本實(shí)用新型涉及烹飪器具
技術(shù)領(lǐng)域：
，特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡單方便等優(yōu)勢，基于電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤組件是電磁烹飪器具的重要組件之一，其包括線圈盤座、安裝于線圈盤座上的線圈繞組以及磁條，線圈繞組通電產(chǎn)生的高頻交變電磁場而使得鍋具產(chǎn)生渦流得以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈組件的加熱中心位于線圈盤座的中心區(qū)域，如此，則導(dǎo)致線圈盤組件的整體加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件，旨在解決線圈盤組件加熱不均勻的問題，改善線圈盤組件的加熱效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出的線圈盤組件，其包括：線圈盤座，呈圓形設(shè)置，所述線圈盤座為純凹式線圈盤座，并具有呈下凹設(shè)置的盤底、以及自所述盤底的外周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部；以及，異形線圈繞組，安裝于所述線圈盤座的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置，所述異形線圈繞組具有沿其周向間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向上凸出而形成，相鄰的兩個(gè)所述凸部之間為線槽凹部。優(yōu)選地，所述多個(gè)凸部沿所述異形線圈繞組的周向均勻排布。優(yōu)選地，所述多個(gè)凸部均呈圓弧狀設(shè)置。優(yōu)選地，所述多個(gè)凸部的曲率相同。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組采用疏繞方式繞置形成。優(yōu)選地，所述線圈盤組件還包括圓環(huán)形線圈繞組，所述圓環(huán)形線圈繞組安裝于所述線圈盤座的盤底。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組采用同心圓繞線方式繞置形成。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的線圈層數(shù)大于所述圓環(huán)形線圈繞組的線圈層數(shù)。優(yōu)選地，所述盤底中心的切面與所述盤底中心與所述環(huán)形側(cè)部的上端緣之間的連線呈0°～65°夾角設(shè)置。優(yōu)選地，所述線圈盤組件還包括多個(gè)磁條組，每一所述磁條組包括兩個(gè)磁條，每一所述磁條橫跨所述異形線圈繞組設(shè)置，而具有位于所述異形線圈繞組內(nèi)側(cè)的內(nèi)端和位于所述異形線圈繞組外側(cè)的外端，同一所述磁條組中的兩個(gè)磁條的內(nèi)端均位于一所述凸部所限定的區(qū)域內(nèi)，同一所述磁條組中的兩個(gè)磁條的外端分設(shè)于與所述凸部相鄰的兩個(gè)凹部所限定的區(qū)域內(nèi)。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤組件，所述線圈盤組件包括：線圈盤座，呈圓形設(shè)置，所述線圈盤座為純凹式線圈盤座，并具有呈下凹設(shè)置的盤底、以及自所述盤底的外周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部；以及，異形線圈繞組，安裝于所述線圈盤座的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置，所述異形線圈繞組具有沿其周向間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向上凸出而形成，相鄰的兩個(gè)所述凸部之間為線槽凹部。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實(shí)用新型通過在線圈盤組件的線圈盤座上設(shè)置異形線圈繞組，該異形線圈繞組具有沿其周向間隔設(shè)置的多個(gè)凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向上凸出形成，相鄰兩個(gè)凸部之間形成凹部。