一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及蝕刻裝置，特別是一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子行業(yè)的回暖，中國(guó)線路板行業(yè)發(fā)展隨之也普遍回升，中國(guó)將在近年成為世界最大的PCB產(chǎn)業(yè)基地，目前占了全球市場(chǎng)30%左右，在印制電路板生產(chǎn)過(guò)程中，蝕刻是一個(gè)十分重要的工藝，而且蝕刻時(shí)必須要使用到大量的蝕刻液，而現(xiàn)有的蝕刻裝置其自動(dòng)化程度不高，往往需要人工操作，然而蝕刻液具有強(qiáng)烈的腐蝕性，容易對(duì)工人造成危害，而且隨著蝕刻的進(jìn)行，銅被不斷的溶解，藥水中一價(jià)銅離子的含量上升，這是需不斷補(bǔ)加蝕刻液二價(jià)銅離子以維持正常的蝕刻速率。氨水與氯化銨的添加一般都是用人工手動(dòng)添加蝕刻液，人工添加勞動(dòng)強(qiáng)度大，蝕刻藥水濃度管控誤差范圍大，還容易造成電路板蝕刻質(zhì)量不好，蝕刻過(guò)后電路板上設(shè)置含有蝕刻液，需要對(duì)蝕刻液進(jìn)行清洗。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，提供一種自動(dòng)化程度高、蝕刻質(zhì)量好和勞動(dòng)強(qiáng)度低的全自動(dòng)蝕刻清洗裝置。
[0004]本發(fā)明的目的通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn):一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，它包括蝕刻槽、清洗槽、抓取機(jī)構(gòu)、橫桿、支架和控制箱，所述的抓取機(jī)構(gòu)包括機(jī)械手控制器、機(jī)械臂和機(jī)械手，所述的機(jī)械手控制器和機(jī)械臂活動(dòng)連接，機(jī)械手控制器與機(jī)械手之間連接有導(dǎo)線，機(jī)械手控制器活動(dòng)安裝在橫桿上，所述的橫桿安裝在支架上，所述的控制箱和機(jī)械手控制器連接，所述的蝕刻槽上安裝有蝕刻劑管和檢測(cè)裝置，蝕刻劑管的入口連接有一蝕刻泵，蝕刻劑管的出口位于蝕刻槽內(nèi)，所述的蝕刻泵連接有一蝕刻輔助槽，所述的檢測(cè)裝置與蝕刻槽的底部連通，檢測(cè)裝置內(nèi)設(shè)置有比重計(jì)和探頭，比重計(jì)位于探頭的下部，所述的蝕刻槽的側(cè)壁上設(shè)置有一控制器，蝕刻泵和探頭與控制器電連接，所述的清洗槽安裝有自來(lái)水管，所述的自來(lái)水管通過(guò)自來(lái)水管接入口和外部自來(lái)水管連接，所述的清洗槽底部還設(shè)置有一出水口，出水口與出水管連接。
[0005]所述的蝕刻泵與蝕刻劑管連接的管道上設(shè)置有一電磁閥，電磁閥與控制器電連接。
[0006]所述的機(jī)械臂的旋轉(zhuǎn)角度為360度。
[0007]所述的機(jī)械手的旋轉(zhuǎn)角度為240度
本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明的蝕刻裝置，設(shè)置有機(jī)械手和機(jī)械臂，從而使得電路板在蝕刻過(guò)程中，無(wú)需人工操作，實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)蝕刻，而且通過(guò)比重計(jì)檢測(cè)蝕刻槽內(nèi)CU2+的含量，同時(shí)通過(guò)蝕刻泵自動(dòng)添加適量的蝕刻液，從而使得蝕刻槽內(nèi)的CU2+的含量始終處于合理的范圍內(nèi)，保證了電路板蝕刻的質(zhì)量，而且無(wú)需人工添加，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，設(shè)置有清洗槽，電路板在蝕刻后，直接通過(guò)機(jī)械手進(jìn)入清洗槽，清洗槽內(nèi)的蝕刻液為持續(xù)交換狀態(tài)，從而保證了清洗質(zhì)量，在整個(gè)蝕刻和清洗過(guò)程中均無(wú)需人工操作，因此具有自動(dòng)化程度高、蝕刻質(zhì)量好的勞動(dòng)強(qiáng)度低的優(yōu)點(diǎn)。
