本發(fā)明涉及顯示裝置和其制造方法。

背景技術(shù)：

作為電腦或便攜電話等信息通信終端等的顯示裝置，廣泛應(yīng)用具有一對基板的顯示裝置。作為這樣的顯示裝置，近年來具有撓性的顯示裝置得以開發(fā)。這樣的顯示裝置使用在具有撓性的樹脂基板上形成有薄膜晶體管的TFT(thin film transistor)基板，或者使用在樹脂基板上形成有彩色濾光片的彩色濾光片基板。

作為具有撓性的顯示裝置的制造方法，專利文獻(xiàn)1公開了在將TFT母基板與相對母基板粘貼后，按每個(gè)顯示區(qū)域切斷TFT基板和相對基板的方法。

進(jìn)而，專利文獻(xiàn)2公開了在聚酰亞胺的相對基板與黑矩陣一體化的部件覆蓋相對基板的周圍的構(gòu)造。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2006－185679號公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2014－149517號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的課題

作為制造中小型的顯示裝置的方法，已知有將大幅的拼板分割而得到所需尺寸的顯示裝置的方法。關(guān)于拼板，在由玻璃基板等形成的基體上形成多個(gè)中小型的顯示裝置之后，對該基體進(jìn)行劃線(例如，使用金屬等針劃出刻痕，或者用激光線劃出刻痕)，再將其切斷(沿著劃線形成的刻痕進(jìn)行切斷)，由此能夠得到多個(gè)顯示裝置。

在由上述方法制造撓性的顯示裝置時(shí)，將在基體形成有撓性的樹脂膜的部件切斷，在所制造的顯示裝置的側(cè)面，該樹脂膜的側(cè)面的截面暴露于外部。

此處，由于樹脂膜是缺乏水分阻隔性的，所以外部的水分可能通過樹脂膜進(jìn)入顯示裝置內(nèi)部。假如水分進(jìn)入了顯示裝置內(nèi)部，則會(huì)引起顯示不良等問題，使顯示裝置的可靠性降低。

本發(fā)明的目的是提供通過提高水分阻隔性而可靠性得到提高的顯示裝置和該顯示裝置的制造方法。

此外，本發(fā)明的上述目的和其它目的以及新的特征，根據(jù)本說明書的記載和附圖能夠明確。

用于解決課題的技術(shù)方案

本發(fā)明的顯示裝置的制造方法的特征在于，包括：準(zhǔn)備具有多個(gè)第一區(qū)域和包圍各個(gè)上述第一區(qū)域的形狀的第二區(qū)域的基體，避開上述第二區(qū)域地在上述多個(gè)第一區(qū)域形成樹脂層的工序；在上述第二區(qū)域形成防濕性比上述樹脂層高的埋入層的工序；在上述樹脂層和上述埋入層之上，形成包含對構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素分別控制亮度而進(jìn)行發(fā)光的自發(fā)光元件層的功能層的工序；和以通過上述第二區(qū)域的線切斷上述埋入層和上述功能層，將上述樹脂層與上述多個(gè)第一區(qū)域分別對應(yīng)地分離成多個(gè)部分的工序。

此外，本發(fā)明的顯示裝置的特征在于，包括：第一樹脂層；在上述第一樹脂層的周圍，以具有載置在上述第一樹脂層的上表面的部分的方式設(shè)置的第一框體；層疊在上述第一樹脂層的上表面和上述第一框體的上表面，包含對構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素分別控制亮度而進(jìn)行發(fā)光的自發(fā)光元件層的功能層。

附圖說明

圖1是示意性地表示本發(fā)明的第一實(shí)施方式的顯示裝置的平面圖。

圖2是表示圖1的切斷線Ⅱ-Ⅱ的截面的圖，是表示第一實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。

圖3是將圖2的由虛線Ⅲ包圍的區(qū)域放大表示的圖。

圖4是表示第二實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

圖5是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的流程圖。

圖6A是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第一基體層疊有第一樹脂層的狀態(tài)的圖。

圖6B是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示除去了第一樹脂層的一部分的狀態(tài)的圖。

圖6C是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有第一埋入層的狀態(tài)的圖。

圖6D是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有包含自發(fā)光元件層的第一功能層的狀態(tài)的圖。

圖6E是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第二基體層疊有第二樹脂層的狀態(tài)的圖。

圖6F是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示除去第二樹脂層的一部分后形成有第二埋入層的狀態(tài)的圖。

圖6G是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有包含彩色濾光片層的第二功能層的狀態(tài)的圖。

圖6H是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將圖6D所示的第一基板和圖6G所示的第二基板粘貼后的狀態(tài)的圖。

圖6I是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將拼板按與顯示裝置相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元切斷的狀態(tài)的圖。

圖6J是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第一、第二基體剝離后的狀態(tài)的圖。

圖6K是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示安裝保護(hù)膜，第一實(shí)施方式的顯示裝置完成后的狀態(tài)的圖。

圖7是表示第三實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

圖8是表示第四實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

圖9A是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第一基體層疊有第一樹脂層的狀態(tài)的圖。

圖9B是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示除去了第一樹脂層的一部分的狀態(tài)的圖。

圖9C是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有第一埋入層的狀態(tài)的圖。

圖9D是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有包含自發(fā)光元件層的第一功能層的狀態(tài)的圖。

圖9E是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第二基體形成有第二樹脂層的狀態(tài)的圖。

圖9F是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第二樹脂層的一部分除去后形成有第二埋入層的狀態(tài)的圖。

圖9G是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是形成有包含彩色濾光片層的第二功能層的狀態(tài)的圖。

