專利名稱：：電磁波屏蔽材料及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及用于遮蔽CRT、PDP等電機(jī)器所產(chǎn)生的電；茲波的電磁波屏蔽材料及其制造方法。
背景技術(shù)：
：一直以來，制造了在基材上形成具有導(dǎo)電性、磁性的圖案，并利用其電性質(zhì)、磁性質(zhì)等的各種物品。其中，電磁波屏蔽板用于遮蔽從CRT、PDP等的顯示部的前面?zhèn)刃孤┑碾姶挪?，被廣泛用作安裝在顯示器前面的前面板。一皮用作前面板的電；茲波屏蔽板除了要求遮蔽電磁波的功能之外，還要求不降低顯示器的顯示畫面的透纟見'l"生。作為具有透視性和電磁波屏蔽性兩者的電磁波屏蔽材料，例如有具有導(dǎo)電部的電磁波屏蔽材料的報告例子，該導(dǎo)電部使用導(dǎo)電性粉末和粘合劑在透明樹脂基材表面通過絲網(wǎng)印刷形成(專利文獻(xiàn)1和2)。然而，通常利用絲網(wǎng)印刷，以格子狀圖案形成屏蔽層的情況下，容易產(chǎn)生由與印刷板的絲網(wǎng)的網(wǎng)眼發(fā)生的干涉導(dǎo)致的波紋、細(xì)線的斷線或線變粗等印刷不良，難以進(jìn)行精密的印刷。因此，容易產(chǎn)生電磁波屏蔽性能降低，或透視性降低的問題。專利文獻(xiàn)l:日本特開平ll-26984號/>氺艮專利文獻(xiàn)2:日本特開2001-196784號7>才艮
發(fā)明內(nèi)容發(fā)明所要解決的問題本發(fā)明的目的在于提供一種電磁波屏蔽材料，其電磁波屏蔽效果高，透明性和透視性優(yōu)異，以及提供簡單且廉價地制造該電石茲波屏蔽材:扦的方法。用于解決問題的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明人為了解決上述問題進(jìn)行了深入研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)將特定的導(dǎo)電性糊劑以幾何學(xué)圖案絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后以比較低的溫度進(jìn)行燒成，由此，可在該透明多孔層表面上形成幾乎沒有細(xì)線的斷線和線變粗的幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，可制造具有優(yōu)異的電磁波屏蔽性、高開口率(透視性)和透明性的電磁波屏蔽材料，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分?；谠撘娊?，進(jìn)一步反復(fù)進(jìn)行研究，從而完成了本發(fā)明。即，本發(fā)明提供以下電磁波屏蔽材料及其制造方法。(1)一種電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，將包含導(dǎo)電性顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后對該印刷后的透明性樹脂基材進(jìn)行加熱處理，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。(2)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述導(dǎo)電性顆粒是表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒。(3)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，制造所述導(dǎo)電性糊劑的方法具有如下工序分散工序，在表面活性劑的存在下使導(dǎo)電性粉末分散在分散用溶劑中；干燥工序，使所述分散液真空冷凍干燥；以及糊劑化工序，將所述干燥工序的產(chǎn)物與粘合劑和溶劑混合，制造粘合劑/導(dǎo)電性顆粒的質(zhì)量比為0.1以下的導(dǎo)電性糊劑。(4)根據(jù)前述(1)或(3)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材在與透明多孔層相反一面具有硬涂層。(5)根據(jù)前述(1)或(3)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述導(dǎo)電性糊劑包含100重量份表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒；1~IO重量份粘合劑，其以選自聚酯樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂以及它們的共聚樹脂所組成的組中的至少l種作為主要成分；以及120重量份溶劑，其以選自芳香族烴、酮類、二醇的醚類、二醇的醚酯類以及萜品醇所組成的組中的至少l種作為主要成分。(6)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層的厚度為0.05~20nm左右。(7)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層由選自硅石、二氧化鈦以及石凡土所組成的組中的至少l種作為主要成分的微粒的集合體形成，在該微粒之間具有細(xì)孔。(8)根據(jù)前述(7)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述微粒的平均粒徑為10~100nm左右，所述細(xì)孔徑為10~IOO證左右。