本實(shí)用新型屬于回旋加速器設(shè)計(jì)技術(shù),具體涉及一種230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
根據(jù)回旋加速器的等時(shí)性原理,有
式中,Bcenter是中心磁場,c為光速,ω0為粒子回旋頻率,r為回旋半徑。給定磁場與回旋頻率Bcenter、ω0,由公式(1)可以給出理論等時(shí)場。根據(jù)公式(1),回旋加速器等時(shí)性磁場隨半徑遞增。
等時(shí)性回旋加速器的自由振蕩頻率近似表達(dá)式為:
式中調(diào)變度F由下式?jīng)Q定:
其中,<B>=α·Bhill+(1-α)·Bvalley (5)
α為磁極所占的比例,Bhill、Bvalley分別為中心平面上峰區(qū)與谷區(qū)的磁場,一般來說,Bhill>Bvalley。<B>為半徑r處的平均磁場。為了避免共振導(dǎo)致的束流損失,對于引出230MeV質(zhì)子的中能回旋加速器,磁極的葉片數(shù)N≥4,因此(3)式近似為(6)式:
式中
由(7)式知,當(dāng)回旋加速器平均磁場不再增加即附近的磁剛度最大,帶入到(6)式中得到νr=1附近磁剛度最大,即νr=1共振附近的磁剛度體現(xiàn)了回旋加速器最大加速能量的大小,通常等時(shí)性回旋加速器選擇在νr=1半徑之后引出,以便充分利用導(dǎo)向磁場。這時(shí),由于回旋加速器平均磁場隨半徑遞增到峰值后開始下降,引出點(diǎn)的磁場已經(jīng)處在平均磁場隨半徑下降的區(qū)域。由(7)式可知,引出點(diǎn)附近n>0,而且隨著平均磁場下降速度變快,n迅速變大。由(2)式可知,在引出點(diǎn)前有可能穿越νz=1的共振。在引出點(diǎn)前穿越νz=1的共振會(huì)造成軸向束流品質(zhì)變差。
為了降低引出點(diǎn)前軸向共振頻率νz,根據(jù)(2)式,需要減小引出點(diǎn)前小區(qū)域內(nèi)的場降落指數(shù)n;或者減小引出點(diǎn)前小區(qū)域內(nèi)調(diào)變度F;或者減小引出點(diǎn)前小區(qū)域內(nèi)螺旋角ξ。但減小場降落指數(shù)n意味著增加磁極半徑,會(huì)導(dǎo)致引出系統(tǒng)設(shè)計(jì)困難,引出電壓過高;局部小區(qū)域內(nèi)調(diào)變度F變化非常緩慢無法滿足局部變小的要求;減小引出點(diǎn)前小區(qū)域內(nèi)螺旋角ξ,會(huì)導(dǎo)致磁極凸出側(cè)輪廓在引出區(qū)附近出現(xiàn)急劇的反折角,直接加工難以保證加工出引出區(qū)所需的磁極輪廓線。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,提供一種230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),在不增加磁極半徑(不影響引出系統(tǒng)設(shè)計(jì))的條件下,降低引出點(diǎn)前軸向共振頻率νz,避免在引出點(diǎn)前穿越νz=1的共振。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),在磁極凸出側(cè)輪廓處開設(shè)圓滑過渡的缺口,采用與磁極同材質(zhì)的導(dǎo)磁材料墊塊在所開設(shè)的磁極凸出側(cè)缺口位置配合安裝;所述導(dǎo)磁材料墊塊的內(nèi)表面與磁極的凸出側(cè)缺口緊配合;導(dǎo)磁材料墊塊的外表面輪廓的前后端與磁極的凸出側(cè)缺口前后的輪廓圓滑過渡,并形成避免引出區(qū)有害共振所需的反折角。
進(jìn)一步,如上所述的230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),其中,對于單個(gè)磁極,所述的導(dǎo)磁材料墊塊是一個(gè)整體單件,或者是分拆為可拼接的多個(gè)配件的組合。
進(jìn)一步,如上所述的230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),其中,所述的導(dǎo)磁材料墊塊通過螺栓與磁極的凸出側(cè)缺口固定連接。
進(jìn)一步,如上所述的230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),其中,對于擁有多個(gè)磁極的回旋加速器,在每一個(gè)磁極的凸出側(cè)輪廓處開設(shè)圓滑過渡的缺口,缺口設(shè)置的導(dǎo)磁材料墊塊的形狀和尺寸相同。
