本發(fā)明涉及材料工程技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種殼體、制造方法及移動(dòng)終端。

背景技術(shù)：

目前，手機(jī)使用的殼體上面通常會(huì)鍍上膜層來控制反射特定波長的光線以給使用者帶來視覺上不同顏色的感觀。然而，由于殼體上的膜層耐磨性有限，手機(jī)長時(shí)間使用后，膜層容易局部脫落，導(dǎo)致使用者感觀到的顏色不均勻。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明實(shí)施方式旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明實(shí)施方式提供一種殼體、制造方法及移動(dòng)終端。

本發(fā)明實(shí)施方式的殼體包括基體及形成在所述基體上的光學(xué)膜層，所述光學(xué)膜層燒結(jié)在所述基體上以調(diào)整所述基體的外觀表現(xiàn)色。

在某些實(shí)施方式中，所述光學(xué)膜層由高折射率膜層及低折射率膜層堆疊形成，或由所述光學(xué)膜層由高折射率膜層及低折射率膜層融合形成。

在某些實(shí)施方式中，所述基體包括陶瓷、玻璃、不銹鋼、鈦合金、鋯合金中的任意一種。

在某些實(shí)施方式中，所述殼體還包括顏色層，所述顏色層形成在所述基體上，所述顏色層位于所述基體與所述高折射率膜層/所述低折射率膜層之間。

在某些實(shí)施方式中，所述顏色層包括白色層、黑色層、金色層、玫瑰金層、藍(lán)色層中的任意一種。

在某些實(shí)施方式中，所述高折射率膜層的材料包括硫化鋅、二氧化鈦、氧化鋯、及氧化鉭中的任意一種。

在某些實(shí)施方式中，所述低折射率膜層的材料包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意一種。

在某些實(shí)施方式中，在遠(yuǎn)離所述基體的方向上，所述高折射率膜層與所述低折射率膜層依序設(shè)置在所述基體上。

在某些實(shí)施方式中，所述基體為陶瓷，所述高折射率膜層的材料為二氧化鋯，所述高折射率膜層的厚度為20nm～40nm，所述低折射率膜層的材料為二氧化硅，所述低折射率膜層的厚度為50nm～100nm。

在某些實(shí)施方式中，在遠(yuǎn)離所述基體的方向上，所述低折射率膜層與所述高折射率膜層依序設(shè)置在所述基體上。

在某些實(shí)施方式中，所述低折射率膜層為多層，所述高折射率膜層為多層，多層所述高折射率膜層與多層所述低折射率膜層交替堆疊形成在所述基體上。

在某些實(shí)施方式中，多層所述高折射率膜層的材料包括硫化鋅、二氧化鈦、氧化鋯、及氧化鉭中的任意兩種，多層所述低折射率膜層包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意兩種。

在某些實(shí)施方式中，多層所述高折射率膜層的材料相同，多層所述低折射率膜層的材料相同。

在某些實(shí)施方式中，所述高折射率膜層與所述低折射率膜層形成后采用200攝氏度～1000攝氏度的溫度進(jìn)行燒結(jié)以加強(qiáng)附著在所述基體上。

本發(fā)明實(shí)施方式的殼體，光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

本發(fā)明實(shí)施方式的殼體包括基體及形成在所述基體上的膜堆，所述膜堆形成后進(jìn)行燒結(jié)以加強(qiáng)附著在所述基體上，所述膜堆用于控制反射特定波長的光線以給使用者帶來視覺上不同顏色的感觀。

本發(fā)明實(shí)施方式的殼體，光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，用于制造上述任一實(shí)施方式所述的殼體，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟：

提供一個(gè)基體；

在所述基體上形成光學(xué)膜層；及

加熱所述光學(xué)膜層以及所述基體以使所述光學(xué)膜層結(jié)合至所述基體上。

在某些實(shí)施方式中，所述加熱所述光學(xué)膜層以及所述基體以使所述光學(xué)膜層結(jié)合至所述基體上的步驟包括：加熱所述光學(xué)膜層以及所述基體以使所述光學(xué)膜層燒結(jié)至所述基體上。