(9)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層通過選自凹版涂布、膠版涂布、逗點涂布、口模式涂布、狹縫式涂布、噴涂、鍍覆法、溶膠-凝膠法、LB膜法、CVD、蒸鍍、濺射、離子電鍍所組成的組中的l種方法形成。(10)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述加熱處理的溫度為130~200°C左右。(11)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材的樹脂為選自聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸酯樹脂、硅酮樹脂、環(huán)狀聚烯烴樹脂、聚芳酯樹脂和聚醚砜樹脂所組成的組中的至少1種。(12)根據(jù)前述(1)所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材是片狀、膜狀或平板狀。(13)—種電磁波屏蔽材料，其通過前述(1)所述的制造方法而制造。(14)根據(jù)前述(13)所述的電磁波屏蔽材料，導(dǎo)電部的幾何學(xué)圖案的線寬為10~30(im左右，開口率為80~95%左右。(15)—種膜狀電磁波屏蔽材料，該電磁波屏蔽材料在透明性樹脂基材上具有幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，全光線透過率為72~91%,霧度值為0.5~6%,表面電阻值為5Q/口以下，導(dǎo)電部的幾何學(xué)圖案的線寬為10~30pm左右，開口率為80~95%左右。(16)—種等離子顯示器用電磁波屏蔽過濾器，其包含前述(13)~(15)任一項所述的電^茲波屏蔽材料。(17)—種形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部的方法，將包含導(dǎo)電性顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后加熱處理，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。(18)根據(jù)前述(17)所述的方法，所述導(dǎo)電性顆粒是表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒。發(fā)明效果本發(fā)明的電磁波屏蔽材料的制造方法中，其特征在于，將特定的導(dǎo)電性糊劑絲網(wǎng)印刷到設(shè)置在基材上的透明多孔層上，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分，由此，可形成幾乎沒有細(xì)線的斷線和線變粗的導(dǎo)電性圖案。另外，形成有圖案的該導(dǎo)電性糊劑由于可在低溫下進(jìn)行燒成，因而，可抑制透明性樹脂基材的白化和變黃，可保持透明性。特別是在具有硬涂層的透明性樹脂基材的情況下，該導(dǎo)電性糊劑燒成時，熱、水分對基材的影響被硬涂層所抑制，因而可保持更高的透明性。當(dāng)然，在本發(fā)明中由于使用絲網(wǎng)印刷，因而，工序數(shù)少且簡單，在成本方面也有利，電》茲波屏蔽材料的大量生產(chǎn)率和連續(xù)生產(chǎn)率也高。另外，由上述制造方法制造的本發(fā)明的電磁波屏蔽材料在導(dǎo)電性圖案中幾乎沒有細(xì)線的斷線，因而，電阻值低且發(fā)揮高的電^f茲波屏蔽效果，另外，也可抑制細(xì)線的線變粗，因而可確保高的開口率(透視性)和透明性。因此，作為用于陰極射線管(CRT)、等離子顯示器面板(PDP)等這樣的顯示畫面大的顯示器中的電磁波屏蔽過濾器特別有用。圖1是實施例1中得到的電磁波屏蔽材料中的導(dǎo)電部的格子線的光學(xué)顯微鏡(倍率xi00)照片。圖2是比較例1中得到的電磁波屏蔽材料中的導(dǎo)電部的格子線的光學(xué)顯微鏡(倍率xi00)照片。圖3是比較例2中得到的電磁波屏蔽材料中的導(dǎo)電部的格子線的光學(xué)顯微鏡(倍率xi00)照片。圖4是復(fù)式地表示開口率的測定方法的圖。圖5A是表示導(dǎo)電性圖案的細(xì)線的截面為大致半圓形狀的例子的截面圖。圖5B是表示導(dǎo)電性圖案的細(xì)線的截面為矩形的例子的截面圖。圖6是表示導(dǎo)電性糊劑的Log粘度和Log剪切速率的關(guān)系的圖表中的最小二乘直線的一個例子的圖。具體實施例方式下面，詳細(xì)名又述本發(fā)明。本發(fā)明的電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，將包含導(dǎo)電性顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，再對該印刷后的基材進(jìn)行加熱處理(燒成)，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。(透明性樹脂基材)作為本發(fā)明中所用的透明性樹脂基材的基材樹脂，只要是耐熱性高、透明、且在該基材上可形成該透明多孔層，就沒有特別限定。具體來說，可例示出聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚(甲基)丙烯酸酯樹脂；硅酮樹脂；環(huán)狀聚烯烴樹脂；聚芳酯樹脂；聚醚砜樹脂等。上述當(dāng)中，從透明性、成本、耐久性、耐熱性等觀點綜合判斷時，優(yōu)選采用聚酯樹脂(特另'J是PET或PEN)和環(huán)狀聚烯烴樹脂。這里，透明性樹脂基材中的透明性只要是可用于PDP、CRT等的顯示部的用途中的程度的透明性就沒有特別限定。