(duì)降低整體曝光機(jī)的聚熱現(xiàn)象。尤其，整體曝光機(jī)，可配合被加工物的規(guī)格變動(dòng)，而適時(shí)調(diào)整光源組的行程設(shè)定， 可大幅提升曝光機(jī)的適用性及實(shí)用性；加上光源組僅通過(guò)曝光平臺(tái)需要被曝光光源照射的 區(qū)域，因此不會(huì)浪費(fèi)不必要的加工成本。綜上所述，本發(fā)明提供一較佳可行的曝光機(jī)以及與其相關(guān)的曝光方法，爰依法提 呈發(fā)明專(zhuān)利的申請(qǐng)；本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點(diǎn)巳揭示如上，然而熟悉本項(xiàng)技術(shù)的人士 仍可能基于本發(fā)明的揭示而作各種不背離本案發(fā)明精神的替換及修飾。因此，本發(fā)明的保 護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例所揭示者，而應(yīng)包括各種不背離本發(fā)明的替換及修飾，并為以下的 申請(qǐng)專(zhuān)利范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
一種曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，在一供承載被加工物及原稿的曝光平臺(tái)上方處，設(shè)有至少一光源組用以產(chǎn)生朝向該曝光平臺(tái)照射曝光光源，再以該光源組依照預(yù)設(shè)路徑位移的方式，讓曝光光源到達(dá)該曝光平臺(tái)的預(yù)定區(qū)域，而對(duì)該曝光平臺(tái)上的被加工物進(jìn)行曝光顯影。
2.如權(quán)利要求1所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，在曝光光源到達(dá)預(yù)定行程時(shí)，再 行調(diào)升光源組的功率。
3.如權(quán)利要求1所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該光源組藉由兩個(gè)第一線性滑 軌以及至少一第二線性滑軌于預(yù)設(shè)路徑進(jìn)行位移。
4.如權(quán)利要求3所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，兩第一線性滑軌呈平行狀態(tài)分 別配設(shè)在該曝光平臺(tái)的兩個(gè)相對(duì)應(yīng)側(cè)，而該第二線性滑軌則橫跨于該兩個(gè)第一線性滑軌之 間，該光源組則設(shè)于該第二線性滑軌上。
5.如權(quán)利要求3或4所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該第二線性滑軌由至少一第 一驅(qū)動(dòng)組件帶動(dòng)，使該第二線性滑軌沿著該第一線性滑軌位移。
6.如權(quán)利要求3或4所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該各光源組由至少一第二驅(qū) 動(dòng)組件帶動(dòng)，使各光源組沿著所屬的第二線性滑軌位移。
7.如權(quán)利要求3或4所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，進(jìn)一步利用一控制電路，以 設(shè)定該至少一第二線性滑軌與該至少一光源組的移動(dòng)行程與移動(dòng)速度。
8.如權(quán)利要求3或4所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，至少在其中一個(gè)第一線性滑 軌兩端，以及在各第二線性滑軌兩端設(shè)有斷電開(kāi)關(guān)。
9.如權(quán)利要求3或4所述曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該第二線性滑軌上裝設(shè)有一 第三線性滑軌，而該至少一光源組則設(shè)置于該第三線性滑軌上。
10.如權(quán)利要求9所述的曝光機(jī)的曝光方法，其特征在于，該至少一光源組由該第一線 性滑軌進(jìn)行X方向的動(dòng)作，由第二線性滑軌進(jìn)行Y方向的動(dòng)作，而由第三線性滑軌進(jìn)行Z方 向的動(dòng)作。
全文摘要
本發(fā)明曝光機(jī)的曝光方法，曝光機(jī)具有一曝光平臺(tái)供承載被加工物及原稿，另于曝光平臺(tái)上方處設(shè)有至少一光源組用以產(chǎn)生朝向曝光平臺(tái)照射曝光光源，再以該光源組依照預(yù)設(shè)路徑位移的方式，讓曝光光源到達(dá)曝光平臺(tái)的預(yù)定區(qū)域，而對(duì)曝光平臺(tái)上的被加工物進(jìn)行曝光顯影；俾可大幅減少燈泡數(shù)量，相對(duì)縮減整體曝光機(jī)的體積，降低設(shè)備成本，以及降低曝光機(jī)的聚熱現(xiàn)象；尤其，光源組僅通過(guò)曝光平臺(tái)需要被曝光光源照射的區(qū)域，因此不會(huì)浪費(fèi)不必要的加工成本。
文檔編號(hào)H05K3/00GK101937173SQ20091014871
公開(kāi)日2011年1月5日 申請(qǐng)日期2009年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月30日
發(fā)明者徐福潤(rùn) 申請(qǐng)人:景興精密機(jī)械有限公司