圖9H是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將圖9D所示的第一基板與圖9G所示的第二基板粘貼后的狀態(tài)的圖。

圖9I是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將拼板按與顯示裝置相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元切斷的狀態(tài)的圖。

圖9J是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第一、第二基體剝離后的狀態(tài)的圖。

圖9K是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示安裝保護(hù)膜，第三實(shí)施方式的顯示裝置完成后的狀態(tài)的圖。

附圖標(biāo)記說明

10、20 顯示裝置；100 第一基板；110 第一樹脂層；120 第一埋入層；130 第一功能層；131 TFT層；132 自發(fā)光元件層；132A 像素電極；132B 共用電極；132C 發(fā)光層；133 第一阻擋層；134 第二阻擋層；140 第一保護(hù)膜；200 第二基板；210 第二樹脂層；220 第二埋入層；230 第二功能層；231 彩色濾光片層；231R、231G、231B 著色層；232 第三阻擋層；300 密封件；400 填充件；500 第一基體；600 第二基體。

具體實(shí)施方式

[第一實(shí)施方式的顯示裝置]

首先，參照圖1～3說明本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置的概要。

圖1是示意性地表示本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置的平面圖。此外，圖2是表示圖1的切斷線Ⅱ‐Ⅱ的截面的圖，是表示第一實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的圖。圖3是將圖2的由虛線Ⅲ包圍的區(qū)域放大而表示的圖。

本發(fā)明第一實(shí)施方式的顯示裝置10包括第一基板100和作為相對基板的第二基板200，第一基板100具有包含自發(fā)光元件層132等的功能層。

首先說明第一基板100的結(jié)構(gòu)。第一基板100包括由撓性樹脂形成的第一樹脂層110和在第一樹脂層110上形成的第一功能層130。

第一樹脂層110由柔軟性優(yōu)良且具有撓性的材料形成，例如可以由聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)形成。

此外，也可以在第一樹脂層110的下表面?zhèn)?與后述的薄膜晶體管(TFT)層131相對的一側(cè)的相反側(cè))，安裝有將來自外部的水分阻隔的第一保護(hù)膜140。第一保護(hù)膜140例如可以由聚乙烯膜、鋁膜等形成。

此外，如圖2所示，在第一樹脂層110的側(cè)面部具有第一框體120，第一框體120設(shè)置成具有能夠載置在第一樹脂層110的上表面(與后述的TFT層131相對的一側(cè)的面)的部分。此外，如圖1所示，第一框體120設(shè)置在第一樹脂層110的周圍。

此外，為了將第一框體120以載置在第一樹脂層110的上表面的方式設(shè)置，可以使第一框體120的厚度比第一樹脂層110的厚度大。

另外，顯示裝置10所具有的第一框體120，在其制造方法中以埋入第一樹脂層110的周圍的方式形成，在后面詳細(xì)說明。因此，在后面對第一框體120的說明中，將其稱為第一埋入層120。

如圖3所示，第一埋入層120以埋入第一樹脂層110的周圍的方式形成，由此設(shè)置成具有載置于第一樹脂層110的上表面的部分。

此外，形成第一埋入層120的材料的防濕性比形成第一樹脂層110的材料的防濕性高。即，第一埋入層120的防濕性比第一樹脂層110的防濕性高。

此外，第一埋入層120也可以由無機(jī)材料形成。第一樹脂層110如上所述由聚酰亞胺等有機(jī)樹脂形成。有機(jī)樹脂與無機(jī)材料相比與水的親和性更高，因此容易吸入由外部的水蒸氣等引起的水分，因此防濕性低。

在假設(shè)外部的水分經(jīng)由第一樹脂層110侵入了顯示裝置10的內(nèi)部時(shí)，可能對自發(fā)光元件層132等產(chǎn)生不良影響，而引起顯示不良等。

顯示裝置10所具有的第一埋入層120，為了抑制來自外部的水分侵入顯示裝置10內(nèi)部，形成為覆蓋第一樹脂層110的外表面。而且，第一埋入層120以覆蓋至第一樹脂層110的上表面的一部分的方式設(shè)置，因此進(jìn)一步抑制水分向顯示裝置10內(nèi)部的侵入。

第一功能層130如圖2所示可以包括：TFT層131；在TFT層131的與第一樹脂層110相對的一側(cè)的相反側(cè)形成的自發(fā)光元件層132；在TFT層131與第一樹脂層110之間設(shè)置的第一阻擋層133；和在自發(fā)光元件層132的與TFT層131相對的一側(cè)的相反側(cè)形成的第二阻擋層134。

而且，如圖2所示，第二阻擋層134可以配置成包圍TFT層131的側(cè)面和自發(fā)光元件層132的端面。構(gòu)成第一功能層130的一部分的第一阻擋層133和第二阻擋層134保護(hù)第一功能層130的內(nèi)部不受來自外部的腐蝕性氣體、水分、金屬離子等的污染。

第一阻擋層133和第二阻擋層134例如也可以由Al₂O₃、SiO₂等金屬氧化物、SiN等金屬氮化物等形成。此外，第一阻擋層133和第二阻擋層134例如也可以使用CVD(chemical vapor deposition，化學(xué)氣相沉積)法、PVD法(physical vapor deposition，物理氣相沉積)、ALD(atomic layer deposition，原子層沉積)法形成。