通常，以JISK7105測定的全光線透過率為85~90%左右、以及以JISK7105測定的霧度值為0.1~3%左右。透明性樹脂基材的形態(tài)釆用可用于PDP、CRT等的顯示部的形態(tài)，即，膜狀、片狀、平板狀等。該形態(tài)可從上述基材樹脂由公知的方法制造。以環(huán)狀烯烴系樹脂為主要成分的膜，吸水率和透濕度小，另外，也兼具高光線透過率等各個物性，適合作為前述透明性樹脂基材。環(huán)狀烯烴系樹脂是通常的總稱，具體來說，可例示出(a)根據(jù)需要將環(huán)狀烯烴的開環(huán)(共)聚合物氫化而得到的聚合物、(b)環(huán)狀烯烴的加成(共)聚合物、(c)環(huán)狀烯烴與a-烯烴(乙烯、丙烯等)的無規(guī)共聚物、(d)用不飽和羧酸、其衍生物等改性前述(a)~(c)得到的接枝改性物等。作為環(huán)狀烯烴沒有特別限定，可例示出例如，降冰片烯、四環(huán)十二烯、它們的衍生物(例如，具有羧基、酯基的衍生物)。還可根據(jù)需要在環(huán)狀烯烴系樹脂中添加紫外線吸收劑、無機(jī)或有機(jī)的防粘連劑、潤滑劑、抗靜電劑、穩(wěn)定劑等各種公知的添力口劑。由環(huán)狀烯烴系樹脂得到膜的方法沒有特別限定，可例示出例如溶液流延法、^齊出法、壓延法等。作為用于溶液流延法的溶劑，可例示出環(huán)己烷、環(huán)己烯、環(huán)己酮等脂環(huán)式化合物(脂環(huán)式烴及其衍生物)、甲基異丁酮等脂肪族化合物(脂肪族烴及其衍生物)、曱苯、二甲苯、乙基苯等芳香族化合物(芳香族烴及其衍生物)。本發(fā)明的透明性樹脂基材具有透明多孔層，該透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。這里，作為氧化物陶瓷，可例示出二氧化鈦、礬土、氧化鎂、氧化鈹、氧化鋯、硅石等簡單氧化物；硅石、鎂橄欖石、塊滑石、硅酸鈣巖礦、鋯石、多鋁紅柱石、堇青石、鋰輝石等硅酸鹽；鈥酸鋁、尖晶石、磷灰石、鈦酸鋇、PZT、PLZT、鐵素體、鈮酸鋰等復(fù)氧化物。作為非氧化物陶乾，可例示出氮化硅、硅鋁氧氮、氮化鋁、氮化硼、氮化鈦等氮化物；碳化硅、碳化硼、碳化鈦、碳化鴒等碳化物；無定形碳、石墨、鉆石、單晶藍(lán)寶石等炭。另外，可例示出硼化物、碌"匕物、石圭化物。作為金屬，可例示出金、銀、鐵、銅、鎳等。將這些當(dāng)中至少l個用作原料即可，更優(yōu)選硅石、二氧化鈦、礬土，其他成分和配合并沒有特殊限制。在透明性樹脂基材上形成透明多孔層的方法可以是濕式工藝、干式工藝任一個，沒有特別限定，但從生產(chǎn)率和成本方面出發(fā)優(yōu)選濕式工藝。在濕式工藝中，通過公知的方法，在基材上涂布(coating)即可。作為涂布方法，可例示出凹版涂布、膠版涂布、逗點涂布、口模式涂布、狹縫式涂布、噴涂、鍍覆法、溶膠-凝膠法、LB膜法等，特別優(yōu)選溶膠-凝膠法。作為溶膠-凝膠法的起始原料，例如，硅石中可列舉出四乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、四氯硅烷；礬土中可列舉出三仲丁氧基鋁、2，4-戊二醇鋁(III)等。上述起始原料在催化劑、水的存在下進(jìn)行溶膠-凝膠反應(yīng)，但也可將已經(jīng)進(jìn)行溶膠-凝膠反應(yīng)后的這些的水解產(chǎn)物(反應(yīng)中間體)作為起始原料使用。另外，還可根據(jù)需要適當(dāng)添加樹脂、表面活性劑等其他成分。另外，作為干式工藝，可例示出CVD、蒸鍍、濺射、離子電鍍等。本發(fā)明所使用的透明性樹脂基材上所具有的透明多孔層的厚度為0.05~20pm左右、特別為O.l~5pm左右。另外，該透明多孔層由選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分的微粒的集合體(聚集體)形成，該微粒之間具有細(xì)孔。該透明多孔層中，該孩吏粒的平均粒徑為10~100nm左右，該細(xì)孔徑為10~100nm左右。本發(fā)明中，由于具有這樣的透明多孔層，因而與后述的導(dǎo)電性糊劑的匹配性優(yōu)異，可形成所期望的圖案。具有透明多孔層的透明性樹脂基材的形態(tài)為膜狀、片狀、平板狀等。在膜狀或片狀的情況下，具有透明多孔層的透明性樹脂基材的厚度通常為25~200)im左右，優(yōu)選為40~188pm左右即可。特別是作為PDP等的顯示器整面的電磁波屏蔽材料使用的情況下，優(yōu)選為50~125pm左右。另外，在板狀的情況下，其厚度通常為0.5~5mm左右，優(yōu)選為l3mm即可。具有透明多孔層的透明性樹脂基材的透明性通常是以JISK7105測定的全光線透過率為85~90%左右，以及以JISK7105測定的霧度值為O.l~3%左右。另外，本發(fā)明所使用的透明性樹脂基材可以在與上述透明多孔層相反一面設(shè)置硬涂層。作為硬涂層，只要是不損害透明性的材料就可以使用通常的材料，沒有特別限定。其中，優(yōu)選紫外線固化型丙烯酸酯樹脂和溶膠-凝膠反應(yīng)型陶瓷膜。作為前述紫外線固化型丙烯酸酯樹脂的主要成分，只要是聚酯丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯等具有2個官能團(tuán)以上的紫外線固化型的丙烯酸酯就沒有特別限定。優(yōu)選使用二丙烯酸1，6_己二醇酯、二丙烯酸三丙二醇酯、丙烯酸四乙二醇酯、二丙烯酸1，9-壬二醇酯、二丙烯酸三環(huán)癸烷二曱醇酯、新戊二醇p0改性二丙烯酸酯、E0改性雙酚A二丙烯酸酯這樣的二官能丙烯酸酯；三羥曱基丙烷三丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯、二(三羥曱基丙烷)四丙烯酸酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、三羥曱基丙烷EO改性三丙烯酸酯、PO改性縮水甘油三丙烯酸酯、三羥乙基異氰脲酸酯三丙烯酸酯這樣的多官能丙烯酸酯等。