1.一種等離子表面處理裝置，其特征在于，包括殼體、等離子噴嘴、旋轉(zhuǎn)頸、絕緣體、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、電離機(jī)構(gòu)、金屬件和電極，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出軸、絕緣體和電離機(jī)構(gòu)分別為中空結(jié)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)頸的一端設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出軸上，所述等離子噴嘴設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)頸的另一端，所述電離機(jī)構(gòu)的一端穿過所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出軸的中空處并套設(shè)于所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的動(dòng)力輸出軸的中空結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述電離機(jī)構(gòu)的另一端固定于所述殼體上，所述絕緣體的一端設(shè)置于所述電離機(jī)構(gòu)的一端上，所述絕緣體的另一端由所述旋轉(zhuǎn)頸設(shè)置于動(dòng)力輸出軸上的一端伸入所述旋轉(zhuǎn)頸內(nèi)部；
所述金屬件設(shè)置于絕緣體的中空結(jié)構(gòu)內(nèi)，所述金屬件為中空的環(huán)形結(jié)構(gòu)，所述電極設(shè)置于金屬件的中空處，所述金屬件上設(shè)有兩個(gè)以上的排氣孔，所述排氣孔的孔壁的表面朝等離子噴嘴方向傾斜設(shè)置，所述排氣孔的孔壁的表面朝等離子噴嘴方向依次包括第一傾斜面和第二傾斜面，所述第一傾斜面和第二傾斜面連接，所述第一傾斜面和第二傾斜面分別為平面或圓弧面，所述第一傾斜面和第二傾斜面中的至少一個(gè)為圓弧面，所述平面的傾斜角度為40-85°，所述圓弧面的弧度為45-70°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述第一傾斜面和第二傾斜面的傾斜方向分別相同，所述第一傾斜面和第二傾斜面的傾斜角度分別相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述第一傾斜面和第二傾斜面分別為圓弧面，圓弧面的所述第一傾斜面和第二傾斜面連接后形成S形。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述第一傾斜面為圓弧面，所述第二傾斜面為平面，所述平面的傾斜角度為50-80°，所述圓弧面的弧度為60-70°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述排氣孔設(shè)置于環(huán)形結(jié)構(gòu)的所述金屬件的邊緣位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，還包括固定板，所述電離機(jī)構(gòu)的另一端固定于固定板上，所述殼體為中空結(jié)構(gòu)，所述固定板固定于殼體上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，還包括導(dǎo)熱板，所述導(dǎo)熱板貼合設(shè)置于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的表面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為磁動(dòng)力驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，還包括氧化層，所述氧化層設(shè)置于驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的外表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子表面處理裝置，其特征在于，所述絕緣體的材質(zhì)為陶瓷。