【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖圖2為蝕刻槽的結(jié)構(gòu)示意圖
圖中，1-蝕刻槽，2-蝕刻輔助槽，3-檢測(cè)裝置，4-蝕刻泵，5-蝕刻劑管，6-控制器，7-電磁閥，8-橫桿，9-支架，10-控制箱，11-機(jī)械手控制器，12-機(jī)械臂，13-機(jī)械手，31-比重計(jì)，32-探頭。
【具體實(shí)施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的描述，本發(fā)明的保護(hù)范圍不局限于以下所述: 如圖1和圖2所示，一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，它包括蝕刻槽1、清洗槽14、抓取機(jī)構(gòu)、
橫桿8、支架9和控制箱10，所述的抓取機(jī)構(gòu)包括機(jī)械手控制器11、機(jī)械臂12和機(jī)械手13，所述的機(jī)械手控制器11和機(jī)械臂12活動(dòng)連接，機(jī)械手控制器11與機(jī)械手13之間連接有導(dǎo)線，機(jī)械手控制器11活動(dòng)安裝在橫桿8上，所述的橫桿8安裝在支架9上，所述的控制箱10和機(jī)械手控制器11連接，在本實(shí)施例中，控制箱10控制機(jī)械手13橫向移動(dòng)，機(jī)械手控制器11控制機(jī)械手13抓取電路板，從而使電路板在蝕刻槽I內(nèi)的運(yùn)動(dòng)為全自動(dòng)控制，降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，通過(guò)所述的蝕刻槽I上安裝有蝕刻劑管5和檢測(cè)裝置3，蝕刻劑管5的入口連接有一蝕刻泵4，蝕刻劑管5的出口位于蝕刻槽I內(nèi)，所述的蝕刻泵4連接有一蝕刻輔助槽2，所述的檢測(cè)裝置3與蝕刻槽I的底部連通，檢測(cè)裝置3內(nèi)設(shè)置有比重計(jì)31和探頭32，比重計(jì)31位于探頭32的下部，所述的蝕刻槽I的側(cè)壁上設(shè)置有一控制器6，蝕刻泵4和探頭32與控制器6電連接，通過(guò)比重計(jì)31磁性感應(yīng)控制蝕刻液CU2+含量，假如CU 2+含量超出設(shè)置管控范圍，即CU2+超標(biāo)的話，檢測(cè)裝置3內(nèi)的比重計(jì)31會(huì)上浮與頂頭探頭32接觸感應(yīng)，探頭32發(fā)出信號(hào)給控制器6，控制器6控制蝕刻泵4工作，把蝕刻輔助槽2內(nèi)的新鮮子液輸送至蝕刻槽內(nèi)，當(dāng)蝕刻槽I內(nèi)藥液已加至比重范圍內(nèi)后，比重計(jì)31會(huì)下降，蝕刻泵4停止工作，完成自動(dòng)添加，所述的清洗槽14安裝有自來(lái)水管15，所述的自來(lái)水管15通過(guò)自來(lái)水管接入口 16和外部自來(lái)水管連接，所述的清洗槽14底部還設(shè)置有一出水口 17，出水口 17與出水管連接，清洗槽14內(nèi)的清洗液通過(guò)自來(lái)水管15添加，清洗槽14的多余的清洗液則公國(guó)出水口 17排出，在本實(shí)施例中，進(jìn)水量和出水量相同，從而保證清洗槽14的清洗液液面穩(wěn)定，同時(shí)通過(guò)清洗液的快速交換，保證了清洗液的質(zhì)量，從而保證了電路板的清洗質(zhì)量。
[0010]在本實(shí)施例中，所述的蝕刻泵4與蝕刻劑管5連接的管道上設(shè)置有一電磁閥7，電磁閥7與控制器6電連接，電磁閥7處于常閉狀態(tài)，當(dāng)蝕刻泵4工作時(shí)，控制器6才控制電磁閥7打開(kāi)，電磁閥7可以防止蝕刻槽I內(nèi)的蝕刻液回流，保證蝕刻槽I內(nèi)的蝕刻液面穩(wěn)定。
