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一種MEMS芯片振膜、MEMS麥克風(fēng)芯片及MEMS麥克風(fēng)的制作方法

文檔序號(hào):11764516閱讀:1469來源:國(guó)知局
一種MEMS芯片振膜、MEMS麥克風(fēng)芯片及MEMS麥克風(fēng)的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及電子器件技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種MEMS芯片振膜。還涉及一種包含該MEMS芯片振膜的MEMS麥克風(fēng)芯片和MEMS麥克風(fēng)。



背景技術(shù):

MEMS的英文全稱為Micro-Electro-Mechanical System,中文名稱為微機(jī)電系統(tǒng),是指尺寸在幾毫米甚至更小的高科技裝置,其內(nèi)部結(jié)構(gòu)一般在微米甚至納米量級(jí),是一個(gè)獨(dú)立的智能系統(tǒng)。MEMS技術(shù)因具有微型化、智能化、高度集成化和可批量生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn),已廣泛應(yīng)用于電子、醫(yī)學(xué)、工業(yè)、汽車和航空航天系統(tǒng)等領(lǐng)域。

MEMS麥克風(fēng)是基于MEMS技術(shù)制造的麥克風(fēng),而MEMS麥克風(fēng)芯片是MEMS麥克風(fēng)的關(guān)鍵部件,MEMS麥克風(fēng)芯片通常由基底、振膜、絕緣層和背極層根據(jù)特定設(shè)計(jì)需要疊加而成,現(xiàn)有的MEMS麥克風(fēng)芯片的振膜通常為單一厚度的全膜結(jié)構(gòu)。由于振膜具有一定的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,能夠滿足一定的性能要求,如機(jī)械沖擊、吹氣、跌落等。但是,現(xiàn)有的全膜結(jié)構(gòu)振膜在突然收到大氣壓沖擊時(shí),容易造成振膜破損。

綜上所述,如何解決現(xiàn)有振膜收到大氣壓沖擊容易破損的問題,成為了本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

有鑒于此,本實(shí)用新型的目的在于提供一種MEMS芯片振膜,以有效降低振膜受大氣壓沖擊而破損的幾率。

本實(shí)用新型的另一個(gè)目的在于提供一種包含該MEMS芯片振膜的MEMS麥克風(fēng)芯片和MEMS麥克風(fēng),提高其產(chǎn)品質(zhì)量。

為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型提供以下技術(shù)方案:

一種MEMS芯片振膜,包括振膜本體,所述振膜本體上開設(shè)有可啟閉的線形泄氣孔,所述線形泄氣孔在所述振膜本體受到大氣壓沖擊膨脹時(shí)打開。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,所述線形泄氣孔為直線型泄氣孔、開口相對(duì)的雙C型泄氣孔和/或W型泄氣孔。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,所述線形泄氣孔的數(shù)量為多個(gè),且所述線形泄氣孔呈矩陣布置于所述振膜本體上。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,所述線形泄氣孔為多個(gè)直線型泄氣孔,且全部所述直線型泄氣孔布置于所述振膜本體的中心點(diǎn)周圍且相對(duì)所述振膜本體的中心點(diǎn)呈中心矩陣布置。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,全部所述直線型泄氣孔沿徑向輻射布置。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,全部所述直線型泄氣孔平行于所述振膜本體的徑向,且所述直線型泄氣孔與所述振膜本體的徑向之間存在間距。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,所述線形泄氣孔為一個(gè)經(jīng)過所述振膜本體的中心的直線型泄氣孔。

優(yōu)選的,在上述的MEMS芯片振膜中,所述直線型泄氣孔的長(zhǎng)度相等。

本實(shí)用新型還提供了一種MEMS麥克風(fēng)芯片,包括振膜,所述振膜為上述任一項(xiàng)所述的MEMS芯片振膜。

本實(shí)用新型還提供了一種MEMS麥克風(fēng),包括麥克風(fēng)芯片,所述麥克風(fēng)芯片為上述的MEMS麥克風(fēng)芯片。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果是:

本實(shí)用新型中的MEMS芯片振膜的振膜本體上開設(shè)有可啟閉的線形泄氣孔,平時(shí)正常工作時(shí),線形泄氣孔閉合,線形泄氣孔在振膜本體下方受到大氣壓沖擊膨脹時(shí)打開,大氣壓通過線形泄氣孔泄壓,從而保護(hù)了振膜不受大氣壓的沖擊而破損。

本實(shí)用新型中的MEMS麥克風(fēng)芯片和MEMS麥克風(fēng)均采用了本申請(qǐng)中的MEMS芯片振膜,因此,提高了產(chǎn)品的質(zhì)量,使用可靠性得到提高。

附圖說明

為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種MEMS芯片振膜的線形泄氣孔的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的第二種線形泄氣孔的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的第三種線形泄氣孔的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種MEMS芯片振膜的直線型泄氣孔的布置結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的第二種MEMS芯片振膜的直線型泄氣孔的布置結(jié)構(gòu)示意圖;

圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的第三種MEMS芯片振膜的直線型泄氣孔的布置結(jié)構(gòu)示意圖;

圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的MEMS芯片振膜的工作原理示意圖。

其中,1為振膜本體、2為直線型泄氣孔、3為雙C型泄氣孔、4為W型泄氣孔、01為線形泄氣孔。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型的核心是提供了一種MEMS芯片振膜,有效降低了振膜受大氣壓沖擊而破損的幾率。

本實(shí)用新型還提供一種包含該MEMS芯片振膜的MEMS麥克風(fēng)芯片和MEMS麥克風(fēng),提高了其產(chǎn)品質(zhì)量。

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參考圖1-圖7所示,本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種MEMS芯片振膜,包括振膜本體1,振膜本體1上開設(shè)有線形泄氣孔01,線形泄氣孔01能夠開啟和閉合,在MEMS芯片振膜正常使用時(shí),線形泄氣孔01閉合,在振膜本體1受到下方的大氣壓沖擊時(shí),振膜本體1膨脹變形,從而使線形泄氣孔01打開,氣壓從線形泄氣孔01泄出。從而保護(hù)了振膜本體1在突然收到大氣壓沖擊時(shí)不受損壞。

線形泄氣孔01包括多種結(jié)構(gòu)形式,如圖1所示,本實(shí)施例提供了第一種線形泄氣孔01,為直線型泄氣孔2;如圖2所示,本實(shí)施例提供了第二種線形泄氣孔01,為開口相對(duì)的雙C型泄氣孔3;如圖3所示,本實(shí)施例提供了第三種線形泄氣孔01,為W型泄氣孔4。一個(gè)振膜本體1上可以只設(shè)置一種形式的線形泄氣孔01,或者是多種線形泄氣孔01的任意組合。當(dāng)然,線形泄聲孔還可以為其它形狀,如曲線型泄聲孔,只要能夠閉合和開啟,在受到大氣壓沖擊時(shí)打開即可。

為了提高泄氣速度,在本實(shí)施例中,線形泄氣孔01的數(shù)量為多個(gè),且呈矩陣排列于振膜本體1上。矩陣排列包括中心矩陣、矩形矩陣等多種形式,只要能夠便于加快泄氣即可。

具體地,對(duì)于直線型泄氣孔2,其布置形式有多種,當(dāng)直線型泄氣孔2有多個(gè)時(shí),優(yōu)選地,這些直線型泄氣孔2布置于振膜本體1的中心點(diǎn)周圍,且相對(duì)振膜本體1的中心點(diǎn)呈中心矩陣布置。從而使泄氣更加均勻、快速。當(dāng)然,直線型泄氣孔2還可以在振膜本體1的任意位置布置。

進(jìn)一步地,在直線型泄氣孔2呈中心矩陣布置的基礎(chǔ)上,如圖4所示,在本實(shí)施例中,全部直線型泄氣孔2沿振膜本體1的徑向輻射布置。對(duì)于圓形的振膜本體1,如此設(shè)置使振膜本體1受力更加均勻。

或者如圖5所示,在本實(shí)施例中,全部直線型泄氣孔2平行于振膜本體1的徑向,且直線型泄氣孔2與振膜本體1的徑向之間存在間距,效果和圖4中的相同。

更優(yōu)選地,直線型泄氣孔2的長(zhǎng)度相等,泄氣均勻。當(dāng)然,直線型泄氣孔2的長(zhǎng)度還可以不相同。

如圖6所示,本實(shí)施例提供了另一種直線型泄氣孔2的布置形式,直線型泄氣孔2為一個(gè)長(zhǎng)條形泄氣孔,且經(jīng)過振膜本體1的中心,這樣可以使直線型泄氣孔2的開啟和閉合效果更佳。

在以上實(shí)施例的基礎(chǔ)上,本實(shí)用新型本實(shí)施例還提供了一種MEMS麥克風(fēng)芯片,包括振膜,其中,振膜為以上全部實(shí)施例所描述的MEMS芯片振膜。由于MEMS芯片振膜能夠在受到大氣壓沖擊下進(jìn)行泄氣,保護(hù)振膜不受破損,因此,提高了MEMS麥克風(fēng)芯片的使用質(zhì)量和可靠性。

本實(shí)用新型實(shí)施例還提供了一種MEMS麥克風(fēng),包括麥克風(fēng)芯片,其中,麥克風(fēng)芯片為上述的MEMS麥克風(fēng)芯片,由于同樣采用了MEMS芯片振膜,因此,提高了MEMS麥克風(fēng)的質(zhì)量和可靠性。

本說明書中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述,每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說明的都是與其他實(shí)施例的不同之處,各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見即可。

對(duì)所公開的實(shí)施例的上述說明,使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的,本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下,在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此,本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例,而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。

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