本發(fā)明涉及電聲領(lǐng)域，具體涉及一種發(fā)聲器件。

背景技術(shù)：
發(fā)聲器件包括振動(dòng)系統(tǒng)和磁路系統(tǒng)，現(xiàn)有技術(shù)中為了滿足大功率或薄型化等需求，磁路系統(tǒng)通常由多個(gè)磁鐵構(gòu)成，多個(gè)磁鐵之間往往存在相互吸引的作用力，如果磁鐵粘接不牢容易出現(xiàn)磁鐵吸合等不良。傳統(tǒng)技術(shù)中的發(fā)聲器件難以避免該缺陷。因此，有必要對(duì)這種結(jié)構(gòu)的發(fā)聲器件進(jìn)行改進(jìn)，以避免上述缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種發(fā)聲器件，可以防止磁鐵之間吸合，提高產(chǎn)品的成品率。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種發(fā)聲器件，包括振動(dòng)系統(tǒng)和磁路系統(tǒng)，所述振動(dòng)系統(tǒng)包括音圈，所述磁路系統(tǒng)包括第一磁鐵和相鄰的第二磁鐵，所述第一磁鐵和所述第二磁鐵之間形成收容所述音圈的磁間隙；所述第一磁鐵和所述第二磁鐵均為塊狀結(jié)構(gòu)，并且所述第一磁鐵和所述第二磁鐵之間具有相互吸引力，所述第一磁鐵和所述第二磁鐵遠(yuǎn)離所述音圈的一側(cè)表面結(jié)合有導(dǎo)磁底座，其中，所述導(dǎo)磁底座由多個(gè)獨(dú)立的導(dǎo)磁板拼接形成，所述導(dǎo)磁底座包括支撐于所述第一磁鐵和/或第二磁鐵之間的第一導(dǎo)磁板。此外，優(yōu)選的方案是，所述第一導(dǎo)磁板遠(yuǎn)離所述音圈的一側(cè)還結(jié)合有第二導(dǎo)磁板，所述第二導(dǎo)磁板的厚度大于所述第一導(dǎo)磁板的厚度。此外，優(yōu)選的方案是，所述第一磁鐵為內(nèi)磁鐵位于所述導(dǎo)磁底座的中心位置，所述第二磁鐵為外磁鐵位于所述內(nèi)磁鐵的周邊為條狀結(jié)構(gòu)，所述內(nèi)磁鐵與所述外磁鐵之間形成所述磁間隙；所述第一導(dǎo)磁板支撐于各所述外磁鐵之間。此外，優(yōu)選的方案是，所述外磁鐵設(shè)置于平行于所述內(nèi)磁鐵相對(duì)邊的兩側(cè)，所述第一導(dǎo)磁板為狹長型結(jié)構(gòu)，兩個(gè)外磁鐵抵接于所述狹長型第一導(dǎo)磁板相對(duì)的兩邊上，所述內(nèi)磁鐵結(jié)合于所述第一導(dǎo)磁板靠近所述音圈一側(cè)的中心位置。此外，優(yōu)選的方案是，所述第二導(dǎo)磁板的寬度大于所述第一導(dǎo)磁板的寬度，所述第二導(dǎo)磁板寬于所述第一導(dǎo)磁板兩側(cè)的部分與所述外磁鐵固定結(jié)合。此外，優(yōu)選的方案是，所述第一導(dǎo)磁板或所述第二導(dǎo)磁板上還設(shè)有擋壁。采用上述技術(shù)方案后，與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比，本發(fā)明導(dǎo)磁底座由多個(gè)獨(dú)立的導(dǎo)磁板拼接形成，各導(dǎo)磁板可具有不同的作用，其中的第一導(dǎo)磁板用于支撐磁鐵，防止磁鐵之間出現(xiàn)吸合等不良，從而提高了產(chǎn)品的成品率，提高了產(chǎn)品的聲學(xué)性能。附圖說明通過下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行描述，本發(fā)明的上述特征和技術(shù)優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加清楚和容易理解。圖1是本發(fā)明發(fā)聲器件磁路系統(tǒng)的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明發(fā)聲器件磁路系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖一。圖3是本發(fā)明發(fā)聲器件磁路系統(tǒng)的立體結(jié)構(gòu)示意圖二。圖4是圖3所示結(jié)構(gòu)的A-A剖面結(jié)構(gòu)示意圖。圖5是本發(fā)明導(dǎo)磁底座的俯視圖。圖6是圖5所示結(jié)構(gòu)的B-B剖面結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的描述。動(dòng)圈式結(jié)構(gòu)的發(fā)聲器件通常包括振動(dòng)系統(tǒng)、磁路系統(tǒng)和收容固定振動(dòng)系統(tǒng)和磁路系統(tǒng)的外殼，振動(dòng)系統(tǒng)包括振膜和結(jié)合于振膜一側(cè)的音圈，磁路系統(tǒng)包括磁鐵和結(jié)合于磁鐵遠(yuǎn)離振動(dòng)系統(tǒng)一側(cè)的導(dǎo)磁底座，其中磁路系統(tǒng)形成收容音圈的磁間隙，音圈接通電信號(hào)后在磁間隙中上下振動(dòng)，并進(jìn)一步帶動(dòng)振膜振動(dòng)產(chǎn)生聲音。