另外，在紫外線固化型丙烯酸酯樹脂中通常添加光聚合引發(fā)劑而使用。通過添加l-羥基環(huán)己基苯基酮(CibaSpecialtyChemicals公司制造的IRGACURE184)、2-羥基-2-曱基-1-苯基-丙烷-1-酮等作為光聚合引發(fā)劑，可得到充分的固化被膜。另外，也可以使用苯偶姻、苯偶姻衍生物、二苯甲酮、二苯曱酮衍生物、p塞噸酮、p塞噸酮衍生物、苯偶酰二甲基縮酮、a-氨基烷基苯酮、單?；趸ⅰ㈦p?；趸?、烷基苯基乙醛酸、二乙氧基苯乙酮、二茂鈦化合物等光聚合引發(fā)劑。相對于100重量份紫外線固化型丙烯酸酯樹脂，這些光聚合引發(fā)劑的配合比例優(yōu)選為l~IO重量份。這是由于在不足l重量份時不能充分引發(fā)聚合，另外，在超過10重量份時，根據(jù)情況耐久性降低。另外，在前述紫外線固化型丙烯酸酯樹脂中可以在不損害其透明性的程度下包含第三成分(UV吸收劑、填料等)，沒有特別限定。作為前述溶膠-凝膠反應(yīng)型陶瓷膜的起始原料，例如，硅石中可列舉出四乙氧基硅烷、曱基三乙氧基硅烷、四氯硅烷；礬土中可列舉出三仲丁氧基鋁、2,4-戊二醇鋁(III)等。上述起始原料在催化劑、水的存在下進(jìn)行溶膠-凝膠反應(yīng)，但也可將已經(jīng)進(jìn)行溶膠-凝膠反應(yīng)后的這些的水解產(chǎn)物(反應(yīng)中間體)作為起始原料使用。另外，還可根據(jù)需要適當(dāng)添加樹脂、表面活性劑等其他成分。在透明性樹脂基材上形成硬涂層的方法可以使用通常的涂布方法，沒有特別限定。通過在透明性樹脂基材上設(shè)置硬涂層，可抑制在后述燒成時從基材樹脂中析出低聚物導(dǎo)致的白化和變黃，由此，本發(fā)明的電磁波屏蔽材料可確保高的透明性。另外，也可防止電磁波屏蔽材料在制造工序中的損傷。(導(dǎo)電性糊劑)本發(fā)明所用的導(dǎo)電性糊劑包括導(dǎo)電性顆粒、粘合劑和溶劑。該導(dǎo)電性糊劑通過如下方法制造，所述方法具有如下工序分散工序，在表面活性劑的存在下使導(dǎo)電性粉末分散在分散用溶劑中；干燥工序，使所述分散液真空冷凍干燥；以及糊劑化工序，將所述千燥工序的產(chǎn)物與粘合劑和溶劑混合，制造粘合劑/導(dǎo)電性顆粒的質(zhì)量比為0.1以下的導(dǎo)電性糊劑。(導(dǎo)電性顆粒)導(dǎo)電性糊劑中所包含的導(dǎo)電性顆粒，可沒有特別限定地利用作為通常被用作導(dǎo)體的金屬粉末?？闪信e出例如，鎳、銅、金、銀、鋁、4各、柏、釔、鴒、鉬等、以及它們的2種以上的合金、或者這些金屬的化合物中具有良好的導(dǎo)電性的物質(zhì)等。作為導(dǎo)電性顆粒，銀顆粒、銀化合物顆粒、以及表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒(以下，也稱為"氧化銀覆蓋銀顆粒")由于容易實現(xiàn)穩(wěn)定的導(dǎo)電性，并且熱傳導(dǎo)特性也良好，故優(yōu)選。作為本發(fā)明所使用的銀顆粒，可使用純銀顆粒、表面被銀覆蓋的金屬顆粒、或者這些的混合物。這些銀顆粒的形狀沒有特別限定，可使用球狀、鱗片狀、針狀、樹枝狀等任意形狀。銀顆粒的制造方法也沒有特別限定，為機(jī)械粉碎法、還原法、電解法、氣相法等任意。表面被銀覆蓋的金屬顆粒是通過鍍覆等方法，在由銀以外的金屬形成的顆粒的表面形成銀的覆蓋層的顆粒。作為銀顆粒，從導(dǎo)電性和成本方面出發(fā)，優(yōu)選僅由銀形成的球狀銀顆粒和鱗片狀銀顆粒。4艮顆粒等導(dǎo)電性顆粒的體積平均粒徑優(yōu)選為0.05~lO[im,更優(yōu)選為0.05~5i!m左右。作為4艮顆粒，組合體積平均粒徑不同的大小2種或其以上的顆粒，以提高銀的填充密度，從而可提高導(dǎo)電性膜的導(dǎo)電性。作為本發(fā)明所使用的銀化合物顆粒，可使用氧化銀、脂肪族羧酸銀、脂環(huán)式羧酸銀、芳香族羧酸銀等含銀有機(jī)化合物等的粉末。這些銀化合物顆粒(顆粒狀銀化合物)除可使用工業(yè)生產(chǎn)的物質(zhì)以外，還可^吏用通過由包含4艮化合物的水溶液反應(yīng)而得到的物質(zhì)。特別是當(dāng)使用平均粒徑為0.5pm以下的銀化合物顆粒時，還原反應(yīng)的速度快，這是優(yōu)選的。為制造平均粒徑為0.5pm以下的銀化合物顆粒，可通過如下方法制造，即，在攪拌下向由銀化合物與其他化合物反應(yīng)而生成的物質(zhì)、例如硝酸4艮水溶液中，滴加氫氧化鈉等石咸性水溶液，4吏其反應(yīng)而得到氧化銀粉末。在本發(fā)明中，在使用銀顆?；蜚y化合物顆粒時，考慮到在制造聚合物型導(dǎo)電性糊劑時粘合劑樹脂的分解溫度，優(yōu)選使用對其進(jìn)行加熱而熔融粘結(jié)的燒成溫度可在300°C以下的銀顆?；蜚y化合物顆粒。使用了燒成溫度這樣低的銀顆?；蜚y化合物顆粒的導(dǎo)電性糊劑，可將形成于例如PET薄膜等透明性樹脂基材上的導(dǎo)體圖案直接燒成。通常，導(dǎo)電性顆粒越是在導(dǎo)電性糊劑中微細(xì)分散，導(dǎo)電性顆粒的熱容量越降低，越接近導(dǎo)電性顆粒固有的燒成溫度。另外，隨著導(dǎo)電性顆粒被微細(xì)分散，導(dǎo)電性顆粒容易取得最密填充的形態(tài)，并且，導(dǎo)電性顆粒越是高分散，燒結(jié)后的導(dǎo)電性越是良好。