技術(shù)總結(jié)
描述具有方位角與徑向分布控制的多區(qū)域氣體注入組件。一種氣體注入系統(tǒng)包括：(a)側(cè)部氣體氣室；(b)耦接于所述側(cè)部氣體氣室的多數(shù)N個氣體入口；(c)從所述氣室徑向向內(nèi)延伸的數(shù)個側(cè)部氣體出口；(d)N通道氣體流率控制器，所述N通道氣體流率控制器具有分別耦接于所述N個氣體入口的N個輸出；及(e)M通道氣體流率控制器，所述M通道氣體流率控制器具有M個輸出，所述M個輸出的個別一者耦接于所述可調(diào)整的氣體噴嘴與所述N通道氣體流率控制器的氣體輸入。

技術(shù)研發(fā)人員：Y·羅森佐恩;K·坦蒂翁;I·優(yōu)素福;V·克尼亞齊克;B·基廷;S·巴納
受保護的技術(shù)使用者：應(yīng)用材料公司
文檔號碼：201610852971
技術(shù)研發(fā)日：2014.02.03
技術(shù)公布日：2017.01.04