一個或多個實施例涉及一種顯示設備。

背景技術：

1、通常，顯示設備具有顯示區(qū)域，并且多個像素位于該顯示區(qū)域中。

技術實現(xiàn)思路

1、本公開的目的在于提供一種顯示設備，其能防止在制造工藝中產(chǎn)生缺陷像素或者減小缺陷像素產(chǎn)生率。

2、實施例涉及一種顯示設備，所述顯示設備包括：基底，所述基底包括顯示區(qū)域和在所述顯示區(qū)域外部的周邊區(qū)域；第一絕緣層，所述第一絕緣層跨過所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域中的所述基底，所述第一絕緣層包括位于所述顯示區(qū)域中的多個第一接觸孔、位于所述周邊區(qū)域中的多個第二接觸孔以及位于所述多個第一接觸孔和所述多個第二接觸孔之間的多個虛設接觸孔；填充所述多個第一接觸孔的多個第一布線；填充所述多個第二接觸孔的多個第二布線；以及第二絕緣層，所述第二絕緣層覆蓋所述第一布線和所述第二布線并且填充所述多個虛設接觸孔。

3、每個所述第一布線可以電連接至對應的一個所述第二布線。

4、每個所述第一布線可以與對應的一個所述第二布線一體形成。

5、每個所述第一布線可以包括與對應的一個所述第二布線相同的材料。

6、所述第一布線可以電連接至導電層。所述第二布線可以電連接至所述導電層。

7、所述顯示設備還可以包括多個第一半導體層，所述多個第一半導體層位于所述基底和所述第一絕緣層之間。面對所述第一絕緣層的所述多個第一半導體層中的每個第一半導體層的上表面的至少一部分位于所述多個第一接觸孔的下端，并且所述顯示設備還可以包括多個第二半導體層，所述多個第二半導體層位于所述基底和所述第一絕緣層之間，其中，面對所述第一絕緣層的所述多個第二半導體層中的每個第二半導體層的上表面的至少一部分位于所述多個第二接觸孔的下端。

8、所述顯示設備還可以包括多個虛設半導體層，所述多個虛設半導體層位于所述基底和所述第一絕緣層之間。面對所述第一絕緣層的所述多個虛設半導體層中的每個虛設半導體層的上表面的至少一部分位于所述多個虛設接觸孔的下端。

9、所述顯示區(qū)域的邊緣的至少一部分可以具有倒角形狀。所述多個虛設接觸孔可以位于鄰近具有所述倒角形狀的所述顯示區(qū)域的所述部分的位置。

10、所述顯示區(qū)域的邊緣可以包括第一部分和第二部分。所述多個第一接觸孔中的一些接觸孔和所述多個第二接觸孔中的一些接觸孔可以位于鄰近所述第一部分的位置。所述多個第一接觸孔中的其它接觸孔和所述多個第二接觸孔中的其它接觸孔可以位于鄰近所述第二部分的位置。所述多個虛設接觸孔可以位于鄰近所述第二部分的位置。

11、所述多個第一接觸孔中的所述一些接觸孔和所述多個第二接觸孔中的所述一些接觸孔之間的最短距離可以小于所述多個第一接觸孔中的所述其它接觸孔和所述多個第二接觸孔中的所述其它接觸孔之間的最短距離。

12、所述第二部分可以具有彎曲形狀。

13、所述顯示設備還可以包括導電材料層，所述導電材料層位于所述多個虛設接觸孔中。所述導電材料層的面對所述第二絕緣層的端部可以位于所述多個虛設接觸孔中。

14、所述第一布線的面對所述基底的表面可以直接接觸所述第一絕緣層的背對著所述基底的表面。

15、所述顯示設備還可以包括連接線，所述連接線將每個所述第一布線電連接至所述第二布線中的對應的第二布線。所述顯示區(qū)域的邊緣可以包括第一部分和第二部分。所述多個第一接觸孔中的一些接觸孔和所述多個第二接觸孔中的一些接觸孔可以位于鄰近所述第一部分的位置。所述多個第一接觸孔中的其它接觸孔和所述多個第二接觸孔中的其它接觸孔可以位于鄰近所述第二部分的位置。所述多個虛設接觸孔可以位于鄰近所述第二部分的位置。所述連接線可以包括在所述多個虛設接觸孔之間通過的第二連接線和與所述第二連接線不同的第一連接線。在所述第二連接線中的最靠近的第二連接線之間的最大距離可以大于在所述第一連接線中的最靠近的第一連接線之間的最大距離。