而且，由本發(fā)明的制造方法制造的導(dǎo)電性糊劑可減少粘合劑的混合量，導(dǎo)電性顆粒的覆蓋膜的膜厚薄，因而燒成后相鄰的顆粒之間容易融合。因此，作為本發(fā)明的導(dǎo)電性糊劑，使用可充分發(fā)揮其本來的低溫?zé)Y(jié)性，還可在燒結(jié)后得到導(dǎo)電性良好的導(dǎo)體圖案。作為這些燒成溫度低的銀顆粒，可使用體積平均粒徑為0.05~10(im的銀顆粒。進(jìn)一步優(yōu)選使用銀顆粒的體積平均粒徑為0.05~51im的4艮顆粒。在本發(fā)明中，在液相中制造《艮4分時，存在下，對這些活性高的銀粉有效地進(jìn)行表面處理。作為銀顆粒的制造方法，可列舉出例如，氣體中蒸發(fā)法(日本特開平3-34211號公報)、使用胺化合物進(jìn)行還原的還原析出法(日本特開平ll-319538號公報)。另外，作為燒結(jié)溫度低的銀顆粒，可使用結(jié)晶度低的銀顆粒。當(dāng)銀顆粒的結(jié)晶度低時，通常微晶直徑小，因此，通過減小微晶直徑，可顯著降低銀顆粒間的熔融粘結(jié)溫度。為了使導(dǎo)電性糊劑的可燒成溫度為300°C以下，優(yōu)選樣i晶直徑為20nm以下，更優(yōu)選為10nm以下。另外，作為燒結(jié)溫度低的導(dǎo)電性顆粒，可使用表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒(氧化銀覆蓋銀顆粒)。導(dǎo)電性糊劑所包含的氧化銀覆蓋4艮顆粒的體積平均粒徑為2jim以下，適合為200~500nm左右。使用體積平均粒徑為2(im以下的被氧化銀覆蓋的銀顆粒時，絲網(wǎng)版的網(wǎng)眼的透過變得容易，可抑制被印刷在透明多孔層上的細(xì)線的斷線和滲出，并且以更低的溫度就可引起氧化銀的還原，這是優(yōu)選的。氧化銀覆蓋銀顆粒具有銀顆粒的表面被穩(wěn)定的氧化銀被膜覆蓋的形狀。相對于該氧化銀覆蓋銀顆粒的總重量，氧化銀被膜的含量為1~50重量％左右，優(yōu)選為5~30重量％左右。該氧化銀被膜起到使活性高的銀微粒的表面穩(wěn)定的作用，適當(dāng)?shù)匾种坪齽顟B(tài)下的銀微粒間的聚集。另外，氧化銀被膜通過絲網(wǎng)印刷后的燒成，可被迅速還原形成導(dǎo)電性高的導(dǎo)電部。這樣的氧化銀覆蓋銀顆粒可使用例如使銀顆粒自身氧化的方法、將其他方法制備的氧化銀與銀顆粒混合的方法制造，沒有特別限定。通過銀顆粒表面的氧化處理，顆粒表面的銀被氧化成氧化銀(1)、氧化銀(II)等。在氧化銀覆蓋銀顆粒中，顆粒表面的氧化銀層可以是氧化銀(1)、氧化銀(II)等氧化銀混合的層。這樣的氧化銀覆蓋銀顆粒，表面的氧化銀通過還原反應(yīng)變成銀，相鄰的顆粒之間在低溫下熔融粘結(jié)。根據(jù)還原反應(yīng)條件加熱溫度、還原劑的有無、還原劑的還原能力等，適當(dāng)選擇組成、形狀不同的氧化銀覆蓋銀顆粒。(表面活性劑)作為本發(fā)明的制造方法中使用的表面活性劑，可從通常被使用的多種表面活性劑，例如陰離子性表面活性劑、非離子性表面活性劑、陽離子性表面活性劑、兩性表面活性劑中選擇使用。作為陰離子性表面活性劑，可列舉出例如，烷基硫酸鹽、聚氧乙烯烷基硫酸酯鹽、烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽、脂肪酸鹽、萘磺酸福爾馬林縮合物的鹽、聚羧酸型高分子表面活性劑、鏈烯基琥珀酸鹽、鏈烷磺酸鹽、聚氧化烯烷基醚的磷酸酯及其鹽、聚氧化烯烷基芳基醚的磷酸酯及其鹽等。作為非離子性表面活性劑，可列舉出例如，聚氧乙烯烷基醚、聚氧化烯烷基醚、聚氧乙烯衍生物、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨醇脂肪酸酯、甘油脂肪酸酯、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯氫化蓖麻油、聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯烷基胺、烷基鏈烷醇胺等。作為陽離子性表面活性劑，可列舉出烷基胺鹽、季銨鹽等。作為兩性表面活性劑，可列舉出烷基甜菜堿、烷基氧化胺等。這些表面活性劑當(dāng)中，作為在本發(fā)明中可以特別優(yōu)選使用的表面活性劑，可列舉出烷基胺系、烷基胺鹽系、以及磷酸酯系的表面活性劑。(烷基胺系和烷基胺鹽的表面活性劑)作為本發(fā)明中所使用的表面活性劑，可適宜使用烷基胺和烷基胺鹽。特別是，使用銀顆粒、銀化合物顆?；蜓趸y覆蓋銀顆粒作為導(dǎo)電性顆粒時，效果更好。烷基胺系的非離子性表面活性劑、以及烷基胺鹽系的陽離子性表面活性劑分別單獨使用也是有效的，特別是通過組合使用，分散性更良好且效果顯著。作為烷基胺系的表面活性劑，優(yōu)選聚氧化烯烷基胺型表面活性劑，進(jìn)一步優(yōu)選聚氧乙烯烷基胺型表面活性劑。其中，進(jìn)一步優(yōu)選具有下述化學(xué)結(jié)構(gòu)(1)的表面活性劑。/(GH2CH20)a-HR-N、(1)\(CH2CH20)b-H(a、b分別是l20的整數(shù)，R表示碳原子數(shù)8~20的烷基或烷芳基。)另一方面，作為烷基胺鹽系的表面活性劑，優(yōu)選烷基胺的醋酸鹽，其中進(jìn)一步優(yōu)選具有以下化學(xué)結(jié)構(gòu)(2)的表面活性劑。(R-NH3+)(CH3COCT)(2)(R表示碳原子數(shù)820的烷基或烷芳基。)在式(1)和式(2)中，作為碳原子數(shù)8~20的烷基可以是直鏈烷基也可以是支鏈烷基，可列舉出例如，辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、月桂基、十四烷基、肉豆寇基、十六烷基、鯨蠟基、十八烷基、硬脂基、二十烷基等。