本實用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤組件和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡單方便等優(yōu)勢，基于電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤組件是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產(chǎn)生的高頻交變電磁場在鍋具中產(chǎn)生渦流以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈盤組件中，由于磁場分布和散熱條件的不均，導(dǎo)致線圈盤組件內(nèi)部的加熱效果更強，在線圈盤組件的盤心區(qū)域形成一加熱中心，導(dǎo)致線圈盤組件整體加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤組件，旨在解決上述線圈盤組件加熱不均勻的問題，改善線圈盤組件的加熱效果。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的線圈盤組件，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及多個線圈繞組，多個線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，每一所述線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，所述多個線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的匝數(shù)為4～16匝。優(yōu)選地，至少一個所述線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組的匝數(shù)為4～16匝。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組設(shè)于所述異形線圈繞組的內(nèi)側(cè)。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組設(shè)于所述圓環(huán)形線圈繞組的內(nèi)側(cè)。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的匝數(shù)與所述圓環(huán)形線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.5。優(yōu)選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優(yōu)選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組設(shè)于所述盤底或所述側(cè)部。本實用新型進一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤組件，所述線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及多個線圈繞組，多個線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，每一所述線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個所述線圈繞組為異形線圈繞組，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，所述多個線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的所述線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個線圈繞組設(shè)于線圈盤座，呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，以在相應(yīng)區(qū)域內(nèi)形成強度足夠的磁場，產(chǎn)生加熱效果。在多個線圈繞組中，至少一個為異形線圈繞組，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，異形線圈繞組產(chǎn)生磁場強弱間隔分布的區(qū)域，進而形成多個加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈盤組件中，加熱中心位于線圈盤組件的內(nèi)部區(qū)域而導(dǎo)致的加熱不均勻情況。多個線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，為了使線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域和周圍區(qū)域的磁場強度相當(dāng)，進而改善線圈盤組件加熱的均勻性，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，以補償線圈盤組件內(nèi)側(cè)和外側(cè)的磁場差異，改善線圈盤組件的加熱效果。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實用新型線圈盤組件一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖；圖3為本實用新型線圈盤組件另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中線圈盤組件的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號說明：標(biāo)號名稱標(biāo)號名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環(huán)形線圈繞組具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實用新型要求的保護范圍之內(nèi)。本實用新型提出一種線圈盤組件。在本實用新型實施例中，如圖1所示，該線圈盤組件用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及多個線圈繞組，多個線圈繞組設(shè)于線圈盤座100，每一線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈，至少一個線圈繞組為異形線圈繞組200，異形線圈繞組200具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，多個線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7。具體的，在線圈盤組件中，由于磁場分布和散熱條件的不同，通常線圈盤組件內(nèi)部的加熱效果更強，從而形成一加熱中心，導(dǎo)致線圈盤組件整體的加熱不均勻。通過設(shè)置沿環(huán)周間隔分布有多個凸部210的異形線圈繞組200，形成磁場強弱間隔分布的區(qū)域，進而形成多個分散的加熱中心，以改善線圈盤組件加熱的均勻性。如圖2所示，異形線圈繞組200所在區(qū)域的虛線圍成的閉合區(qū)域為其產(chǎn)生的多個分散的加熱中心。每一線圈繞組通常包括多匝內(nèi)外串聯(lián)設(shè)置的線圈，以增大磁場強度，加強加熱效果。