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一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置與流程

文檔序號:40403683發(fā)布日期:2024-12-20 12:27閱讀:7來源:國知局
一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置與流程

本申請涉及顯示,尤其涉及一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置。


背景技術(shù):

1、目前,隨著amoled(active?matrix?organic?light?emitting?diode)顯示技術(shù)在人們的生活中越來越普遍,amoled顯示裝置在使用過程中必不可少的存在跌落和碰撞的情況,所以對其品質(zhì)的要求也逐漸提升。然而現(xiàn)有amoled顯示裝置的顯示面板面板邊框較為脆弱,在出現(xiàn)碰撞和跌落的情況下,顯示面板容易發(fā)生膜層剝離,可靠性較差,影響顯示裝置的使用壽命。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請實施例提供一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置,能夠提高顯示面板邊框的性能,延長顯示裝置的使用壽命。

2、本申請實施例的第一方面,提供一種顯示面板,包括:襯底層,襯底層包括層疊設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層;

3、所述襯底層包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,所述非顯示區(qū)域圍繞所述顯示區(qū)域;

4、所述非顯示區(qū)域包括第一非顯示區(qū)域和第二非顯示區(qū)域,所述第二非顯示區(qū)域設(shè)置于所述第一非顯示區(qū)域與所述顯示區(qū)域之間,所述第一非顯示區(qū)域包括虛擬切割線;

5、所述顯示區(qū)域內(nèi)的至少兩層所述有機膜層之間設(shè)置有所述無機膜層,所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)的所述無機膜層的總厚度值為第一數(shù)值,所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述無機膜層的總厚度值為第二數(shù)值,所述第一數(shù)值小于所述第二數(shù)值。

6、在一些實施方式中,至少一層所述無機膜層在所述襯底層上的正投影與所述第一非顯示區(qū)域無交疊。

7、在一些實施方式中,所述襯底層包括第一無機膜層和第二無機膜層;

8、所述第一無機膜層在所述襯底層上的正投影與所述第一非顯示區(qū)域無交疊;和/或,

9、所述第二無機膜層在所述襯底層上的正投影與所述第一非顯示區(qū)域無交疊。

10、在一些實施方式中,所述無機膜層在所述襯底層上的正投影邊界相對于所述虛擬切割線靠近所述顯示區(qū)域。

11、在一些實施方式中,所述無機膜層在所述襯底層上的正投影邊界與所述虛擬切割線之間的距離范圍為30至40um。

12、在一些實施方式中,所述襯底層包括第一無機膜層和第二無機膜層;

13、所述第一無機膜層的厚度大于所述第二無機膜層的厚度;

14、所述第一無機膜層在所述襯底上的正投影邊界為第一邊界,所述第一邊界落入所述第二非顯示區(qū)域內(nèi);和/或

15、所述第二無機膜層在所述襯底上的正投影邊界為第二邊界,所述第二邊界落入所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)。

16、在一些實施方式中,所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)的至少兩層所述有機膜層連接;和/或,

17、至少兩層所述有機膜層覆蓋所述虛擬切割線。

18、在一些實施方式中,顯示面板,還包括:

19、第三有機膜層,所述第三有機膜層設(shè)置于所述襯底層遠離所述襯底層的一側(cè),其中,所述第三有機膜層覆蓋所述第一非顯示區(qū)域、所述第二非顯示區(qū)域和所述顯示區(qū)域;

20、封裝層,所述封裝層設(shè)置于所述第三有機膜層與所述襯底層之間,所述封裝層在所述襯底層上的正投影與所述第一非顯示區(qū)域無交疊;

21、驅(qū)動層,所述驅(qū)動層設(shè)置于所述襯底層與所述封裝層之間,所述驅(qū)動層覆蓋至少部分所述第二非顯示區(qū)域和所述顯示區(qū)域;

22、發(fā)光器件層,所述發(fā)光器件層設(shè)置于所述驅(qū)動層與所述封裝層之間,所述發(fā)光器件層與所述驅(qū)動層的像素電路電連接,所述發(fā)光器件層覆蓋所述顯示區(qū)域。

23、在一些實施方式中,顯示面板,還包括:

24、第四有機膜層,所述第四膜層設(shè)置于所述第三有機膜層與所述封裝層之間,所述第四有機膜層在所述襯底層上的正投影邊界為第三邊界,所述第三邊界與所述第一非顯示區(qū)域邊界重合。

25、在一些實施方式中,顯示面板,還包括:

26、阻擋柱,所述阻擋柱設(shè)置于所述第二非顯示區(qū)域;

27、所述封裝層包括第一無機封裝層、有機封裝層和第二無機封裝層,所述第一無機封裝層和所述第二無機封裝層均覆蓋所述阻擋柱,所述阻擋柱靠近所述顯示區(qū)域的一側(cè)與所述無機封裝層連接;

28、所述阻擋柱在所述襯底層上的正投影與所述無機膜層在所述襯底層上正投影存在交疊。

29、在一些實施方式中,所述襯底層包括第一無機膜層和第二無機膜層;

30、所述第一非顯示區(qū)域的所述第一無機膜層的厚度小于所述第二非顯示區(qū)的所述第一無機膜層的厚度;和/或,

31、所述第一非顯示區(qū)域的所述第二無機膜層的厚度小于所述第二非顯示區(qū)的所述第二無機膜層的厚度。

32、本申請實施例的第二方面,提供一種顯示面板的制備方法,應(yīng)用于第一方面所述的顯示面板,所述顯示面板的制備方法包括:

33、分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層,以得到襯底層,其中,

34、所述襯底層包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,所述非顯示區(qū)域圍繞所述顯示區(qū)域,所述非顯示區(qū)域包括第一非顯示區(qū)域和第二非顯示區(qū)域,所述第二非顯示區(qū)域設(shè)置于所述第一非顯示區(qū)域與所述顯示區(qū)域之間,所述第一非顯示區(qū)域包括虛擬切割線,所述顯示區(qū)域內(nèi)的至少兩層所述有機膜層之間設(shè)置有所述無機膜層,所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)的所述無機膜層的總厚度值為第一數(shù)值,所述顯示區(qū)域內(nèi)的所述無機膜層的總厚度值為第二數(shù)值,所述第一數(shù)值小于所述第二數(shù)值;

35、沿所述虛擬切割線切割,以得到多個顯示面板。

36、在一些實施方式中,所述分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層,包括:

37、分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層;

38、去除所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)的至少一層所述無機膜層。

39、在一些實施方式中,所述分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層,包括:

40、分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層;

41、減薄所述第一非顯示區(qū)域內(nèi)的至少一層所述無機膜層的厚度。

42、本申請實施例的第三方面,提供一種顯示裝置,包括:

43、如權(quán)利要求第一方面所述的顯示面板。

44、本申請實施例提供的顯示面板,通過在至少兩層有機膜層之間設(shè)置至少一層無機膜層,第一非顯示區(qū)域的無機膜層的厚度小于第二非顯示區(qū)域的無機膜層的厚度。通過將虛擬切割線設(shè)置在第一非顯示區(qū)域,減少了虛擬切割線所在區(qū)域的無機膜層厚度,減小有機膜層之間的間隙,使得切割邊界處有機膜層之間的結(jié)合力增強。可以避免在出現(xiàn)碰撞和跌落的情況下顯示面板的膜層發(fā)生脫落,提高顯示面板的抗摔和抗碰撞性能,延長顯示面板的使用壽命。



技術(shù)特征:

1.一種顯示面板,其特征在于,包括:襯底層,襯底層包括層疊設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,還包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,還包括:

8.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,應(yīng)用于權(quán)利要求1至7中任一項所述的顯示面板,所述顯示面板的制備方法包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板制備方法,其特征在于,所述分別設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層,包括:

10.一種顯示裝置,其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請公開一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置,涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,能夠提高顯示面板邊框的性能,延長顯示裝置的使用壽命。顯示面板包括襯底層,襯底層包括層疊設(shè)置至少兩層有機膜層和至少兩層無機膜層;襯底層包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域,非顯示區(qū)域圍繞顯示區(qū)域;非顯示區(qū)域包括第一非顯示區(qū)域和第二非顯示區(qū)域,第二非顯示區(qū)域設(shè)置于第一非顯示區(qū)域與顯示區(qū)域之間,第一非顯示區(qū)域包括虛擬切割線;顯示區(qū)域內(nèi)的至少兩層有機膜層之間設(shè)置有無機膜層,第一非顯示區(qū)域內(nèi)的無機膜層的總厚度值為第一數(shù)值,顯示區(qū)域內(nèi)的無機膜層的總厚度值為第二數(shù)值,第一數(shù)值小于第二數(shù)值。

技術(shù)研發(fā)人員:許文靜,張鍇,王格,陶濤,楊凱祥,穆澤南
受保護的技術(shù)使用者:京東方科技集團股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/19
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