在某些實(shí)施方式中，所述在所述基體上形成光學(xué)膜層的步驟包括：

對(duì)所述基體進(jìn)行表面預(yù)處理；將二氧化鋯膜層形成在所述基體表面；

將二氧化硅膜層形成在所述二氧化鋯膜層表面。

在某些實(shí)施方式中，將二氧化鋯膜層形成在所述基體的表面，包括：將所述二氧化鋯膜層印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式形成在所屬基體的表面；和/或

將二氧化硅膜層形成在所述二氧化鋯膜層表面，包括：將所述二氧化鋯膜層印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式形成在所屬基體的表面。

在某些實(shí)施方式中，所述在所述基體上形成光學(xué)膜層的步驟包括：

對(duì)所述基體進(jìn)行表面預(yù)處理；

將二氧化硅膜層形成在所述基體表面；

將二氧化鋯膜層形成在所述二氧化硅膜層表面。

在某些實(shí)施方式中，將二氧化硅膜層形成在所述基體表面，包括：將所述二氧化鋯膜層印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式形成在所屬基體的表面；和/或

將二氧化鋯膜層形成在所述二氧化硅膜層表面，包括：將所述二氧化鋯膜層印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式形成在所屬基體的表面。

在某些實(shí)施方式中，在所述放置所述基體于真空爐內(nèi)之后，所述在所述基體上形成高折射率膜層與低折射率膜層的步驟還包括：

預(yù)熱所述真空爐。

在某些實(shí)施方式中，所述燒結(jié)所述高折射率膜層與所述低折射率膜層的步驟是采用200攝氏度～1000攝氏度的溫度來燒結(jié)實(shí)現(xiàn)的。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，用于制造上述任一實(shí)施方式所述的殼體，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟：

提供一個(gè)基體；

形成一種包含高折射率膜層與低折射率膜層的膜堆；

固定所述膜堆在所述基體的表面上；及

燒結(jié)所述高折射率膜層與所述低折射率膜層。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

一種制造方法，用于制造殼體，所述制造方法包括以下步驟：

提供一個(gè)陶瓷基體；

將二氧化鋯鍍至所述陶瓷表面形成二氧化鋯膜層；

將二氧化硅鍍至所述二氧化鋯膜層表面形成二氧化硅膜層；

燒結(jié)所述陶瓷基體、所述二氧化鋯膜層及所述二氧化硅膜層。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

一種移動(dòng)終端，包括上述任一實(shí)施方式所述的殼體。

本發(fā)明實(shí)施方式的移動(dòng)終端，殼體的光學(xué)膜層形成在基體上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體上，光學(xué)膜層不易從基體上脫落，避免因光學(xué)膜層脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

本發(fā)明實(shí)施方式的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

附圖說明

本發(fā)明實(shí)施方式的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施方式的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是本發(fā)明第一實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖2是本發(fā)明第二實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖3是本發(fā)明第三實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖4是本發(fā)明第四實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖5是本發(fā)明第五實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖6是本發(fā)明第六實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖7是本發(fā)明第七實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖8是本發(fā)明第七實(shí)施方式提供的殼體的截面示意圖。

圖9是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖10是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖11是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖12是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖13是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖14是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖15是本發(fā)明實(shí)施方式提供的制造方法的流程示意圖。

圖16是本發(fā)明實(shí)施方式提供的移動(dòng)終端的平面示意圖。

圖17是本發(fā)明實(shí)施方式提供的移動(dòng)終端的平面示意圖。

主要元件符號(hào)說明：

殼體10，膜堆11，基體12，光學(xué)膜層13，高折射率膜層14，低折射率膜層16，顏色層18。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施方式，所述實(shí)施方式的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施方式是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)所述特征。在本發(fā)明的描述中，“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上，除非另有明確具體的限定。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接或可以相互通信；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通或兩個(gè)元件的相互作用關(guān)系。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