進(jìn)一步,如上所述的230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu),其中,通過加工所述導(dǎo)磁材料墊塊的外表輪廓形狀來精細(xì)調(diào)節(jié)引出區(qū)的磁場。
本實(shí)用新型的有益效果如下:采用本實(shí)用新型的方案,在回旋加速器的磁場測量與墊補(bǔ)時(shí),可以通過機(jī)加工導(dǎo)磁材料墊塊的外表面輪廓來局部精細(xì)調(diào)節(jié)引出區(qū)的磁場,避免對整個(gè)磁極加工的難度,改善束流在引出區(qū)的共振。本實(shí)用新型在不增加磁極半徑(不影響引出系統(tǒng)設(shè)計(jì))的條件下,降低引出點(diǎn)前軸向共振頻率νz,避免在引出點(diǎn)前穿越νz=1的共振,防止由該共振造成的引出束流軸向品質(zhì)變差,減小引出區(qū)的束流損失,進(jìn)而減小加速器維護(hù)人員所受的輻照劑量。
附圖說明
圖1為230MeV超導(dǎo)回旋加速器的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為采用本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)墊補(bǔ)磁極后磁場及粒子跟蹤計(jì)算的結(jié)果示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的描述。
230MeV超導(dǎo)回旋加速器的結(jié)構(gòu)如圖1所示,圖中5為磁極,呈螺旋形,這是本領(lǐng)域的公知技術(shù)。如圖2所示,本實(shí)用新型采用磁極墊補(bǔ)的方式解決束流在引出區(qū)共振的問題,所提供的230MeV超導(dǎo)回旋加速器避免引出區(qū)有害共振的磁極結(jié)構(gòu)如下:在磁極1凸出側(cè)輪廓處開設(shè)圓滑過渡且容易加工的缺口3,采用與磁極1同樣材質(zhì)的導(dǎo)磁材料墊塊2對磁極進(jìn)行墊補(bǔ),通過螺栓4將導(dǎo)磁材料墊塊2與磁極1的凸出側(cè)缺口4配合安裝。導(dǎo)磁材料墊塊2的內(nèi)表面與磁極1的凸出側(cè)缺口3緊密配合;導(dǎo)磁材料墊塊2的外表面輪廓的前后端與磁極1的凸出側(cè)缺口3前后的輪廓圓滑過渡,并形成避免引出區(qū)有害共振所需的反折角。導(dǎo)磁材料墊塊2可以設(shè)計(jì)為滿足上述要求的任意形狀,可以通過機(jī)加工導(dǎo)磁材料墊塊的外表面輪廓來局部精細(xì)調(diào)節(jié)引出區(qū)的磁場。
對于單個(gè)磁極1,導(dǎo)磁材料墊塊2可以是整體單件;也可以分拆為可拼接的多個(gè)配件的組合,多個(gè)配件拼接配合安裝在磁極1的凸出側(cè)缺口4,組合后的墊塊整體應(yīng)滿足上述與磁極的凸出側(cè)缺口緊密配合且圓滑過渡的結(jié)構(gòu)要求。
一般來說,對于擁有多個(gè)磁極的回旋加速器,在每一個(gè)磁極的凸出側(cè)輪廓處開設(shè)圓滑過渡且容易加工的缺口,所有磁極的導(dǎo)磁材料墊塊2的形狀和尺寸應(yīng)當(dāng)一致。
實(shí)施例
以某中能超導(dǎo)回旋加速器為例。該加速器有四個(gè)磁極葉片,磁極半徑R=860mm。根據(jù)磁場計(jì)算,為了避免引出點(diǎn)前穿越νz=1的共振,從磁極半徑r=810mm開始出現(xiàn)反折角。從磁極半徑r=770mm開始,磁極凸出一側(cè)的輪廓設(shè)計(jì)加工缺口,增加導(dǎo)磁材料墊塊。磁極缺口處輪廓以及與其配合的導(dǎo)磁材料墊塊的內(nèi)表面輪廓為圓弧,圓弧半徑R為70mm,大于加工磁極所需的刀具半徑(42mm),便于加工;導(dǎo)磁材料墊塊的外表面輪廓的反折角θ為110度,經(jīng)過磁場及粒子跟蹤計(jì)算,由圖3計(jì)算結(jié)果表明,采用這樣的磁極缺口處輪廓以及與其配合的導(dǎo)磁材料墊塊尺寸,在出引出區(qū)之前,都可以使得νz<1,避免了νz=1的有害共振。
顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣,倘若對本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其同等技術(shù)的范圍之內(nèi),則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。