此外，構(gòu)成第一功能層130的一部分的TFT層131中，在第一樹脂層110上矩陣狀地配置著具有薄膜晶體管(TFT)的像素。

構(gòu)成TFT層131的一部分的TFT可以包括：多晶硅等半導(dǎo)體膜；覆蓋半導(dǎo)體膜的柵極絕緣膜；隔著柵極絕緣膜配置在半導(dǎo)體膜的上方的柵極；和貫通柵極絕緣膜與半導(dǎo)體膜電連接的源極和漏極。此外，用于控制構(gòu)成TFT層131的多個(gè)TFT的控制電路(未圖示)，例如也可以配置在上述的第一樹脂層110上。

此外，構(gòu)成第一功能層130的一部分的自發(fā)光元件層132，設(shè)置成對各個(gè)構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素控制亮度而進(jìn)行發(fā)光。自發(fā)光元件層132包括共用電極132B、位于共用電極132B與TFT層131之間的多個(gè)像素電極132A、設(shè)置在共用電極132B與多個(gè)像素電極132A之間的發(fā)光層132C。

共用電極132B也可以由ITO(Indium Tin Oxide，銦錫氧化物)、IZO(Indium Zinc Oxide，銦鋅氧化物)等透明金屬的導(dǎo)電膜形成。

此外，本說明書中的發(fā)光層132C可以是有機(jī)發(fā)光層，也可以是以QLED(Quantum-dot Light Emitting Diode，量子點(diǎn)發(fā)光二極管)等為代表的無機(jī)發(fā)光層。此外，有機(jī)發(fā)光層可以包括電子輸送層、空穴輸送層、電子注入層、空穴注入層等。

第一實(shí)施方式中的顯示裝置10的發(fā)光層132C由發(fā)出單色(白色)的光的材料對多個(gè)像素電極132A連續(xù)地設(shè)置。作為其它方式，發(fā)光層132C也可以對各個(gè)像素電極132A分成多色(例如R(紅色)、G(綠色)、B(藍(lán)色)三色)的發(fā)光部而設(shè)置。

接著，說明第二基板200的結(jié)構(gòu)。第二基板200包括由撓性的樹脂形成的第二樹脂層210和在第二樹脂層210上形成的第二功能層230。

第二樹脂層210由柔軟性優(yōu)良且具有撓性的材料形成，例如可以由聚酰亞胺、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)形成。

此外，也可以在第二樹脂層210的上表面?zhèn)?與后述的彩色濾光片層231相對的一側(cè)的相反側(cè))安裝抑制來自外部的物理性損傷等的第二保護(hù)膜(未圖示)。第二保護(hù)膜例如也可以由聚乙烯膜等形成。

此外，在第二樹脂層210的側(cè)面部也可以具有以包圍第二樹脂層210的周圍的方式設(shè)置的第二框體220。此外，第二框體220也可以以在俯視時(shí)與第一框體120和后述的密封件300至少部分重疊的方式配置。

另外，以包圍第二樹脂層210的周圍的方式設(shè)置的第二框體220，在其制造方法中以埋入第二樹脂層210的周圍的方式形成，對此在后面詳細(xì)說明。因此，在后面的對第二框體220的說明中，將其稱為第二埋入層220。

此外，形成第二埋入層220的材料的防濕性比形成第二樹脂層210的材料高。

此外，第二埋入層220可以由無機(jī)材料形成。第二樹脂層210如上所述由聚酰亞胺等有機(jī)樹脂形成。在假設(shè)外部的水分經(jīng)由第二樹脂層210侵入第二基板200的內(nèi)部時(shí)，由于在第二基板200內(nèi)部產(chǎn)生霧氣等理由可能會(huì)引起顯示不良等。

顯示裝置10所具有的第二埋入層220，為了抑制來自外部的水分侵入顯示裝置10內(nèi)部，以覆蓋第二樹脂層210的側(cè)端面的方式形成。

第二功能層230如圖2所示可以包括彩色濾光片層231、在彩色濾光片層231的與第二樹脂層210相對的一側(cè)的相反側(cè)形成的第三阻擋層232。

構(gòu)成第二功能層230的一部分的彩色濾光片層231，也可以如圖2所示構(gòu)成為包括R(紅色)、G(綠色)、B(藍(lán)色)的著色層231R、231G、231B。從上述自發(fā)光元件層132發(fā)出的光為單色(白色)時(shí)，從自發(fā)光元件層132發(fā)出的光(白色)，由于通過各色的著色層231R、231G、231B而從外部看見R(紅色)、G(綠色)、B(藍(lán)色)的各個(gè)顏色。

彩色濾光片層231中包含的各個(gè)著色層231R、231G、231B可以通過在樹脂內(nèi)將R(紅色)、G(綠色)、B(藍(lán)色)各個(gè)顏色的顏料分布在內(nèi)部而形成。

此外，彩色濾光片層231，為了防止通過了各個(gè)顏色的區(qū)域的光進(jìn)入鄰接的其它顏色的區(qū)域，也可以在各色的著色層231R、231G、231B之間具有黑矩陣231K。此外，黑矩陣231K可以通過在樹脂內(nèi)將黑色顔料分布在內(nèi)部而形成。

另外，構(gòu)成第一功能層130的一部分的發(fā)光層132C分為多個(gè)顏色(例如R(紅色)、G(綠色)、B(藍(lán)色)三色)的發(fā)光部而設(shè)置，為所謂的分開涂敷方式的發(fā)光層132C時(shí)，第二功能層230也可以不包括彩色濾光片層231。

構(gòu)成第二功能層230的一部分的第三阻擋層232保護(hù)第二功能層230的內(nèi)部不受來自外部的腐蝕性氣體、水分、金屬離子等的污染。第三阻擋層232例如可以由Al₂O₃、SiO₂等金屬氧化物、SiN等金屬氮化物等形成。此外，第三阻擋層232例如可以使用CVD法、PVD法、ALD法形成。