下文的公開提供了許多不同的實(shí)施方式或例子用來實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的不同結(jié)構(gòu)。為了簡(jiǎn)化本發(fā)明的公開，下文中對(duì)特定例子的部件和設(shè)定進(jìn)行描述。當(dāng)然，它們僅僅為示例，并且目的不在于限制本發(fā)明。此外，本發(fā)明可以在不同例子中重復(fù)參考數(shù)字和/或參考字母，這種重復(fù)是為了簡(jiǎn)化和清楚的目的，其本身不指示所討論各種實(shí)施方式和/或設(shè)定之間的關(guān)系。此外，本發(fā)明提供了的各種特定的工藝和材料的例子，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以意識(shí)到其他工藝的應(yīng)用和/或其他材料的使用。

請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明第一實(shí)施方式的殼體10，包括基體12及形成在基體12上的光學(xué)膜層13。殼體10可以是指紋識(shí)別模組的蓋板、手機(jī)的后殼、平板電腦的后殼中的任意一種。

基體12可以是陶瓷、玻璃、不銹鋼、鈦合金、鋯合金中的任意一種。當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中，基體12不限于上述材料，可根據(jù)實(shí)際情況選擇合適的材料。

光學(xué)膜層13燒結(jié)在所述基體12上以調(diào)整所述基體12的外觀表現(xiàn)色，光學(xué)膜層13包括高折射率膜層14及低折射率膜層16堆疊形成。高折射率膜層14的材料可以是硫化鋅、二氧化鈦、氧化鋯、及氧化鉭中的任意一種。低折射率膜層16的材料可以是氟化鎂、一氧化硅或二氧化硅中的任意一種。當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中，高折射率膜層14和低折射率膜層16不限于上述材料，可根據(jù)實(shí)際情況選擇合適的材料。具體地，高折射率膜層14是指折射率為2～2.8的材料制成的膜層，低折射率膜層16是指折射率為1.3～1.7的材料制成的膜層。在遠(yuǎn)離基體12的方向上，高折射率膜層14與低折射率膜層16依序設(shè)置在基體12上。也即是說，高折射率膜層14設(shè)置在基體12上，低折射率膜層16設(shè)置在高折射膜層14上。

高折射率膜層14與低折射率膜層16形成后采用200攝氏度～1000攝氏度的溫度進(jìn)行燒結(jié)以加強(qiáng)附著在基體12上。

具體地，在一個(gè)例子中，基體12為陶瓷；高折射率膜層14的材料為二氧化鋯，高折射率膜層14的厚度為20nm～40nm；低折射率膜層16的材料為二氧化硅，低折射率膜層16的厚度為50nm～100nm。最佳燒結(jié)溫度范圍在600攝氏度～800攝氏度之間。

本發(fā)明第一實(shí)施方式的殼體10，在基體12上形成高折射率膜層14和低折射率膜層16，根據(jù)基體12的材料選擇合適的高折射率膜層14和低折射率膜層16以便于高折射率膜層14和低折射率膜層16形成在殼體10上，然后根據(jù)高折射率膜層14的折射率和低折射率膜層16的折射率設(shè)計(jì)高折射率膜層14和低折射率膜層16的厚度，增強(qiáng)特定波長的光的反射率，以給使用者帶來視覺上特定波長的光的顏色的感觀。高折射率膜層14和低折射率膜層16形成在基體12上后，再經(jīng)燒結(jié)工藝，使高折射率膜層14和低折射率膜層16加強(qiáng)附著在基體12上。

具體地，在工藝上，選擇高折射率膜層14或低折射率膜層16時(shí)，需根據(jù)基體12的材質(zhì)選擇合適的材料形成高折射率膜層14或低折射率膜層16在基體12表面，最佳燒結(jié)溫度范圍，也與基體12的材質(zhì)、高折射率膜層14和低折射率膜層16的所采用的材料有關(guān)，在某一溫度范圍內(nèi)，燒結(jié)后兩種材料界面處融為一體，就可達(dá)到膜層加強(qiáng)附著在基體12上不易脫落的效果。