16、實施例還涉及一種顯示設備，所述顯示設備包括：基底，所述基底包括顯示區(qū)域和在所述顯示區(qū)域外部的周邊區(qū)域；第一絕緣層，所述第一絕緣層跨過所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域中的所述基底，所述第一絕緣層包括位于所述顯示區(qū)域中的多個第一接觸孔、位于所述周邊區(qū)域中的多個第二接觸孔以及位于所述多個第一接觸孔和所述多個第二接觸孔之間的多個虛設接觸孔；連接線，所述連接線電連接填充所述多個第一接觸孔中的每個第一接觸孔的材料和填充所述多個第二接觸孔中的對應的一個第二接觸孔的材料，并且所述連接線在所述多個虛設接觸孔之間通過。

技術特征：

1.一種顯示設備，其中，所述顯示設備包括：

2.根據(jù)權利要求1所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二驅(qū)動電路，所述第二驅(qū)動電路位于所述周邊區(qū)域中，

3.根據(jù)權利要求2所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：

4.根據(jù)權利要求2所述的顯示設備，其中，所述第一絕緣層還包括：多個附加虛設接觸孔，所述多個附加虛設接觸孔位于所述第一驅(qū)動電路和所述第二驅(qū)動電路之間。

5.根據(jù)權利要求4所述的顯示設備，其中，所述第二絕緣層填充所述多個附加虛設接觸孔。

6.根據(jù)權利要求2所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：虛設驅(qū)動電路，所述虛設驅(qū)動電路位于所述周邊區(qū)域中并且位于所述第一驅(qū)動電路和所述第二驅(qū)動電路之間。

7.根據(jù)權利要求6所述的顯示設備，其中，所述第一絕緣層還包括：多個第三虛設接觸孔，所述多個第三虛設接觸孔位于所述多個第一虛設接觸孔和所述多個第二虛設接觸孔之間并且位于所述虛設驅(qū)動電路和所述顯示區(qū)域之間。

8.根據(jù)權利要求7所述的顯示設備，其中，所述第二絕緣層填充所述多個第三虛設接觸孔。

9.根據(jù)權利要求1所述的顯示設備，其中，

10.根據(jù)權利要求1所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：導電材料層，所述導電材料層位于所述多個第一虛設接觸孔中，所述導電材料層的面對所述第二絕緣層的端部位于所述多個第一虛設接觸孔中。

11.一種顯示設備，其中，所述顯示設備包括：

12.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，所述多個第一虛設接觸孔位于緊鄰所述多個第一接觸孔的位置。

13.根據(jù)權利要求12所述的顯示設備，其中，所述多個第一接觸孔和所述多個第一虛設接觸孔的密度均勻。

14.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，

15.根據(jù)權利要求14所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：

16.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，所述多個第一虛設接觸孔中的每個第一虛設接觸孔的尺寸與所述多個第一接觸孔中的每個第一接觸孔的尺寸相同。

17.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：導電材料層，所述導電材料層位于所述多個第一虛設接觸孔中，所述導電材料層的面對所述第二絕緣層的端部位于所述多個第一虛設接觸孔中。

18.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，所述第二絕緣層完全填充所述多個第一虛設接觸孔。

19.根據(jù)權利要求11所述的顯示設備，其中，所述第二絕緣層直接接觸所述多個第一虛設接觸孔中的至少一個第一虛設接觸孔的底表面。

20.一種顯示設備，其中，所述顯示設備包括：

21.根據(jù)權利要求20所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層并且填充所述多個附加虛設接觸孔。