異形線圈繞組在接通高頻交流電時(shí)，異形線圈繞組的每一凸部所限定的區(qū)域和每一凹部所限定的區(qū)域的磁場強(qiáng)度都得到加強(qiáng)，進(jìn)而在異形線圈繞組的每一凸部所限定的區(qū)域和每一凹部所限定的區(qū)域都形成一加熱中心；并且每一凸部所限定區(qū)域內(nèi)的磁場與其相鄰的凹部所限定區(qū)域內(nèi)的磁場相互增大，如此，進(jìn)一步增大了異形線圈繞組的加熱效果，從而保證了線圈盤組件整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件的加熱效果。附圖說明為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型線圈盤組件一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤組件的另一視圖；圖3為圖1中異形線圈繞組和圓環(huán)形線圈繞組的半剖圖；圖4為本實(shí)用新型線圈盤組件另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。附圖標(biāo)號說明：標(biāo)號名稱標(biāo)號名稱100線圈盤組件21凸部10線圈盤座22凹部20異形線圈繞組30圓環(huán)形線圈繞組11盤底40磁條組12環(huán)形側(cè)部41磁條本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說明，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運(yùn)動(dòng)情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時(shí)，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。為了改善線圈盤組件的加熱效果，本實(shí)用新型提出一種新的線圈盤組件，請參照圖1，圖1示出了本實(shí)用新型的線圈盤組件的一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。該線圈盤組件100用于電磁烹飪器具，其包括線圈盤座10、異形線圈繞組20等部件。上述線圈盤座10用于供上述異形線圈繞組20安裝，該線圈盤座10呈圓形設(shè)置，且該線圈盤座10為純凹式線圈盤座，其具有呈下凹設(shè)置的盤底11、以及自盤底11的外周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部12。需要說明的是，上述盤底11的內(nèi)表面呈球面、或者大致呈球面設(shè)置，上述環(huán)形側(cè)部12可以向盤底11的正上方延伸，也可以向盤底11的上方且向盤底11的外側(cè)傾斜延伸，在此不做具體的限定。優(yōu)選地，請參照圖2，上述線圈盤座10的盤底11中心的切面與該盤底11中心與環(huán)形側(cè)部12的上端緣之間的連線夾角為α，且0°＜α≤65°。需要說明的是，上述線圈盤座10的環(huán)形側(cè)部12遠(yuǎn)離盤底11一側(cè)的開口張角的大小與上述α有關(guān)，α越小，則環(huán)形側(cè)部12遠(yuǎn)離盤底11一側(cè)的開口張角越大，其可供底部呈平板狀或者接近平板狀的鍋具放置；α越大，則環(huán)形側(cè)部12遠(yuǎn)離盤底11一側(cè)的開口張角越小，此時(shí)該線圈盤座10可供底部呈錐狀、弧狀或者近似錐狀或弧狀的鍋具放置?？梢岳斫獾氖?，上述線圈盤座10的盤底11與環(huán)形側(cè)部12上端緣的連線與水平面的夾角的大小可以根據(jù)實(shí)際情況設(shè)置，在此不做具體的限定。上述線圈盤座10可以通過模具注塑一體成型，也可以通過焊接或者其他連接方式將盤底11和環(huán)形側(cè)部12固定連接，在此對線圈盤座10的成型方式不做具體的限定。上述線圈盤座10優(yōu)選采用耐熱性能較好的塑料制成，由于塑料密度，如此可降低線圈盤座10整體的重量，進(jìn)而能夠降低安裝有該線圈盤座10的電磁烹飪器具的重量。當(dāng)然，上述線圈盤座10還可以采用其他耐熱材料制成，在此就不一一介紹了。上述異形線圈繞組20安裝于上述線圈盤座10的環(huán)形側(cè)部12，需要說明的是，該異形線圈繞組20可以安裝至環(huán)形側(cè)部12的內(nèi)壁面，也可以安裝至環(huán)形側(cè)部12的外壁面，在此不做具體的限定。上述異形線圈繞組20呈環(huán)形設(shè)置，并且該異形線圈繞組20具有沿其周向間隔設(shè)置的多個(gè)凸部21，每一凸部21由異形線圈繞組20的一部分相對相鄰部分向上凸出形成，相鄰兩個(gè)凸部21之間形成凹部22。在線圈盤組件100中，加熱區(qū)域的分布與磁場強(qiáng)度的分布基本相對應(yīng)，即線圈盤組件100的磁場較強(qiáng)的區(qū)域，加熱效果也較強(qiáng)。