第一實(shí)施方式的顯示裝置10可以通過上述說明的第一基板100與作為相對基板的第二基板200隔著密封件300(也稱為隔阻件)和/或填充件400(也稱為填充物)彼此粘貼而形成。

如圖2所示，第一實(shí)施方式的顯示裝置10中，構(gòu)成第一基板100的一部分的第二阻擋層134和第二基板200隔著填充件400和在俯視時(shí)以包圍填充件400的周圍的方式配置的密封件300彼此粘貼。

此外，如圖2所示，如上所述將第一基板100與第二基板200粘貼，由此第一阻擋層133和第二阻擋層134被密封件300和第一埋入層120夾著。

填充件400例如可以是光固化樹脂等。在填充件400由光固化樹脂形成時(shí)，可以在配置填充件400的區(qū)域的周緣設(shè)置密封件300，使固化前的光固化樹脂流入由密封件300包圍的區(qū)域，之后進(jìn)行光固化，由此進(jìn)行第一基板100和第二基板200的粘貼。

此外，為了在第一基板100與作為相對基板的第二基板200之間使兩基板的間隔均勻，可以設(shè)置有間隔件350。間隔件350可以僅設(shè)置在密封件300的外側(cè)區(qū)域。此外，間隔件350以埋入第一基板100的端部與第二基板200的端部之間的方式設(shè)置。

如圖2所示，在第一實(shí)施方式的顯示裝置10設(shè)置有，在密封件300的與填充件400相對的一側(cè)的相反側(cè)、且在第二阻擋層134與第二基板200之間配置的間隔件350。

[第二實(shí)施方式的顯示裝置]

以下，參照圖4說明本發(fā)明第二實(shí)施方式的顯示裝置20。圖4是表示第二實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

第二實(shí)施方式的顯示裝置20的第一埋入層120的形狀與第一實(shí)施方式的顯示裝置10所具有的第一埋入層120的形狀不同。第二實(shí)施方式的顯示裝置20的其它結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式的顯示裝置10相同。

構(gòu)成第二實(shí)施方式的顯示裝置20的一部分的第一埋入層120在俯視時(shí)設(shè)置在第一樹脂層110的周圍，并且設(shè)置成覆蓋第一樹脂層110的上表面(與TFT層131相對的一側(cè)的面)的整體。

第二實(shí)施方式的顯示裝置20的第一埋入層120設(shè)置成覆蓋第一樹脂層110的周圍和上表面的整個(gè)面，由此與第一實(shí)施方式的顯示裝置10比較，能夠進(jìn)一步抑制水分向顯示裝置20內(nèi)部的侵入。

[第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法]

接著說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法。圖5是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的流程圖。

如圖5所示，第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造方法可以包括第一基板形成工序S1和第二基板形成工序S2。

第一基板形成工序S1包括：準(zhǔn)備具有多個(gè)第一區(qū)域和包圍各個(gè)第一區(qū)域的形狀的第二區(qū)域的第一基體500，避開第二區(qū)域地在多個(gè)第一區(qū)域形成第一樹脂層110的工序(第一樹脂層形成工序S11和第一樹脂層局部除去工序S12)；在第二區(qū)域形成防濕性比第一樹脂層110高的第一埋入層120的工序(第一埋入層形成工序S13)；在第一樹脂層110和第一埋入層120之上形成第一功能層130的工序(第一功能層形成工序S14)，第一功能層130包括對構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素的各個(gè)控制亮度而進(jìn)行發(fā)光的自發(fā)光元件層132。

而且，第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造方法包括以使第一樹脂層110與多個(gè)第一區(qū)域分別對應(yīng)地被分割成多個(gè)部分的方式，以通過第二區(qū)域的線將第一埋入層120和第一功能層130切斷的工序(切斷工序S4)。

另外，在后面詳細(xì)說明的切斷工序S4中，在圖6A～6K中用附圖標(biāo)記SL表示以通過第二區(qū)域的線將第一埋入層120和第一功能層130切斷的切割線。

此外，第二基板形成工序S2包括：準(zhǔn)備第二基體600，在第二基體600上形成第二樹脂層210的工序(第二樹脂層形成工序S21)；形成防濕性比第二樹脂層210高的第二埋入層220的工序(第二埋入層形成工序S22)；和在第二樹脂層210和第二埋入層220之上形成包括彩色濾光片層231的第二功能層230的工序(第二功能層形成工序S23)。

以下參照圖6A～6K說明第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造方法中的各個(gè)工序。

圖6A是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第一基體層疊有第一樹脂層的狀態(tài)的圖。

在制造第一實(shí)施方式的顯示裝置時(shí)，在最初準(zhǔn)備的第一基體500形成撓性的第一樹脂層110(第一樹脂層形成工序S11)。第一樹脂層形成工序S11是如下工序：準(zhǔn)備具有多個(gè)第一區(qū)域和包圍各個(gè)第一區(qū)域的形狀的第二區(qū)域的第一基體500，在多個(gè)第一區(qū)域和第二區(qū)域形成第一樹脂層110的工序。

第一基體500所具有的第一區(qū)域A1包括用于在后面的工序中形成構(gòu)成第一功能層130的一部分的自發(fā)光元件層132的區(qū)域。此外，第二區(qū)域A2包圍用于形成自發(fā)光元件層132的區(qū)域的周圍，在該區(qū)域內(nèi)包含在后面的切斷工序S4中進(jìn)行切斷的切割線SL。