本發(fā)明第一實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明第二實(shí)施方式的殼體10與第一實(shí)施方式中的殼體10結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：在遠(yuǎn)離基體12的方向上，低折射率膜層16與高折射率膜層14依序設(shè)置在基體12上。也即是說，高折射率膜層14和低折射率膜層16的位置可交換，不影響本發(fā)明任一實(shí)施方式的殼體10的實(shí)現(xiàn)。

本發(fā)明第二實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖3，本發(fā)明第三實(shí)施方式的殼體10與第一實(shí)施方式中的殼體10的結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：殼體10還包括顏色層18，顏色層18形成在基體12上，顏色層18位于基體12與高折射率膜層14之間。顏色層18可以是白色層、黑色層、金色層、玫瑰金層、藍(lán)色層中的任意一種。

也即是說，顏色層18的顏色可以是任意的，可以與需實(shí)現(xiàn)的給使用者帶來視覺上的感觀的顏色一致，也可以不一致，只需設(shè)計(jì)合理的高折射率膜層14和低折射率膜層16，即可給使用者帶來視覺上不同顏色的感觀。較佳的，顏色層18的顏色與需實(shí)現(xiàn)的給使用者帶來視覺上的感觀的顏色一致。

進(jìn)一步地，在其他實(shí)施方式中，顏色層18可以為基體12的顏色，例如，基體12可以為白色、黑色，金色、藍(lán)色中的任意一種。

本發(fā)明第三實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖4，本發(fā)明第四實(shí)施方式的殼體10與第二實(shí)施方式中的殼體10的結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：殼體10還包括顏色層18，顏色層18形成在基體12上，顏色層18位于基體12與低折射率膜層16之間。顏色層18可以是白色層、黑色層、金色層、玫瑰金層、藍(lán)色層中的任意一種。

也即是說，顏色層18的顏色可以是任意的，可以與需實(shí)現(xiàn)的給使用者帶來視覺上的感觀的顏色一致，也可以不一致，只需設(shè)計(jì)合理的高折射率膜層14和低折射率膜層16，即可給使用者帶來視覺上不同顏色的感觀。較佳的，顏色層18的顏色與需實(shí)現(xiàn)的給使用者帶來視覺上的感觀的顏色一致。

本發(fā)明第四實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖5，本發(fā)明第五實(shí)施方式的殼體10與第一實(shí)施方式中的殼體10結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：低折射率膜層16為多層，高折射率膜層14為多層，多層高折射率膜層14與多層低折射率膜層16交替堆疊形成在基體12上。

其中，多層高折射率膜層14的材料相同，多層低折射率膜層16的材料相同。換句話說，每層高折射率膜層14的材料均為硫化鋅、二氧化鈦、二氧化鋯、及氧化鉭中的任意一種，每層低折射率膜層16的材料均為氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意一種。舉例來說：若每層高折射率膜層14的材料均為硫化鋅，每層低折射率膜層16的材料均為氟化鎂，高折射率膜層14與低折射率膜層16的層數(shù)均為3層，則沿著遠(yuǎn)離基體12的方向，依次為：硫化鋅層14、氟化鎂層16、硫化鋅層14、氟化鎂層16、硫化鋅層14與氟化鎂層16。

低折射率膜層16的層數(shù)與高折射率膜層14的層數(shù)可以是大于等于兩層的任意層數(shù)，具體的層數(shù)與需達(dá)到的視覺效果相關(guān)，可根據(jù)實(shí)際需求，合理設(shè)計(jì)高折射率膜層14和低折射率膜層16的數(shù)量，同時(shí)要滿足二者交替堆疊。