作為碳原子數(shù)820的烷芳基，可列舉出例如辛基苯基、壬基苯基、十二烷基苯基等烷基苯基。烷芳基的烷基部分可以是直鏈烷基也可是支鏈烷基。當(dāng)單獨或混合使用烷基胺系表面活性劑和烷基胺鹽系的陽離子性表面活性劑時，表面活性劑相對于導(dǎo)電性顆粒的總配合量需要根據(jù)導(dǎo)電性顆粒的種類進(jìn)行適當(dāng)調(diào)整。例如，表面活性劑相對于銀顆粒的配合量需要根據(jù)銀顆粒的種類進(jìn)行一些調(diào)整，相對于100質(zhì)量^f分4艮顆粒，優(yōu)選為0.01~3.00質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選為0.05~1.50質(zhì)量^f分。表面活性劑的總配合量不足0.01質(zhì)量份時，具有難以得到充分的分散性的傾向。另一方面，當(dāng)超過3.00質(zhì)量份時，銀顆粒的表面被表面活性劑厚厚地覆蓋，具有干燥后的銀顆粒之間難以接觸、導(dǎo)電性糊劑的導(dǎo)電性降低的傾向。組合使用烷基胺系的表面活性劑和烷基胺鹽系的陽離子性表面活性劑時，烷基胺系與烷基胺鹽系的混合比例優(yōu)選在l:20-1:5的范圍。(磷酸酯系的表面活性劑)作為本發(fā)明中所使用的表面活性劑，也可適宜使用磷酸酯系的表面活性劑。特別是，使用銀顆粒、銀化合顆粒、或者氧化銀覆蓋銀顆粒作為導(dǎo)電性顆粒時，效果更好。本發(fā)明中所使用的磷酸酯系表面活性劑是以磷酸單酯或磷酸二酯等為主要成分的表面活性劑。作為主要成分的磷酸酯系表面活性劑優(yōu)選是聚氧化烯烷基醚的磷酸酯，進(jìn)一步優(yōu)選具有以下通式(3)所示的化學(xué)結(jié)構(gòu)。,進(jìn)行格子狀圖案的絲網(wǎng)印刷。絲網(wǎng)版使用在以直徑18pm的不銹鋼絲織成的500目的不銹鋼絲網(wǎng)上設(shè)置線寬20nm、花紋間距250pm、開口率84.6%的格子狀乳劑圖案的絲網(wǎng)版(NakanumaArtScreenCo,Ltd.生產(chǎn))。印刷后，在180°C下連同薄膜一起燒成銀化合物糊劑30分鐘，形成格子狀描繪有正方形花紋的導(dǎo)電部，制造電磁波屏蔽材料。用光學(xué)顯微鏡(倍率xlOO)觀察所得到的電磁波屏蔽材料的導(dǎo)電部的格子線，結(jié)果幾乎沒有斷線和線的滲出(線變粗)(圖1)。(實施例2)作為透明性樹脂基材，使用厚度為125[im的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡織公司制造、商品名"A4300")，使分散有硅石顆粒的溶膠溶液(在有機(jī)珪氧烷系的溶月交溶液中添加粒徑10~100nm的硅石填料而得到)成膜于該薄膜的表面，并使固化后的膜厚為l.Opm，在12(TC下千燥1分鐘后，然后在60。C下使其老化3天，由此，制造具有硅石膜的透明多孔層(層厚1.0pm)的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜透明基板。將溶膠-凝膠反應(yīng)型硬涂劑(日本精化乂>司制造、商品名"NSC2451(主劑)"、"NSC-CO(固化劑)，，...相對于IOO份主劑，固化劑為1.83份)反向凹版涂布到具有該透明多孔層的透明基板的與透明多孔層相反一面上，使得固化后的膜厚為3nm,在12(TC下干燥2分鐘形成硬涂層。在該薄膜的多孔層膜表面，通過絲網(wǎng)印刷機(jī)(NEWLONGSEIMITSUKOGYOCo.,LTD)，使用上述制造例2的導(dǎo)電性糊劑(c-2)[含有表面進(jìn)行10%氧化4艮處理以及磷酸酯系表面活性劑處理的顆粒狀銀(平均粒徑400nm)、聚酯-尿烷系粘合劑和醋酸卡必醇酯系溶劑]，進(jìn)行格子狀圖案的絲網(wǎng)印刷。絲網(wǎng)版使用在以直徑23nm的不銹鋼絲織成的400目的不銹鋼絲網(wǎng)上設(shè)置線寬20pm、花紋間距300fim、開口率87.1%的才各子狀乳劑圖案的絲網(wǎng)版(NakanumaArtScreenCo,Ltd.生產(chǎn))。印刷后，在170°C下連同薄膜一起燒成銀化合物糊劑30分鐘，形成格子狀描繪有正方形花紋的導(dǎo)電部，制造電磁波屏蔽材料。(實施例3)作為透明性樹脂基材，使用厚度為100pm的環(huán)狀聚烯烴薄膜(PolyplasticsCo.,Ltd.制造、商品名"TOPAS6017")，使分散有硅石微粒的溶膠溶液(在有機(jī)硅氧烷系的溶膠溶液中添加粒徑10~100nm的硅石填料而得到)成膜于該薄膜的表面，并使固化后的膜厚為1.0pm,在120。C下干燥1分鐘后，在60。C下使其老化3天，由此，制造具有硅石膜的透明多孔層(層厚l.O(am)的環(huán)狀聚烯烴薄膜透明基板。將溶膠-凝膠反應(yīng)型硬涂劑(日本精化公司制造、商品名"NSC2451(主劑)"、"NSC-CO(固化劑)"...相對于IOO份主劑，固化劑1.83份)反式照相印刷涂布到具有該透明多孔層的透明基板的與透明多孔層相反一面上，并使固化后的膜厚為3pm，在12(TC下干燥2分鐘，形成硬涂層。在該薄膜的多孔層膜表面，通過絲網(wǎng)印刷機(jī)(NEWLONGSEIMITSUKOGYOCo.,LTD),使用上述導(dǎo)電性糊劑(c-1)[含有表面進(jìn)行10%氧化銀處理以及烷基胺系/烷基胺鹽系表面活性劑處理的顆粒狀《艮(平均粒徑400nm)、聚酯-尿烷系粘合劑和醋酸卡必醇酯系溶劑],進(jìn)行格子狀圖案的絲網(wǎng)印刷。