所準(zhǔn)備的第一基體500可以由無機(jī)材料形成。具體而言，第一基體500可以由玻璃等形成。

此外，第一樹脂層110例如可以通過在第一基體500上涂敷將規(guī)定的樹脂溶解在溶劑等中而得的樹脂漆，再使溶劑揮發(fā)而形成。

在后面的工序中，第一基體500與所形成的第一樹脂層110剝離。因此，第一基體500優(yōu)選由考慮了與第一樹脂層110的剝離的容易性等的材料形成，例如可以由玻璃等無機(jī)材料形成。

由玻璃等無機(jī)材料形成的第一基體500與由有機(jī)材料形成的第一樹脂層110的親和性弱，因此在后面的工序中能夠容易地剝離。

圖6B是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示除去了第一樹脂層的一部分的狀態(tài)的圖。

在第一樹脂層局部除去工序S12中，將在第一樹脂層形成工序S11形成的第一樹脂層110中的、形成于第二區(qū)域A2的第一樹脂層110的一部分除去。即，在第一基體500上僅留有在多個(gè)第一區(qū)域A1形成的第一樹脂層110。

第一樹脂層局部除去工序S12中的第一樹脂層110的局部除去，例如可以通過使用規(guī)定的掩模進(jìn)行圖案化來實(shí)現(xiàn)。

此外，第一樹脂層局部除去工序S12中的第一樹脂層110的局部除去，例如可以采用作為使用激光線的加工技術(shù)的激光熔蝕來實(shí)現(xiàn)。利用激光熔蝕進(jìn)行的第一樹脂層110的局部除去，可以不使用掩模地進(jìn)行，因此能夠帶來削減運(yùn)營費(fèi)、無需導(dǎo)入專用設(shè)備、降低制造成本的效果。

圖6C是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有第一埋入層的狀態(tài)的圖。

由第一樹脂層局部除去工序S12將第一樹脂層110的一部分除去，由此在第一基體500上形成凹部110CP。在第一埋入層形成工序S13中，以將該凹部110CP填埋的方式形成第一埋入層120。

形成第一埋入層120的材料的防濕性比形成第一樹脂層110的材料的防濕性高。例如第一埋入層120由防濕性優(yōu)良的無機(jī)材料形成時(shí)，第一埋入層120可以使用CVD法、PVD法、ALD法形成。

這樣，以填埋預(yù)先形成于第一樹脂層110的凹部的方式形成第一埋入層120，由此能夠容易地以具有載置在第一樹脂層110的上表面的部分的方式形成第一埋入層120。

圖6D是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有包括自發(fā)光元件層的第一功能層的狀態(tài)的圖。

在第一功能層形成工序S14中，形成用于發(fā)揮顯示裝置10的顯示功能的第一功能層130。具體而言，本實(shí)施方式的顯示裝置10的第一功能層130包括TFT層131、自發(fā)光元件層132。

TFT層131、自發(fā)光元件層132可以使用作為已知的半導(dǎo)體制造工藝方法的光蝕刻技術(shù)(PEP技術(shù)、光刻技術(shù)等)形成。

以上，經(jīng)過參照圖6A～6D說明的工序，完成第一基板形成工序S1。

接著，參照圖6E～6G說明第二基板形成工序S2。第二基板形成工序S2由與之前說明的第一基板形成工序S1不同的工序進(jìn)行。

圖6E是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第二基體層疊有第二樹脂層的狀態(tài)的圖。

在第二基板形成工序S2中，在最初準(zhǔn)備的第二基體600形成撓性的第二樹脂層210(第二樹脂層形成工序S21)。在第二樹脂層形成工序S21中，以覆蓋第二基體600的一側(cè)的整個(gè)面的方式形成第二樹脂層210。

此外，所準(zhǔn)備的第二基體600可以由無機(jī)材料形成。具體而言，第二基體600可以由玻璃等形成。

此外，第二樹脂層210例如可以通過將在溶劑等中溶解有規(guī)定的樹脂而得的樹脂漆涂敷在第二基體600上，再使溶劑揮發(fā)而形成。

在之后的工序中，第二基體600與所形成的第二樹脂層210剝離。因此，第二基體600優(yōu)選由考慮了與第二樹脂層210的剝離的容易性的材料形成，例如可以由玻璃等無機(jī)材料形成。

由玻璃等的無機(jī)材料形成的第二基板200，與由有機(jī)材料形成的第二樹脂層210的親和性弱，因此在之后的工序中能夠容易地剝離。

圖6F是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第二樹脂層的一部分除去后形成有第二埋入層的狀態(tài)的圖。

第二埋入層220是通過在將所形成的第二樹脂層210的一部分除去而形成的凹部210CP中填埋規(guī)定的材料而形成的。該凹部210CP例如可以采用使用規(guī)定的掩模進(jìn)行圖案化的方法、或者采用作為使用激光線的加工技術(shù)的激光熔蝕的方法來形成。

此外，形成第二埋入層220的材料的防濕性可以比形成第二樹脂層210的材料的防濕性高。在第二埋入層220由無機(jī)材料形成時(shí)，例如可以使用CVD法、PVD法、ALD法來形成。

圖6G是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是形成了包括彩色濾光片層的第二功能層的狀態(tài)的圖。

彩色濾光片層231可以使用作為已知方法的光蝕刻技術(shù)(PEP技術(shù)、光刻技術(shù)等)來形成。

經(jīng)過以上參照圖6E～6G說明的工序，第二基板形成工序S2結(jié)束。

接著，使圖6D所示的第一基板100和圖6G所示的第二基板200粘貼(第一、第二基板粘貼工序S3)。圖6H是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將圖6D所示的第一基板和圖6G所示的第二基板粘貼后的狀態(tài)的圖。