可以理解，第二至第四實(shí)施方式中的殼體10的低折射率膜層16與高折射率膜層14也可與本實(shí)施方式的低折射率膜層16與高折射率膜層14的結(jié)構(gòu)一樣，設(shè)計(jì)為多層，且多層高折射率膜層14與多層低折射率膜層16交替堆疊形成在基體12上，且多層高折射率膜層14的材料相同，多層低折射率膜層16的材料相同。

本發(fā)明第五實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖6，本發(fā)明第六實(shí)施方式的殼體10與第一實(shí)施方式中的殼體10結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：低折射率膜層16為多層，高折射率膜層14為多層，多層高折射率膜層14與多層低折射率膜層16交替堆疊形成在基體12上。

其中，多層高折射率膜層14的材料至少包括硫化鋅、二氧化鈦、二氧化鋯、及氧化鉭中的任意兩種，多層低折射率膜層16包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意兩種。也即是說，高折射率膜層14的材料可以包括硫化鋅、二氧化鈦、二氧化鋯、及氧化鉭中的任意兩種，也可以包括硫化鋅、二氧化鈦、氧化鋯、及氧化鉭中的任意三種，多層低折射率膜層16可包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意兩種，也可以包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅三種。

舉例來說：若高折射率膜層14的材料為硫化鋅和二氧化鈦，低折射率膜層16的材料為氟化鎂和二氧化硅，高折射率膜層14與低折射率膜層16的層數(shù)均為3層，則沿著遠(yuǎn)離基體12的方向，可以依次為：硫化鋅層14、氟化鎂層16、硫化鋅層14、二氧化硅層16、二氧化鋯層14與氟化鎂層16，也可以依次為：二氧化鋯層14、二氧化硅層16、硫化鋅層14、二氧化硅層16、二氧化鋯層14與氟化鎂層16；若高折射率膜層14的材料為硫化鋅、二氧化鈦和氧化鋯，低折射率磨成16的材料為氟化鎂、一氧化硅和二氧化硅，則沿著遠(yuǎn)離基體12的方向，可以依次為：硫化鋅層14、一氧化硅層16、二氧化鋯層14、二氧化硅層16、二氧化鈦層14與氟化鎂層16，也可以依次為層二氧化鋯層14、氟化鎂層16、硫化鋅14、二氧化硅層16、二氧化鈦層14與一氧化硅層16。

低折射率膜層16的層數(shù)與高折射率膜層14的層數(shù)可以是大于等于兩層的任意層數(shù)，具體的層數(shù)與需達(dá)到的視覺效果相關(guān)，可根據(jù)實(shí)際需求，合理設(shè)計(jì)高折射率膜層14和低折射率膜層16的數(shù)量，同時(shí)要滿足二者交替堆疊。

可以理解，第二至第四實(shí)施方式中的殼體10的低折射率膜層16與高折射率膜層14也可與本實(shí)施方式的低折射率膜層16與高折射率膜層14的結(jié)構(gòu)一樣，設(shè)計(jì)為多層，且多層高折射率膜層14與多層低折射率膜層16交替堆疊形成在基體12上，且多層高折射率膜層14的至少包括硫化鋅、二氧化鈦、二氧化鋯、及氧化鉭中的任意兩種，多層低折射率膜層16包括氟化鎂、一氧化硅及二氧化硅中的任意兩種。

本發(fā)明第六實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖7，本發(fā)明第七實(shí)施方式的殼體10包括基體12及形成在基體12上的膜堆11，膜堆11形成后進(jìn)行燒結(jié)以加強(qiáng)附著在基體12上，膜堆11用于控制反射特定波長的光線以給使用者帶來視覺上不同顏色的感觀。

本發(fā)明第七實(shí)施方式的殼體10，膜堆11形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，膜堆11不易從基體12上脫落，延長使用壽命。

請(qǐng)參閱圖8，本發(fā)明第八實(shí)施方式的殼體10與第一實(shí)施方式中的殼體10結(jié)構(gòu)基本相同，不同之處在于：光學(xué)膜層13由高折射率膜層及低折射率膜層融合形成。