絲網(wǎng)版使用在以直徑23pm的不銹鋼絲織成的400目的不銹鋼絲網(wǎng)上設(shè)置線寬20pm、花紋間距300(im、開口率87.1%的才各子狀乳劑圖案的絲網(wǎng)版(NakanumaArtScreenCo,Ltd.生產(chǎn))。印刷后，在17(TC下連同薄膜一起燒成銀化合物糊劑30分鐘，形成格子狀描繪有正方形花紋的導(dǎo)電部，制造電磁波屏蔽材料。(比較例l)作為透明性樹脂基材，使用未設(shè)有透明多孔層的厚度為175pm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡織公司制造、商品名"A4100")，用MeyerBar將紫外線固化型丙烯酸酯〃哽涂劑(大日本涂料公司制、商品名"UV夕y了"固體成分濃度50重量％)涂布到其易粘接面，并使固化后的膜厚為2pm,在8(TC下干燥2分鐘后，以照射量300mJ/cr^照射紫外線，形成硬涂層，除此之外，與實施例l同樣地制造電磁波屏蔽材料。另外，在該薄膜的不具有硬涂層的相反一面進(jìn)行絲網(wǎng)印刷。用光學(xué)顯微鏡(倍率xlOO)觀察所得到的電磁波屏蔽材料的導(dǎo)電部的格子線，結(jié)果產(chǎn)生許多低聚物和線的滲出(圖2)。(比較例2)代替實施例l所使用的導(dǎo)電性糊劑(c-1)[含有表面用10%氧化銀處理的顆粒狀銀、聚酯-尿烷系粘合劑和醋酸卡必醇酯系溶劑],使用現(xiàn)有的通常的銀糊劑[AsahiChemicalResearchLaboratoryCo.,Ltd.制造的SW-1100—1、成分比4艮顆粒(粒徑3~5pm)58.0~64.0%、炭4分末(一次顆粒0.1jim以下)0.8~1.2%、聚酯樹脂11.0~14.0%、添加劑0.05~0.15%、乙基卡必醇乙酸酯(剩余量)、粘度200~300ps(VISCOTESTERVT-04型)],除此之外，與實施例l同樣地制造電磁波屏蔽材料。用光學(xué)顯微鏡(倍率xlOO)觀察所得到的電磁波屏蔽材料的導(dǎo)電部的格子線，結(jié)果產(chǎn)生許多斷線和線的滲出(圖3)。(t匕l(fā)交侈'j3)作為透明性樹脂基材，使用未設(shè)置透明多孔層的厚度為125pm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(東洋紡織公司制造、商品名"A4100"),將紫外線固化型丙烯酸酯硬涂劑(大日本涂料公司制造、商品名"UV夕y7"的固體成分濃度為50重量％)用MeyerBar涂布到其表面，并使固化后的膜厚為2|am,在80。C下干燥2分鐘后，以照射量300mJ/cn^照射紫外線，形成硬涂層。在該薄膜的與涂層相反一面上，通過絲網(wǎng)印刷才幾(NEWLONGSEIMITSUKOGYOCo.，LTD),使用上述的導(dǎo)電性糊劑(c-l)[含有表面進(jìn)行10%氧化銀處理以及烷基胺系/烷基胺鹽系表面活性劑處理的顆粒狀銀(平均粒徑400nm)、聚酯-尿烷系粘合劑和醋酸卡必醇酯系溶劑],進(jìn)行格子狀圖案的絲網(wǎng)印刷。絲網(wǎng)版使用在以直徑23i!m的不銹鋼絲織成的400目的不銹鋼絲網(wǎng)上設(shè)置線寬20^m、花纟丈間距300nm、開口率87.1%的格子狀乳劑圖案的絲網(wǎng)版(NakanumaArtScreenCo,Ltd.生產(chǎn))。印刷后，在170。C下連同薄膜一起燒成銀化合物糊劑30分鐘，形成格子狀描繪有正方形花紋的導(dǎo)電部，制造電磁波屏蔽材料。(試驗例1)上述實施例1~3和比4交例1~3的電；茲波屏蔽材津牛的電》茲波屏蔽效果、全光線透過率、霧度值、薄層電阻、線寬、開口率、以及線厚度的評價結(jié)果按以下測定方法進(jìn)行測定。其結(jié)果示于表l。l.電f茲波屏蔽效果電磁波屏蔽效果通過關(guān)西電子工業(yè)振興中心法(通常稱為KEC法)的測定裝置進(jìn)行測定。2.全光線透過率全光線透過率根據(jù)JISK7105,通過濁度計NDH-20D型(日本電色工業(yè)抹式會社制造)進(jìn)行測定。3.霧度值霧度值根據(jù)JISK7105,通過濁度計NDH-20D型(日本電色工業(yè)株式會社制造)進(jìn)行測定。4.薄層電阻薄層電阻使用LorestaEP(DIAINSTRUMENTSCO.，LTD.制造)進(jìn)行測定。線寬使用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行測定。6.開口率開口率使用光學(xué)顯微鏡測定電磁波屏蔽材料的格子狀的1個圖案的線寬和線間隔，算出圖4所示的面積A和面積B，應(yīng)用下式算出。開口率(。/。)=(面積B/面積A)xi00(%)7.線厚度線厚度使用表面粗糙度計進(jìn)行測定。8.粘附度粘附度使用帶剝離試驗法進(jìn)行評價。具體來說，將市售的透明膠帶(NichibanCo.，Ltd.制、Cellotape(注冊商標(biāo))CT-18、LP-18)貼到電磁波屏蔽材料上后剝離時，網(wǎng)眼圖案殘留90%以上的情況評價為"〇，，、殘留50%以上不足90%的情況評俏為"A"、不足50%的情況評價為"x"。線寬表l<table>tableseeoriginaldocumentpage38</column></row><table>根據(jù)表1，可知本發(fā)明中所得到的電磁波屏蔽材料的電磁波屏蔽效果高、透明性和透視性優(yōu)異。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明的電磁波屏蔽材料除了屏蔽由CRT、PDP等電機(jī)器產(chǎn)生的電f茲波之外，可在各種領(lǐng)域中用于屏蔽電f茲波。權(quán)利要求1.