如圖1至圖3所示，本發(fā)明發(fā)聲器件的磁路系統(tǒng)包括依次結(jié)合的華司1、磁鐵2和導(dǎo)磁底座3，磁路系統(tǒng)為雙磁路結(jié)構(gòu)，雙磁路可以實(shí)現(xiàn)更大的輸出功率，磁鐵2包括位于中心位置的內(nèi)磁鐵21和位于內(nèi)磁鐵21兩側(cè)的兩個(gè)外磁鐵22，內(nèi)磁鐵21和外磁鐵22并排設(shè)置形成閉合的磁回路為相互吸引的結(jié)構(gòu)。華司1包括結(jié)合于內(nèi)磁鐵21表面的內(nèi)華司11和結(jié)合于外磁鐵22表面的外華司12，其中內(nèi)華司11和外華司12均為導(dǎo)磁的結(jié)構(gòu)，可以用于調(diào)整磁鐵2形成的磁力線的方向。導(dǎo)磁底座3結(jié)合于內(nèi)磁鐵21和外磁鐵22遠(yuǎn)離華司1的一側(cè)的表面，導(dǎo)磁底座3也為導(dǎo)磁結(jié)構(gòu)，磁路系統(tǒng)形成閉合的磁回路。本發(fā)明導(dǎo)磁底座3是由多個(gè)獨(dú)立的導(dǎo)磁板拼接形成的，本實(shí)施例包括獨(dú)立的第一導(dǎo)磁板31和第二導(dǎo)磁板32，其中第一導(dǎo)磁板31為狹長型的結(jié)構(gòu)，其寬度與兩外磁鐵22之間的距離相同，兩外磁鐵22分別抵接于第一導(dǎo)磁板31的兩相對(duì)邊上；內(nèi)磁鐵21結(jié)合于第一導(dǎo)磁板31的中心位置。這種結(jié)構(gòu)的第一導(dǎo)磁板31支撐于兩個(gè)外磁鐵22之間，從而限定了兩個(gè)外磁鐵22與內(nèi)磁鐵21之間的距離，避免了內(nèi)磁鐵21與外磁鐵22之間發(fā)生吸合等不良，從而可以提高產(chǎn)品的成品率。第二導(dǎo)磁板32結(jié)合于第一導(dǎo)磁板31遠(yuǎn)離內(nèi)磁鐵21的一側(cè)，第二導(dǎo)磁板32的寬度d2大于第一導(dǎo)磁板31的寬度d1，如圖1所示，因而第二導(dǎo)磁板32包括露出于第一導(dǎo)磁板31兩側(cè)的部分，如圖2至圖4所示，寬于第一導(dǎo)磁板31的部分與外磁鐵22固定結(jié)合。如圖4所示，外磁鐵22的底面與第二導(dǎo)磁板32固定結(jié)合，第一導(dǎo)磁板31支撐于兩個(gè)外磁鐵22的側(cè)面，從而即可以保證外磁鐵22粘結(jié)的牢固程度，又可以避免外磁鐵22受內(nèi)磁鐵21吸引產(chǎn)生吸合等不良。這種結(jié)構(gòu)的磁路系統(tǒng)導(dǎo)磁底座3位于內(nèi)磁鐵21角部的位置容易形成磁飽和，優(yōu)選的，第二導(dǎo)磁板32的厚度大于第一導(dǎo)磁板31的厚度，這種結(jié)構(gòu)可以有效的緩解磁飽和。如圖4所示，在內(nèi)磁鐵21和外磁鐵22形成的磁間隙中還設(shè)置有音圈4，音圈4接通電信號(hào)后受安培力作用在磁間隙中振動(dòng)，上述結(jié)構(gòu)的磁路系統(tǒng)不會(huì)對(duì)音圈4到磁間隙底部之間的距離產(chǎn)生影響，因而不會(huì)影響音圈4的振動(dòng)空間。如圖3、圖5和圖6所示，本發(fā)明第一導(dǎo)磁板31或第二導(dǎo)磁板32上還設(shè)有擋壁，本實(shí)施例中在第一導(dǎo)磁板31上設(shè)有擋壁311，設(shè)置擋壁311可以防止漏磁。此外，本發(fā)明不限于這種具有一個(gè)內(nèi)磁鐵和兩個(gè)外磁鐵的結(jié)構(gòu)，也可以為包括更多的內(nèi)磁鐵和/或外磁鐵的結(jié)構(gòu)。例如，磁路系統(tǒng)可以是內(nèi)磁鐵為矩形，外磁鐵為四塊并環(huán)繞內(nèi)磁鐵設(shè)置的結(jié)構(gòu)，第一導(dǎo)磁板包括矩形的支撐面分別與四個(gè)外磁鐵抵接。綜上所述，本發(fā)明導(dǎo)磁底座包括多個(gè)獨(dú)立的導(dǎo)磁板，且各導(dǎo)磁板具有不同的作用，如本實(shí)施例具有第一導(dǎo)磁板和第二導(dǎo)磁板，第一導(dǎo)磁板可以防止磁鐵吸合，第二導(dǎo)磁板具有防止磁飽和的作用，從而可以實(shí)現(xiàn)單個(gè)導(dǎo)磁板不具有的功能，從而可以進(jìn)一步提高產(chǎn)品的聲學(xué)特性。在本發(fā)明的上述教導(dǎo)下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上進(jìn)行其他的改進(jìn)和變形，而這些改進(jìn)和變形，都落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白，上述的具體描述只是更好的解釋本發(fā)明的目的，本發(fā)明的保護(hù)范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。