22.根據(jù)權利要求20所述的顯示設備，其中，所述第一絕緣層還包括：多個第一接觸孔，所述多個第一接觸孔位于所述顯示區(qū)域中；以及多個第一虛設接觸孔，所述多個第一虛設接觸孔在所述周邊區(qū)域中，使得所述多個第一虛設接觸孔位于鄰近所述顯示區(qū)域的所述邊緣的具有所述倒角形狀的所述部分的位置并且位于緊鄰所述多個第一接觸孔的位置。

23.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述多個第一接觸孔和所述多個第一虛設接觸孔的密度均勻。

24.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層并且填充所述多個附加虛設接觸孔和所述多個第一虛設接觸孔，其中，

25.根據(jù)權利要求24所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：

26.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述多個第一虛設接觸孔中的每個第一虛設接觸孔的尺寸與所述多個第一接觸孔中的每個第一接觸孔的尺寸相同。

27.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：

28.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層并且填充所述多個附加虛設接觸孔和所述多個第一虛設接觸孔，其中，所述第二絕緣層完全填充所述多個第一虛設接觸孔。

29.根據(jù)權利要求22所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層并且填充所述多個附加虛設接觸孔和所述多個第一虛設接觸孔，

30.根據(jù)權利要求20所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層，

31.根據(jù)權利要求30所述的顯示設備，其中，所述多個附加虛設接觸孔和所述多個第三接觸孔的密度均勻。

32.根據(jù)權利要求30所述的顯示設備，其中，

33.根據(jù)權利要求32所述的顯示設備，其中，所述多個附加虛設接觸孔、所述多個第三接觸孔和所述多個第四接觸孔的密度均勻。

34.根據(jù)權利要求1、11和22中任一項所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：

35.根據(jù)權利要求3、15和25中任一項所述的顯示設備，其中，所述第一絕緣層還包括位于所述多個第一虛設接觸孔和所述多個第二虛設接觸孔之間的多個第三虛設接觸孔。

36.根據(jù)權利要求35所述的顯示設備，其中，所述第二絕緣層填充所述多個第三虛設接觸孔。

37.根據(jù)權利要求1、11和22中任一項所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：多個第一半導體層，所述多個第一半導體層位于所述基底和所述第一絕緣層之間，其中，面對所述第一絕緣層的所述多個第一半導體層中的每個第一半導體層的上表面的至少一部分位于所述多個第一接觸孔的下端。

38.根據(jù)權利要求37所述的顯示設備，其中，所述顯示設備還包括：多個虛設半導體層，所述多個虛設半導體層位于所述基底和所述第一絕緣層之間，其中，所述多個虛設半導體層中的每個虛設半導體層的上表面的至少一部分位于所述多個第一虛設接觸孔的下端，所述上表面面對所述第一絕緣層。

技術總結
一種顯示設備，所述顯示設備包括：基底，所述基底包括顯示區(qū)域和在所述顯示區(qū)域外部的周邊區(qū)域；第一驅(qū)動電路，所述第一驅(qū)動電路位于所述周邊區(qū)域中；第一絕緣層，所述第一絕緣層跨過所述顯示區(qū)域和所述周邊區(qū)域中的所述基底，所述第一絕緣層包括位于所述顯示區(qū)域中的多個第一接觸孔、以及位于所述周邊區(qū)域中的多個第一虛設接觸孔，使得所述多個第一虛設接觸孔位于所述多個第一接觸孔和所述第一驅(qū)動電路之間；以及第二絕緣層，所述第二絕緣層設置為跨過所述第一絕緣層并且填充所述多個第一虛設接觸孔。

技術研發(fā)人員：玄宙羲,方鉉喆,鄭煐澤
受保護的技術使用者：三星顯示有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2024/12/19