本發(fā)明第八實(shí)施方式的殼體10，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，延長使用壽命。

請(qǐng)參閱圖9，本發(fā)明某些實(shí)施方式的制造方法，用于制造如上任一實(shí)施方式所述的殼體10，殼體10可以是指紋識(shí)別模組的蓋板、手機(jī)的后殼、平板電腦的后殼中的任意一種。制造方法包括以下步驟：

S12：提供一個(gè)基體12；

S14：在基體12上形成光學(xué)膜層13；及

S16：加熱光學(xué)膜層13以及基體12以使光學(xué)膜層13結(jié)合至基體12上。

步驟S12提供的基體12，基體12包括陶瓷、玻璃、不銹鋼、鈦合金、鋯合金中的任意一種。當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中，基體12不限于上述材料，可根據(jù)實(shí)際情況選擇合適的材料。

步驟S14通過蒸鍍、濺射鍍膜、噴涂、電鍍、電泳、印刷工藝中的任意一種方式實(shí)現(xiàn)。光學(xué)膜層13包括高折射率膜層14和低折射率膜層16。高折射率膜層14的材料包括硫化鋅、二氧化鈦、氧化鋯、及氧化鉭中的任意一種。低折射率膜層16的材料包括氟化鎂、一氧化硅或二氧化硅中的任意一種。當(dāng)然，在其他實(shí)施方式中，高折射率膜層14和低折射率膜層16不限于上述材料，可根據(jù)實(shí)際情況選擇合適的材料。具體地，高折射率膜層14是指折射率為2～2.8的材料制成的膜層，低折射率膜層16是指折射率為1.3～1.7的材料制成的膜層。具體地，需根據(jù)基體12的材料選擇合適的高折射率膜層14和低折射率膜層16以便于高折射率膜層14和低折射率膜層16形成在殼體10上，然后根據(jù)高折射率膜層14的折射率和低折射率膜層16的折射率設(shè)計(jì)高折射率膜層14和低折射率膜層16的厚度，增強(qiáng)特定波長的光的反射率，以給使用者帶來視覺上特定波長的光的顏色的感觀。

步驟S16包括：加熱所述光學(xué)膜層13以及所述基體以使所述光學(xué)膜層13燒結(jié)至所述基體上。燒結(jié)溫度范圍為200攝氏度～1000攝氏度。具體地，在工藝上，選擇高折射率膜層14或低折射率膜層16時(shí)，需根據(jù)基體12的材質(zhì)選擇合適的材料形成高折射率膜層14或低折射率膜層16在基體12表面，最佳燒結(jié)溫度范圍，也與基體12的材質(zhì)和膜層的具體的材質(zhì)有關(guān)，在某一溫度范圍內(nèi)，燒結(jié)后兩種材料界面處融為一體，就可達(dá)到膜層加強(qiáng)附著在基體12上不易脫落的效果。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖9及圖10，在某些實(shí)施方式中，步驟S12之前還可以包括以下步驟：

S11：初清潔基體12。具體地其中，初清潔方式可以是手動(dòng)擦拭，也可以是超聲波清潔。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖9及圖11，在某些實(shí)施方式中，步驟S14包括以下子步驟：

S141：對(duì)基體12進(jìn)行表面預(yù)處理；

S143：將二氧化鋯膜層14形成在基體12表面；

S145：將二氧化硅膜層16形成在二氧化鋯膜層14表面。

步驟S141包括對(duì)基體12進(jìn)行初清潔，初清潔的方式可以是超聲波清潔，也可以是人工手動(dòng)擦拭。步驟S141離子束清潔，離子束對(duì)固體沖擊的可能進(jìn)入固體表面層改變固體表面的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，可使二氧化鋯膜層14更容易鍍至基體12表面。

步驟S143可通過印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式實(shí)現(xiàn)；和/或步驟S145可通過印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式實(shí)現(xiàn)。