線圈具有疏繞和密繞兩種繞設(shè)方式，以滿足相應(yīng)的需求。線圈繞組所產(chǎn)生的磁場的強度與其匝數(shù)相關(guān)，匝數(shù)越多，磁場越強，在線圈盤組件中，通過設(shè)置外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)和內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，使線圈盤組件中多個線圈繞組所產(chǎn)生的磁場的整體強度在線圈盤座的盤面上均勻分布，以補償線圈盤組件中的磁場差異，避免線圈盤組件的外側(cè)或內(nèi)側(cè)的局部磁場過強或過弱，從而改善加熱的均勻性，進而改善線圈盤組件的加熱效果。本實用新型技術(shù)方案的線圈盤組件中，多個線圈繞組設(shè)于線圈盤座100，每一線圈繞組呈環(huán)形設(shè)置且包括多匝線圈。在多個線圈繞組中，至少一個為異形線圈繞組200，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，異形線圈繞組200產(chǎn)生磁場強弱間隔分布的區(qū)域，進而形成多個加熱中心，從而避免了傳統(tǒng)的線圈繞組中內(nèi)部磁場較強、加熱不均勻的情況。多個線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置，為了使線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域和周圍區(qū)域的磁場強度相當(dāng)，進而提高線圈盤組件加熱的均勻性，外側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)與內(nèi)側(cè)的線圈繞組的匝數(shù)的比值為0.6～1.7，以避免線圈盤組件內(nèi)部和外圍的磁場產(chǎn)生明顯差異，改善線圈盤組件的加熱效果。在本實用新型的實施例中，異形線圈繞組200的匝數(shù)N1為4～16匝。異型線圈繞組200的匝數(shù)越多，所產(chǎn)生的磁場越強，然而，在線圈盤組件的尺寸一定的情況下，異型線圈繞組200最外匝的線圈的尺寸有一定的限制，具有一與線圈盤座的尺寸相應(yīng)的最大尺寸，而隨著異形線圈繞組200的匝數(shù)的增多，位于內(nèi)側(cè)的線圈中，凸部210與相鄰兩凸部210之間的凹部220的連接區(qū)域的轉(zhuǎn)折將增大，一方面容易導(dǎo)致相鄰的加熱中心重疊相連，另一方面，使異形線圈繞組200的繞設(shè)工藝難度增大，因此，異形線圈繞組200的匝數(shù)不能過多，綜上所述，異形線圈繞組的匝數(shù)N1在4～16匝之間。在本實用新型的實施例中，如圖1和圖3所示，至少一個線圈繞組為圓環(huán)形線圈繞組300。根據(jù)安培定則，圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場沿環(huán)周均勻分布，如圖2和圖4中圓環(huán)形線圈繞組300所在區(qū)域的虛線所示，在線圈盤組件中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而在線圈盤組件內(nèi)產(chǎn)生范圍較大的連續(xù)加熱區(qū)域，改善線圈盤組件的加熱效果。進一步的，圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2為4～16匝。在線圈盤組件的尺寸一定的情況下，為了合理分配異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300的設(shè)置空間，避免圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)過多導(dǎo)致異形線圈繞組200的分布空間減小而增加繞設(shè)難度，同時，保障圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場強度，避免線圈盤組件因磁場強度不均而導(dǎo)致加熱效果的不均，圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2為4～16匝。在本實用新型的一實施例中，如圖1所示，圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)。考慮到異形線圈繞組200的繞制工藝，其尺寸較大時，相應(yīng)的繞制工藝更簡單，將圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)于異形線圈繞組200的內(nèi)側(cè)，在線圈盤組件的內(nèi)部中心區(qū)域形成圓形的連續(xù)加熱區(qū)域，有利于填補異形線圈繞組200內(nèi)部的加熱盲區(qū)，改善線圈盤組件加熱的均勻性。進一步的，異形線圈繞組200的匝數(shù)N1與圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)N2的比值N1/N2為0.6～1.5。通常，線圈盤組件呈圓形設(shè)置，當(dāng)線圈盤組件的直徑較小時，線圈盤組件的內(nèi)部中心磁場與周圍磁場的強度差別較小，同時，為了便于異形線圈繞組200的繞制，N1/N2的值較?。划?dāng)線圈盤組件的直徑較大時，線圈盤組件的內(nèi)部中心磁場與周圍磁場的強度較大，且異形線圈繞組200的設(shè)置空間較大，此時，可適當(dāng)增加異形線圈繞組200的匝數(shù)，以補償內(nèi)外磁場的差異，使線圈盤組件的加熱效果更加均勻。在本實用新型的另一實施例中，如圖3所示，異形線圈繞組200設(shè)于圓環(huán)形線圈繞組300的內(nèi)側(cè)，從而在線圈盤組件內(nèi)部中心區(qū)域形成多個分散的加熱中心，以滿足相應(yīng)的加熱需求。進一步的，異形線圈繞組200的匝數(shù)與圓環(huán)形線圈繞組300的匝數(shù)的比值N1/N2為0.6～1.5，以保持線圈盤組件的內(nèi)外磁場強度相當(dāng)，且避免異形線圈繞組200的繞設(shè)困難。在上述實施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環(huán)形線圈繞組300繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對平底鍋具進行加熱。在上述實施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，線圈盤座100包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組200設(shè)于盤底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于盤底時，盤底形成分散的加熱中心；當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于側(cè)部時，側(cè)部形成分散的加熱中心，以滿足不同情況下的烹飪需求。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤組件，該線圈盤組件的具體結(jié)構(gòu)參照上述實施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3