[0011]在本實(shí)施例中，所述的機(jī)械臂12的旋轉(zhuǎn)角度為360度，機(jī)械手13的旋轉(zhuǎn)角度為240度，通過(guò)機(jī)械臂12和機(jī)械手13之間的旋轉(zhuǎn)，可以使電路板全方位的進(jìn)行蝕刻，也便于機(jī)械手抓取電路板。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，其特征在于:它包括蝕刻槽(1)、清洗槽(14)、抓取機(jī)構(gòu)、橫桿(8)、支架(9)和控制箱(10)，所述的抓取機(jī)構(gòu)包括機(jī)械手控制器(11)、機(jī)械臂(12)和機(jī)械手(13)，所述的機(jī)械手控制器(11)和機(jī)械臂(12)活動(dòng)連接，機(jī)械手控制器(11)與機(jī)械手(13)之間連接有導(dǎo)線，機(jī)械手控制器(11)活動(dòng)安裝在橫桿(8)上，所述的橫桿(8)安裝在支架(9)上，所述的控制箱(10)和機(jī)械手控制器(11)連接，所述的蝕刻槽(I)上安裝有蝕刻劑管(5 )和檢測(cè)裝置(3 )，蝕刻劑管(5 )的入口連接有一蝕刻泵(4)，蝕刻劑管(5 )的出口位于蝕刻槽(I)內(nèi)，所述的蝕刻泵(4)連接有一蝕刻輔助槽(2)，所述的檢測(cè)裝置(3)與蝕刻槽(I)的底部連通，檢測(cè)裝置(3 )內(nèi)設(shè)置有比重計(jì)(31)和探頭(32 )，比重計(jì)(31)位于探頭(32)的下部，所述的蝕刻槽(I)的側(cè)壁上設(shè)置有一控制器(6)，蝕刻泵(4)和探頭(32)與控制器(6)電連接，所述的清洗槽(14)安裝有自來(lái)水管(15)，所述的自來(lái)水管(15)通過(guò)自來(lái)水管接入口( 16)和外部自來(lái)水管連接，所述的清洗槽(14)底部還設(shè)置有一出水口( 17)，出水口(17)與出水管連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，其特征在于:所述的蝕刻泵(4)與蝕刻劑管(5)連接的管道上設(shè)置有一電磁閥(7)，電磁閥(7)與控制器(6)電連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，其特征在于:所述的機(jī)械臂(12)的旋轉(zhuǎn)角度為360度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，其特征在于:所述的機(jī)械手(13)的旋轉(zhuǎn)角度為240度。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種全自動(dòng)蝕刻清洗裝置，它包括蝕刻槽（1）、清洗槽（14）、抓取機(jī)構(gòu)、橫桿（8）、支架（9）和控制箱（10），抓取機(jī)構(gòu)包括機(jī)械手控制器（11）、機(jī)械臂（12）和機(jī)械手（13），蝕刻槽（1）上安裝有蝕刻劑管（5），蝕刻劑管（5）的入口連接有蝕刻泵（4），蝕刻劑管（5）的出口位于蝕刻槽（1）內(nèi)，蝕刻泵（4）連接有一蝕刻輔助槽（2），檢測(cè)裝置（3）內(nèi)設(shè)置有比重計(jì)（31）和探頭（32），蝕刻槽（1）的側(cè)壁上設(shè)置有一控制器（6），清洗槽（14）安裝有自來(lái)水管（15），清洗槽（14）底部還設(shè)置有一出水口（17）。本發(fā)明的有益效果是：它具有自動(dòng)化程度高、蝕刻質(zhì)量好的勞動(dòng)強(qiáng)度低的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】H05K3-26
【公開(kāi)號(hào)】CN104853527
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510311259
【發(fā)明人】韋建敏, 趙興文, 張曉蓓, 張小波
【申請(qǐng)人】成都虹華環(huán)?？萍脊煞萦邢薰?br>【公開(kāi)日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年6月9日