具體地，在一個(gè)例子中，基體12為陶瓷，二氧化鋯膜層14的厚度為20nm～40nm，二氧化硅膜層16的厚度為50nm～100nm，步驟S143和步驟S145的實(shí)現(xiàn)方式為蒸鍍，用兩個(gè)坩堝分別裝入足量的高純度的二氧化鋯和二氧化硅并和陶瓷一同放置于真空爐內(nèi)，抽真空至一定負(fù)壓，離子束轟擊陶瓷表面，進(jìn)行離子活化和清洗陶瓷表面，然后抽真空至較大負(fù)壓，用電子槍先蒸發(fā)二氧化鋯，以在陶瓷的表面形成二氧化鋯膜層14，再蒸發(fā)二氧化硅以在二氧化鋯膜14層上形成二氧化硅膜層16，最后進(jìn)行燒結(jié)，最佳燒結(jié)溫度范圍為600攝氏度～800攝氏度。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖9及圖12，在某些實(shí)施方式中，步驟S14還可以包括以下子步驟：

S141：對(duì)基體12表面進(jìn)行預(yù)處理；

S144：將二氧化硅膜層16形成在基體12表面；

S146：將二氧化鋯膜層14形成在所述二氧化硅膜層16表面。

步驟S144可通過印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式實(shí)現(xiàn)；和/或步驟S146可通過印刷、噴涂、蒸鍍或者電泳的方式實(shí)現(xiàn)。

也即是說，形成二氧化硅膜層16和二氧化鋯膜層14的順序是可交換的。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖13，在某些實(shí)施方式中，步驟S141之后還包括步驟：

S142：預(yù)熱真空爐。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖14，本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，用于制造上述任一實(shí)施方式的殼體10，制造方法包括步驟：

S22：提供一個(gè)基體12；

S24：形成一種包含高折射率膜層14與低折射率膜層16的膜堆11；

S26：固定膜堆11在基體12的表面上；及

S28：燒結(jié)高折射率膜層14與低折射率膜層16。

先將高折射率膜層14和低折射率膜層16堆疊形成膜堆11，再將形成好的膜堆11形成在基體12上，再經(jīng)燒結(jié)工藝加固。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖15，一種制造方法，用于制造殼體10，制造方法包括以下步驟：

S32：提供一個(gè)陶瓷基體12；

S34：將二氧化鋯鍍至陶瓷表面形成二氧化鋯膜層14；

S36：將二氧化硅鍍至二氧化鋯膜層14表面形成二氧化硅膜層16；

S38：燒結(jié)陶瓷基體12、二氧化鋯膜層14及二氧化硅膜層16。

本發(fā)明實(shí)施方式的制造方法，光學(xué)膜層13形成在陶瓷基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

請(qǐng)參閱圖16，一種移動(dòng)終端100，包括上述任一實(shí)施方式所述的殼體10。殼體10可應(yīng)用于移動(dòng)終端100的后殼(請(qǐng)參圖16)或者指紋識(shí)別模組(請(qǐng)參圖17)。

本發(fā)明實(shí)施方式的移動(dòng)終端100，殼體10的光學(xué)膜層13形成在陶瓷基體12上后再經(jīng)燒結(jié)工藝以加強(qiáng)附著在基體12上，光學(xué)膜層13不易從基體12上脫落，避免因光學(xué)膜層13脫落而導(dǎo)致感觀到的顏色不均勻的問題。

在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個(gè)實(shí)施方式”、“某些實(shí)施方式”、“示意性實(shí)施方式”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合實(shí)施方式或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施方式或示例中。在本說明書中，對(duì)上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施方式或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式或示例中以合適的方式結(jié)合。

此外，術(shù)語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。在本發(fā)明的描述中，“多個(gè)”的含義是至少兩個(gè)，例如兩個(gè)，三個(gè)等，除非另有明確具體的限定。

盡管上面已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施方式，可以理解的是，上述實(shí)施方式是示例性的，不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在本發(fā)明的范圍內(nèi)可以對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行變化、修改、替換和變型。