異形線圈繞組20接通高頻交流電所激發(fā)的磁場分布情況可根據(jù)安培定則確定，電流沿繞設(shè)異形線圈繞組20的導(dǎo)線流動(dòng)，每一凸部21對應(yīng)形成一磁場較強(qiáng)的小區(qū)域，每一凹部22對應(yīng)形成一磁場較強(qiáng)的小區(qū)域，進(jìn)而在每一凸部21所限定的區(qū)域和每一凹部22所限定的區(qū)域均形成一加熱中心，也就是說，具有多個(gè)凸部21的異形線圈繞組20的環(huán)周上分布有多個(gè)加熱中心；并且每一凸部21所限定區(qū)域內(nèi)的磁場與其相鄰的凹部22所限定區(qū)域內(nèi)的磁場相互增大，如此，進(jìn)一步增大了異形線圈繞組20的加熱效果，從而保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。本實(shí)用新型通過在線圈盤組件100的線圈盤座10上設(shè)置異形線圈繞組20，該異形線圈繞組20具有沿其周向間隔設(shè)置的多個(gè)凸部21，每一凸部21由異形線圈繞組20的一部分相對相鄰部分向上凸出形成，相鄰兩個(gè)凸部21之間形成凹部22。異形線圈繞組20在接通高頻交流電時(shí)，異形線圈繞組20的每一凸部21所限定的區(qū)域和每一凹部22所限定的區(qū)域的磁場強(qiáng)度都得到加強(qiáng)，進(jìn)而在異形線圈繞組20的每一凸部21所限定的區(qū)域和每一凹部22所限定的區(qū)域都形成一加熱中心；并且每一凸部21所限定區(qū)域內(nèi)的磁場與其相鄰的凹部22所限定區(qū)域內(nèi)的磁場相互增大，如此，進(jìn)一步增大了異形線圈繞組20的加熱效果，從而保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。為了避免上述異形線圈繞組20出現(xiàn)加熱效果弱的加熱盲區(qū)，上述異形線圈繞組20上的多個(gè)凸部21沿異形線圈繞組20的周向均勻排布。也就是說，上述異形線圈繞組20上的多個(gè)凹部22也沿異形線圈繞組20的周向均勻排布。如此設(shè)置，使得異形線圈繞組20上的多個(gè)加熱中心沿其周向均勻分布，進(jìn)而保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。需要說明的是，為了避免多個(gè)加熱中心之間形成加熱效果弱的加熱盲區(qū)，加熱中心的數(shù)量不宜過少；為了避免相鄰的兩加熱中心重疊相連，加熱中心的數(shù)量不宜過多。對于異性線圈繞組上的凸部21的數(shù)量，可以參考異性線圈繞組的具體尺寸來設(shè)定，在此就不做具體的限定。上述異形線圈繞組20的多個(gè)凸部21均呈圓弧狀設(shè)置。需要說明的是，在本實(shí)用新型的實(shí)施例中，上述異形線圈繞組20是由繞線機(jī)將導(dǎo)線直接繞置于線圈盤座10上形成的，將異形線圈繞組20的每一凸部21設(shè)置呈圓弧狀，便于繞線機(jī)繞線，進(jìn)而方便異形線圈繞組20的繞置。顯然，上述異形線圈繞組20的多個(gè)凸部21還可以呈V型、U型等其他形狀設(shè)置，在此就不一一贅述了。上述異形線圈繞組20的多個(gè)凸部21的曲率均相同。也就是說，異形線圈繞組20上的多個(gè)凸部21的弧長均相等，如此設(shè)置，保證了異形線圈繞組20的多個(gè)凸部21產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度一致，從而保證了異形線圈繞組20的每一凸部21的加熱效果相等，進(jìn)而保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。為了進(jìn)一步提高異形線圈繞組20的加熱效果，上述異形線圈繞組20采用疏繞方式繞置形成。也就是說，上述異形線圈繞組20包括沿上下向依次疊加的多層線圈。根據(jù)安培定律可知，磁場強(qiáng)度還與通電線圈匝數(shù)有關(guān)，通電線圈匝數(shù)越多，則產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度越強(qiáng)。由于上述異形線圈繞組20由多層線圈構(gòu)成，在上述異形線圈繞組20通高頻交變電流時(shí)，其產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度也進(jìn)一步得到增強(qiáng)，也即，異形線圈繞組20的每一凸部21所限定的區(qū)域和每一凹部22所限定的區(qū)域的磁場強(qiáng)度都得到提高，從而提高了該異形線圈繞組20的加熱效果，進(jìn)而保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。