兩基板(第一、第二基板100、200)的粘貼，可以隔著在形成于兩基板的第一埋入層120、第二埋入層220的周邊設(shè)置的密封件300進(jìn)行?？梢栽诘谝换?00與第二基板200之間以填埋間隙的方式填充填充件400。

此外，在本工序中，可以在之后進(jìn)行的切斷工序S4中被切斷的位置、即在將第一埋入層120和第一功能層130切斷的切割線SL上設(shè)置間隔件350，以使得第一基板100與第二基板200的間隔保持一定。

此外，參照圖6D，可以以作為相對基板的第二基板200所具有的第二埋入層220位于與第二區(qū)域A2對應(yīng)的位置的方式，將第二基板200與第一基板100粘貼。

通過這樣粘貼，在切斷工序S4中被切斷的線上分別配置有第一埋入層120、第二埋入層220。此處，在第一埋入層120和/或第二埋入層220由無機(jī)材料形成的情況下，因?yàn)橐话銇碚f無機(jī)材料具有比有機(jī)材料脆而易破裂的性質(zhì)，所以具有在之后的切斷工序S4中容易進(jìn)行切斷的優(yōu)點(diǎn)。

接著，將在第一、第二基板粘貼工序S3中粘貼而得的結(jié)構(gòu)切斷為與顯示裝置10相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元(切斷工序S4)。圖6I是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將拼板切斷為與顯示裝置相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元的狀態(tài)的圖。

切斷工序S4例如通過對第一、第二基體500、600進(jìn)行劃線(例如使用金屬等針劃出刻痕，或者用激光線劃出刻痕)后將其斷開(沿著劃線出的刻痕切斷)而進(jìn)行的。即，在切斷工序S4中，可以將第一基體500與第一埋入層120、第一功能層130一起切斷。此外，在切斷工序S4中，可以將第二基板200與第一埋入層120、第一功能層130一起切斷。

接著，從切斷為與顯示裝置10相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)，將各個(gè)被切斷的第一、第二基體500、600剝離(基體(玻璃基板)除去工序S5)。

圖6J是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第一、第二基體剝離后的狀態(tài)的圖。

如之前所說明的，由玻璃等無機(jī)材料形成的第一、第二基體500、600與由有機(jī)材料形成的第一、第二樹脂層110、210的親和性弱，因此在本工序中能夠容易地進(jìn)行剝離。

最后，在剝離了第一基體500而露出的第一樹脂層110的面，安裝用于防止來自外部的水分侵入或者來自外部的物理損傷的第一保護(hù)膜140(保護(hù)膜形成工序S6)。

另外，在保護(hù)膜形成工序S6中，在剝離了第二基體600而露出的第二樹脂層210的面，安裝用于防止物理損傷的第二保護(hù)膜(未圖示)。

圖6K是說明第一實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示安裝保護(hù)膜，第一實(shí)施方式的顯示裝置完成后的狀態(tài)的圖。如圖6K所示，第一保護(hù)膜140配置在第一樹脂層110的配置第一功能層130的一側(cè)的相反側(cè)。

經(jīng)過以上的工序，能夠得到第一實(shí)施方式的顯示裝置10。

經(jīng)過上述制造工序得到的顯示裝置10的特征在于，包括：樹脂層；以具有能夠載置于上述樹脂層的上表面的部分的方式設(shè)置在上述樹脂層的周圍的框體；和層疊在上述樹脂層的上表面和上述框體的上表面的、對構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素分別控制亮度而發(fā)光的自發(fā)光元件層132。

而且，經(jīng)過上述制造工序得到的顯示裝置10是提高了水分阻隔性從而提高了可靠性的顯示裝置10。

[第三實(shí)施方式的顯示裝置]

以下參照圖7說明本發(fā)明第三實(shí)施方式的顯示裝置30。圖7是表示第三實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

第三實(shí)施方式的顯示裝置30的第一埋入層120的形狀與第一實(shí)施方式的顯示裝置10所具有的第一埋入層120的形狀不同。第三實(shí)施方式的顯示裝置30的其它結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式的顯示裝置10相同。

構(gòu)成第三實(shí)施方式的顯示裝置30的一部分的第一埋入層120由兩部分構(gòu)成。更具體而言，第一埋入層120中載置在第一樹脂層的上表面的部分，由通過CVD、PVD、ALD等形成的第一無機(jī)絕緣膜120A形成。

第一無機(jī)絕緣膜120A可以是由AlO、SiO、SiN、SiC、SiCN、SiON、SiOCN等材料形成的膜。由于該材料通過CVD、PVD、ALD等形成，因此第一無機(jī)絕緣膜120A形成為更致密的膜。

高密度的第一無機(jī)絕緣膜120A阻隔水分、氣體的性能高，結(jié)果顯示裝置30的可靠性進(jìn)一步得以提高。另一方面，第一無機(jī)絕緣膜120A在工藝上難以形成膜厚大的覆膜。

因此，第三實(shí)施方式的顯示裝置30除了第一無機(jī)絕緣膜120A之外，還包括由SOG(Spin on Glass，旋涂玻璃)、PSG(Phosphorus Silicon Glass，磷硅玻璃)、BPSG(Boron Phosphorus Silicon Glass，硼磷硅玻璃)等形成的第二無機(jī)絕緣膜120B。

