技術(shù)特征：
1.一種金屬線排版結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：絕緣層；溝槽，數(shù)個所述溝槽并行排列的設(shè)置于所述絕緣層上，所述溝槽使所述絕緣層形成具有不同高度的數(shù)個平面，且相鄰兩平面的高度不同；以及，金屬線，所述金屬線設(shè)置于所述絕緣層的每個平面上。2.如權(quán)利要求1所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述溝槽的截面為矩形，所述溝槽使所述絕緣層形成具有兩種不同高度的數(shù)個平面。3.如權(quán)利要求1所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述溝槽的截面為T形，所述溝槽使所述絕緣層形成具有三種不同高度的數(shù)個平面。4.如權(quán)利要求1所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述溝槽以相同間隔距離設(shè)置。5.如權(quán)利要求1所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述絕緣層采用SiO2、SiNX或者有機(jī)光刻膠材料制成。6.一種端子部，應(yīng)用于顯示器中，其特征在于，所述端子部的外圍區(qū)域包括如權(quán)利要求1-5任意一項所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)。7.一種金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，包括如下步驟：S1，提供一絕緣層；S2，在所述絕緣層上制作數(shù)個并行排列的溝槽，所述溝槽使所述絕緣層形成具有不同高度的數(shù)個平面，且相鄰兩平面的高度不同；S3，在所述絕緣層的每個平面上制作金屬線。8.如權(quán)利要求7所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，在所述步驟S2中，將所述溝槽的截面制作為矩形，所述溝槽使所述絕緣層形成具有兩種不同高度的數(shù)個平面。9.如權(quán)利要求7所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，在所述步驟S2中，將所述溝槽的截面制作為T形，所述溝槽使所述絕緣層形成具有三種不同高度的數(shù)個平面。10.如權(quán)利要求7所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟S2具體包括如下步驟：S201，在所述絕緣層上旋涂光刻膠，間隔曝光所述光刻膠，對曝光后的光刻膠顯影，形成具有不同高度的第一光刻膠圖形；S202，以所述第一光刻膠圖形作為掩膜板蝕刻所述絕緣層，剝離光刻膠，在所述絕緣層上得到數(shù)個并行排列的溝槽，所述溝槽使所述絕緣層形成具有不同高度的數(shù)個平面，且相鄰兩平面的高度不同。11.如權(quán)利要求10所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，采用半色調(diào)光罩間隔曝光所述光刻膠。12.如權(quán)利要求10所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述絕緣層采用SiO2或者SiNX材料制成。13.如權(quán)利要求7所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟S2具體包括如下步驟：S201’，間隔曝光所述絕緣層，對曝光后的絕緣層顯影，形成具有不同高度的第一光刻膠圖形；S202’，對所述第一光刻膠圖形進(jìn)行背烘，固化所述第一光刻膠圖形，在所述絕緣層上得到數(shù)個并行排列的溝槽，所述溝槽使所述絕緣層形成具有不同高度的數(shù)個平面，且相鄰兩平面的高度不同；其中，所述絕緣層采用有機(jī)光刻膠材料制成。14.如權(quán)利要求13所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，采用半色調(diào)光罩間隔曝光所述絕緣層。15.如權(quán)利要求7所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，所述步驟S3具體包括如下步驟：S301，在所述絕緣層的所有平面上淀積金屬層；S302，在所述金屬層上旋涂光刻膠，間隔曝光所述光刻膠，對曝光后的光刻膠顯影，在所述金屬層上對應(yīng)所述絕緣層的數(shù)個平面的位置分別形成第二光刻膠圖形；S303，以所述第二光刻膠圖形作為掩膜板蝕刻所述金屬層，剝離光刻膠，得到在所述絕緣層的每個平面上的金屬線。16.如權(quán)利要求15所述的金屬線排版結(jié)構(gòu)的制作方法，其特征在于，采用半色調(diào)光罩間隔曝光所述光刻膠。