上述線圈盤還包括圓環(huán)形線圈繞組30，該圓環(huán)形線圈繞組30安裝于線圈盤座10的盤底11。需要說明的是，該圓環(huán)形線圈繞組30可以安裝于盤底11的內(nèi)表面，也可以安裝于盤底11的外表面。根據(jù)安培定則，上述圓環(huán)形線圈繞組30所產(chǎn)生的磁場沿其周向均勻分布，在線圈盤座10的中心區(qū)域形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，如圖4所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域?yàn)閳A環(huán)形線圈繞組30所形成的加熱區(qū)域。圓環(huán)形線圈繞組30的設(shè)置，保證了線圈盤座10的中部的加熱效果，由于上述異形線圈繞組20的設(shè)置，加強(qiáng)了線圈盤座10的環(huán)形側(cè)部12的加熱效果，進(jìn)而使得線圈盤座10的盤體和環(huán)形側(cè)部12的加熱效果基本相當(dāng)，保證了線圈盤組件100整體加熱的均勻性，改善了線圈盤組件100的加熱效果。上述圓環(huán)形線圈繞組30采用同心圓繞線方式繞置形成。即繞線機(jī)繞盤底11的中心做圓周運(yùn)動(dòng)，同時(shí)向靠近環(huán)形側(cè)部12的方向移動(dòng)，以將導(dǎo)線繞置于線圈盤座10的盤底11，形成上述圓環(huán)形線圈繞組30。如此設(shè)置，方便圓環(huán)形線圈繞組30的繞置。請參照圖3，上述異形線圈繞組20的線圈層數(shù)大于圓環(huán)形線圈繞組30的線圈層數(shù)。需要說明的是，根據(jù)安培定律可知，磁場強(qiáng)度與通電線圈匝數(shù)有關(guān)，通電線圈匝數(shù)越多，則通電線圈產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度越強(qiáng)。由于線圈盤座10的盤底11區(qū)域所產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度強(qiáng)于線圈盤座10的環(huán)形側(cè)部12所產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度，如此，則會(huì)造成線圈盤座10的盤底11區(qū)域的加熱效果好于線圈盤座10的環(huán)形側(cè)部12的加熱效果，進(jìn)而造成線圈盤組件100整體加熱不均。將異形線圈繞組20的線圈層數(shù)設(shè)置成大于圓環(huán)形線圈繞組30的線圈層數(shù)，如此，可縮小異形線圈繞組20通電時(shí)產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度與圓環(huán)形線圈繞組30通電時(shí)所產(chǎn)生的磁場強(qiáng)度之間的差距，進(jìn)而使得線圈盤組件100整體的加熱效果更均勻，有利于改善了線圈盤組件100的加熱效果。為了提高異形線圈繞組20的通電時(shí)所產(chǎn)生的磁場的強(qiáng)度，請參照圖4，上述線圈盤組件100還設(shè)置有多個(gè)磁條41組40，且每一磁條41組40對應(yīng)一凸部21設(shè)置。具體的，上述每一磁條41組40包括兩個(gè)磁條41，每一磁條41橫跨異形線圈繞組20設(shè)置而具有位于異形線圈繞組20內(nèi)側(cè)的內(nèi)端和位于異形線圈繞組20外側(cè)的外端，同一磁條41組40中的兩個(gè)磁條41的內(nèi)端均位于同一凸部21所限定的區(qū)域內(nèi)，同一磁條41組40中的兩個(gè)磁條41的外端分設(shè)于鄰近該凸部21相鄰的兩個(gè)凹部22所限定的區(qū)域內(nèi)。由于在線圈盤座10中，加熱區(qū)域的分布與磁場強(qiáng)度的分布基本相對應(yīng)，即線圈盤座10中磁場較強(qiáng)的區(qū)域，加熱效果也較強(qiáng)。同時(shí)由于磁條41的聚磁作用，則上述每一異形線圈繞組20的凸部21的磁場強(qiáng)度得到增強(qiáng)，每一異形線圈繞組20的凹部22的磁場強(qiáng)度同樣得到增強(qiáng)，從而使得整個(gè)異形線圈繞組20的加熱效果得到提高，也使得線圈盤組件100整體的加熱更加均勻，改善了線圈盤組件100的加熱效果。本實(shí)用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤組件，該線圈盤組件的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是在本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3