由SOG、PSG、BPSG等形成的第二無機(jī)絕緣膜120B與第一無機(jī)絕緣膜120A相比密度較低，反過來說，材料特性上能夠形成膜厚大的覆膜，埋入特性優(yōu)良。

這樣，第一埋入層120由密度不同的兩個(gè)無機(jī)絕緣膜構(gòu)成，由此第一埋入層120的厚度比第一樹脂層110的厚度大。由此，能夠抑制由密封件300進(jìn)入凹部110CP引起的密封性的降低，或者能夠抑制因間隔件350進(jìn)入凹部110CP而兩基板的間隔不均勻的情況。

此外，在切割線SL上設(shè)置有由無機(jī)材料形成的第三實(shí)施方式的顯示裝置30的第一埋入層120，由此還具有在制造工藝中容易進(jìn)行切斷的優(yōu)點(diǎn)。

[第四實(shí)施方式的顯示裝置]

以下參照圖8說明本發(fā)明第四實(shí)施方式的顯示裝置40。圖8是表示第四實(shí)施方式的顯示裝置的結(jié)構(gòu)的截面圖。

第四實(shí)施方式的顯示裝置40的第一埋入層120的形狀與第一實(shí)施方式的顯示裝置10所具有的第一埋入層120的形狀不同。第四實(shí)施方式的顯示裝置40的其它結(jié)構(gòu)與第一實(shí)施方式的顯示裝置10相同。

構(gòu)成第四實(shí)施方式的顯示裝置40的一部分的第一埋入層120在俯視時(shí)設(shè)置在第一樹脂層110的周圍，并且覆蓋第一樹脂層110的上表面(與TFT層131相對的一側(cè)的面)的整體。

此外。構(gòu)成第四實(shí)施方式的顯示裝置40的一部分的第一埋入層120與構(gòu)成第三實(shí)施方式的顯示裝置30的一部分的第一埋入層120相同，由兩部分構(gòu)成。

覆蓋第一樹脂層110的上表面的整體的部分由通過CVD、PVD、ALD等形成的第一無機(jī)絕緣膜120A形成。此外，第四實(shí)施方式的顯示裝置40除了第一無機(jī)絕緣膜120A還包括由SOG、PSG、BPSG等形成的第二無機(jī)絕緣膜120B。

這樣，第一無機(jī)絕緣膜120A覆蓋第一樹脂層110的上表面的整體，由此能夠進(jìn)一步提高顯示裝置40的可靠性。

另外，在圖8所示的第四實(shí)施方式的顯示裝置40中，設(shè)置有構(gòu)成第一功能層130的一部分的第一阻擋層133，但是由于具有第一無機(jī)絕緣膜120A，也可以省略第一阻擋層133。

[第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法]

接著，說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法。第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造相同，按照圖5所示的流程進(jìn)行。

以下，參照圖9A～9K說明第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造方法中的各個(gè)工序。

圖9A是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第一基體層疊有第一樹脂層的狀態(tài)的圖。

在制造第三實(shí)施方式的顯示裝置時(shí)，在最初準(zhǔn)備的第一基體500形成撓性的第一樹脂層110(第一樹脂層形成工序S11)。第一樹脂層形成工序S11是下述工序：準(zhǔn)備具有多個(gè)第一區(qū)域和包圍各個(gè)第一區(qū)域的形狀的第二區(qū)域的第一基體500，在多個(gè)第一區(qū)域和第二區(qū)域形成第一樹脂層110。

在第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造中，在第一基體500上的形成第一樹脂層110的面，預(yù)先形成有犧牲剝離層700。犧牲剝離層700可以由α－碳、α－Si、金屬薄膜等形成。

此處，與之前說明的第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造同樣，在第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造中，之后進(jìn)行除去第一基體500的工序(基體(玻璃基板)除去工序S5)。

例如由上述例示的材料形成的犧牲剝離層700與第一樹脂層110的剝離，比第一基體500與第一樹脂層110的剝離容易。由此，能夠更容易地實(shí)施除去第一基體500的工序(基體(玻璃基板)除去工序S5)。

另外，犧牲剝離層700也能夠在之前說明的第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中使用。

第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造中準(zhǔn)備的第一基體500和第一樹脂層110，能夠使用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中使用的部件相同的部件。此外，第一樹脂層110能夠采用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法形成。

圖9B是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示除去了第一樹脂層的一部分的狀態(tài)的圖。

在第一樹脂層局部除去工序S12中，除去在第一樹脂層形成工序S11形成的第一樹脂層110中的形成于第二區(qū)域A2的第一樹脂層110的一部分。即，在第一基體500上僅留有形成于多個(gè)第一區(qū)域A1的第一樹脂層110。

第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造中的第一樹脂層110的局部除去，可以采用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法來進(jìn)行。

圖9C是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有第一埋入層的狀態(tài)的圖。第三實(shí)施方式的顯示裝置30的第一埋入層120的形狀與第一實(shí)施方式的顯示裝置10所具有的第一埋入層120的形狀不同，由兩部分構(gòu)成。

通過在第一樹脂層局部除去工序S12除去第一樹脂層110的一部分，在第一基體500上形成凹部110CP。在第一埋入層形成工序S13中，以填埋該凹部110CP的方式形成第一埋入層120。

第一埋入層120的形成通過以下方式進(jìn)行：首先，使用AlO、SiO、SiN、SiC、SiCN、SiON、SiOCN等材料，通過CVD、PVD、ALD等形成成為載置在第一樹脂層110的上表面的部分的第一無機(jī)絕緣膜120A。