一種電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，將包含導(dǎo)電性顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后對該印刷后的透明性樹脂基材進(jìn)行加熱處理，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述導(dǎo)電性顆粒是表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，制造所述導(dǎo)電性糊劑的方法具有如下工序分散工序，在表面活性劑的存在下使導(dǎo)電性粉末分散在分散用溶劑中；干燥工序，使所述分散液真空冷凍干燥；以及糊劑化工序，將所述干燥工序的產(chǎn)物與粘合劑和溶劑混合，制造粘合劑/導(dǎo)電性顆粒的質(zhì)量比為0.1以下的導(dǎo)電性糊劑。4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材在與透明多孔層相反一面具有硬涂層。5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述導(dǎo)電性糊劑包含100重量份表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒；110重量份粘合劑，其以選自聚酯樹脂、丙烯酸類樹脂、纖維素樹脂、聚氨酯樹脂以及它們的共聚樹脂所組成的組中的至少1種作為主要成分；以及120重量份溶劑，其以選自芳香族烴、酮類、二醇的醚類、二醇的醚酯類以及萜品醇所組成的組中的至少l種作為主要成分。6.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層的厚度為0.05~20(im左右。7.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層由選自硅石、二氧化鈦以及礬土所組成的組中的至少1種作為主要成分的微粒的集合體形成，在該微粒之間具有細(xì)孔。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述孩i粒的平均粒徑為10~100nm左右，所述細(xì)孔徑為10~100nm左右。9.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明多孔層通過選自凹版涂布、膠版涂布、逗點涂布、口模式涂布、狹縫式涂布、噴涂、鍍覆法、溶膠-凝膠法、LB膜法、CVD、蒸鍍、濺射、離子電鍍所組成的組中的l種方法形成。10.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述加熱處理的溫度為130~200。C左右。11.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材的樹脂為選自聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸酯樹脂、硅酮樹脂、環(huán)狀聚烯烴樹脂、聚芳酯樹脂和聚醚砜樹脂所組成的組中的至少l種。12.根據(jù)權(quán)利要求l所述的電磁波屏蔽材料的制造方法，所述透明性樹脂基材是片狀、膜狀或平板狀。13.—種電磁波屏蔽材料，其通過權(quán)利要求l所述的制造方法制造。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的電磁波屏蔽材料，導(dǎo)電部的幾何學(xué)圖案的線寬為10~30pm左右，開口率為80~95%左右。15.—種膜狀電磁波屏蔽材料，該電磁波屏蔽材料在透明性樹脂基材上具有幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，全光線透過率為72~91%，霧度值為0.5~6%,表面電阻值為5Q/口以下，導(dǎo)電部的幾何學(xué)圖案的線寬為10~30jam左右，開口率為80~95%左右。16.—種等離子顯示器用電磁波屏蔽過濾器，其包含權(quán)利要求13~15任一項所述的電^茲波屏蔽材泮牛。17.—種形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部的方法，將包含導(dǎo)電性顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后加熱處理，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，所述導(dǎo)電性顆粒是表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒。全文摘要本發(fā)明的電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，將包含表面被氧化銀覆蓋的銀顆粒、粘合劑以及溶劑的導(dǎo)電性糊劑成幾何學(xué)圖案地絲網(wǎng)印刷到具有透明多孔層的透明性樹脂基材的該透明多孔層表面，然后加熱處理，以在該透明多孔層表面形成幾何學(xué)圖案的導(dǎo)電部，其中，所述透明多孔層含有選自氧化物陶瓷、非氧化物陶瓷和金屬所組成的組中的至少一種作為主要成分。由該制造方法制造的電磁波屏蔽材料的電磁波屏蔽效果高且透明性和透視性優(yōu)異。文檔編號H05K9/00GK101185385SQ20068001896公開日2008年5月21日申請日期2006年5月26日優(yōu)先權(quán)日2005年6月3日發(fā)明者岡田淳,末永涉,谷村功太郎申請人:大日本油墨化學(xué)工業(yè)株式會社;郡是株式會社