第一無機(jī)絕緣膜120A，可以通過在暫時(shí)形成于第一樹脂層110的整個(gè)面之后，僅留下與凹部110CP相當(dāng)?shù)牟课唬テ渌糠侄纬?，也可以使用掩模等僅在與凹部110CP相當(dāng)?shù)牟课恍纬伞?/p>

由于第一無機(jī)絕緣膜120A難以形成膜厚大的覆膜，因此難以將通過除去第一樹脂層110的一部分而形成的凹部110CP完全填埋。

因此，在第一無機(jī)絕緣膜120A上，由SOG(Spin on Glass)、PSG(Phosphorus Silicon Glass)、BPSG(Boron Phosphorus Silicon Glass)等，以完全將凹部110CP填埋的方式形成第二無機(jī)絕緣膜120B。

另外，通過暫時(shí)在第一樹脂層110的整個(gè)面形成第一無機(jī)絕緣膜120A之后，僅在相當(dāng)于凹部110CP的部位形成第二無機(jī)絕緣膜120B，能夠制造第四實(shí)施方式的顯示裝置40。

圖9D是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示形成有包含自發(fā)光元件層的第一功能層的狀態(tài)的圖。

第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造中的第一功能層形成工序S14，可以采用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法進(jìn)行。

以上，經(jīng)過參照圖9A～9D說明的工序，第一基板形成工序S1完成。

接著，參照圖9E～9G說明第二基板形成工序S2。第二基板形成工序S2以與之前說明的第一基板形成工序S1不同的工序進(jìn)行。

圖9E是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示在第二基體層疊有第二樹脂層的狀態(tài)的圖。

在第二基板形成工序S2中，在最初準(zhǔn)備的第二基體600形成撓性的第二樹脂層210(第二樹脂層形成工序S21)。在第二樹脂層形成工序S21中，可以以覆蓋第二基體600的一側(cè)的整個(gè)面的方式形成第二樹脂層210。

此處，可以在所準(zhǔn)備的第二基體600形成與犧牲剝離層700同樣的犧牲剝離層800。而且，犧牲剝離層800也能夠在之前說明的第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中使用。

第三實(shí)施方式的顯示裝置30的制造中準(zhǔn)備的第二基體600、第二樹脂層210能夠使用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中使用的部件相同的部件。此外，第二樹脂層210能夠采用與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法形成。

圖9F是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第二樹脂層的一部分除去后形成有第二埋入層的狀態(tài)的圖。圖9G是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是形成有包含彩色濾光片層的第二功能層的狀態(tài)的圖。

第二埋入層220的形成和彩色濾光片層231的形成能夠以與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法形成。

以上，經(jīng)過參照圖9E～9G說明的工序，第二基板形成工序S2完成。

接著，使圖9D所示的第一基板100與圖9G所示的第二基板200粘貼(第一、第二基板粘貼工序S3)。圖9H是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將圖9D所示的第一基板與圖9G所示的第二基板粘貼后的狀態(tài)的圖。

兩基板(第一、第二基板100、200)的粘貼能夠以與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法形成。

接著，將在第一、第二基板粘貼工序S3粘貼而得的結(jié)構(gòu)切斷為與顯示裝置10相當(dāng)?shù)膯蝹€(gè)單元(切斷工序S4)。圖9I是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將拼板切斷為與顯示裝置相當(dāng)?shù)膯蝹€(gè)單元的狀態(tài)的圖。

切斷工序S4可以以與第一實(shí)施方式的顯示裝置10的制造中說明的方法相同的方法進(jìn)行。

接著，從切斷為與顯示裝置10相當(dāng)?shù)母鱾€(gè)單元的狀態(tài)的結(jié)構(gòu)剝離被切斷了的各個(gè)第一、第二基體500、600(基體(玻璃基板)除去工序S5)。

圖9J是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示將第一、第二基體剝離后的狀態(tài)的圖。

如之前所說明的那樣，在第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造中，形成有犧牲剝離層700、800，因此第一、第二基體500、600在本工序中容易剝離。

另外，在第一、第二基體500、600的剝離的同時(shí)，犧牲剝離層700、800也從第一、第二樹脂層110、210剝離，但是，犧牲剝離層700、800的一部分或者全部也可以不從第一、第二樹脂層110、210剝離。

最后，在剝離了第一基體500而露出的第一樹脂層110的面，安裝用于防止來自外部的水分的侵入或者來自外部的物理損傷的第一保護(hù)膜140(保護(hù)膜形成工序S6)。

另外，在保護(hù)膜形成工序S6中，也可以在剝離了第二基體600而露出的第二樹脂層210的面安裝用于防止物理損傷的第二保護(hù)膜(未圖示)。

圖9K是說明第三實(shí)施方式的顯示裝置的制造方法的圖，是表示安裝保護(hù)膜，第三實(shí)施方式的顯示裝置完成了的狀態(tài)的圖。如圖9K所示，第一保護(hù)膜140配置在第一樹脂層110的配置第一功能層130的一側(cè)的相反側(cè)。

經(jīng)過以上的工序，能夠得到第三實(shí)施方式的顯示裝置30。

經(jīng)過上述制造工序得到的顯示裝置30的特征在于，包括：樹脂層；在上述樹脂層的周圍，以具有載置在上述樹脂層的上表面的部分的方式設(shè)置的框體；和層疊在上述樹脂層的上表面和上述框體的上表面的、對構(gòu)成圖像的多個(gè)單位像素分別控制亮度而進(jìn)行發(fā)光的自發(fā)光元件層132。

經(jīng)過上述制造工序得到的顯示裝置30是提高了水分阻隔性而提高了可靠性的顯示裝置30。