本實(shí)用新型涉及電子工業(yè)領(lǐng)域，具體地，涉及一種用于馬達(dá)裝置，以及包括有該馬達(dá)裝置的蝕刻裝置。

背景技術(shù)：

許多電子產(chǎn)品例如電視、移動(dòng)電話、冰箱或甚至在汽車中都可見(jiàn)與平板顯示器的搭配應(yīng)用。液晶顯示面板由于具有良好的顯示及觸控質(zhì)量以及相對(duì)較低的成本，目前已成為平板顯示器的主流產(chǎn)品。一般來(lái)說(shuō)，液晶顯示及觸控面板需經(jīng)由一至二道蝕刻工藝，完成導(dǎo)電線路成型的工藝。

然而，在蝕刻機(jī)使用的過(guò)程中，由于很難實(shí)現(xiàn)完全密封，蝕刻液和/或蝕刻氣會(huì)部分外逸，嚴(yán)重時(shí)會(huì)擴(kuò)散至蝕刻機(jī)的馬達(dá)電機(jī)中，從而對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行侵蝕，造成銹蝕。

現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)馬達(dá)的保護(hù)僅僅是在馬達(dá)電機(jī)上裝加外圍式防護(hù)罩，雖然在一定程度上緩解了蝕刻液和/或蝕刻氣對(duì)馬達(dá)電機(jī)的侵蝕，但并沒(méi)延長(zhǎng)馬達(dá)使用壽命以及較低更換頻度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的是為了克服以上缺陷，提供一種能夠有效避免蝕刻機(jī)的馬達(dá)電機(jī)被外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣侵蝕的馬達(dá)裝置以及蝕刻裝置。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，一方面，本實(shí)用新型提供了一種馬達(dá)裝置，該馬達(dá)裝置包括：

馬達(dá)，該馬達(dá)位于殼體內(nèi)部；

進(jìn)氣孔，該進(jìn)氣孔位于所述殼體上并與殼體內(nèi)部相通，該進(jìn)氣孔允許氣體進(jìn)入殼體內(nèi)部，并使得相對(duì)于殼體外部，殼體內(nèi)部為正壓。

優(yōu)選的，所述進(jìn)氣孔通過(guò)進(jìn)氣調(diào)整閥調(diào)整進(jìn)氣量，以維持殼體內(nèi)部的所述正壓。

優(yōu)選的，所述進(jìn)氣調(diào)整閥為手動(dòng)進(jìn)氣調(diào)整閥。

優(yōu)選的，所述殼體為PVC材質(zhì)，厚度為3-8mm。

優(yōu)選的，所述氣體為空氣。

另一方面，本實(shí)用新型還提供了一種蝕刻裝置，該蝕刻裝置包括如上所述的馬達(dá)裝置。

優(yōu)選的，該蝕刻裝置還包括：

蝕刻區(qū)，該蝕刻區(qū)允許待蝕刻物件在其中進(jìn)行蝕刻處理，且該蝕刻區(qū)的上部呈突起狀，所述突起的外側(cè)面與所述蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)是間隔開(kāi)的；

水封區(qū)，該水封區(qū)由所述蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)、所述突起的外側(cè)面和所述蝕刻區(qū)的頂部所形成，該水封區(qū)用于捕獲由所述蝕刻區(qū)外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣。

優(yōu)選的，所述水封區(qū)通過(guò)流體入口和流體出口被持續(xù)的供給用于捕獲外漏的蝕刻液和/或蝕刻氣的流體。

優(yōu)選的，所述水封區(qū)還包括抽氣孔，該抽氣孔用于外排由所述蝕刻區(qū)外逸的蝕刻氣和/或蝕刻液，且其高度高于水封區(qū)中流體的高度。

優(yōu)選的，所述蝕刻裝置還包括蝕刻氣和/或蝕刻液可透過(guò)的內(nèi)蓋和蝕刻氣和/或蝕刻液不可透過(guò)的外蓋，內(nèi)蓋用于封閉位于所述蝕刻區(qū)上部突起的開(kāi)口；外蓋用于封閉及氣密整個(gè)蝕刻裝置。

本實(shí)用新型通過(guò)在馬達(dá)電機(jī)外添加外圍防護(hù)罩，同時(shí)對(duì)保護(hù)罩內(nèi)進(jìn)氣，并使得保護(hù)罩內(nèi)部的壓力大于外部的壓力，從而可有效地避免外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣進(jìn)入到保護(hù)罩內(nèi)對(duì)馬達(dá)電機(jī)造成侵蝕。因此，本實(shí)用新型的馬達(dá)裝置可對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行有效的防護(hù)，延長(zhǎng)使用壽命。在本實(shí)用新型提供的包括有如上馬達(dá)裝置的蝕刻裝置中，進(jìn)一步優(yōu)選的，在蝕刻裝置中設(shè)置水封區(qū)，在刻蝕機(jī)啟動(dòng)之后，在所述水封區(qū)內(nèi)持續(xù)補(bǔ)給能夠捕獲蝕刻液和/或蝕刻氣的流體并將捕獲的蝕刻液和/或蝕刻氣送至待處理處，可有效避免蝕刻液和/或蝕刻氣外逸，從而降低了飄散到馬達(dá)裝置周圍的蝕刻液和/或蝕刻氣，可對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行進(jìn)一步的保護(hù)。在更為優(yōu)選的情況下，在水封區(qū)高于流體的位置，設(shè)置一抽風(fēng)口，將蝕刻裝置中剩余的蝕刻液和/或蝕刻氣持續(xù)抽離，可進(jìn)一步降低蝕刻液和/或蝕刻氣的外逸，從而更有效地對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行保護(hù)。

本實(shí)用新型的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的具體實(shí)施方式部分予以詳細(xì)說(shuō)明。

附圖說(shuō)明

附圖是用來(lái)提供對(duì)本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分，與下面的具體實(shí)施方式一起用于解釋本實(shí)用新型，但并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在附圖中：

圖1是本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的馬達(dá)裝置的示意圖。

圖2是根據(jù)本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的蝕刻裝置的示意圖。

1 馬達(dá) 2 殼體 3 進(jìn)氣孔

4 進(jìn)氣調(diào)整閥 5 蝕刻區(qū) 6 水封區(qū)

61 抽氣孔 7 流體入口 8 流體出口

9 內(nèi)蓋 10 外蓋 11 溢流口

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的具體實(shí)施方式僅用于說(shuō)明和解釋本實(shí)用新型，并不用于限制本實(shí)用新型。

如圖1所示，本實(shí)用新型提供了馬達(dá)裝置，該馬達(dá)裝置包括：

馬達(dá)1，該馬達(dá)1位于殼體2內(nèi)部；

進(jìn)氣孔3，該進(jìn)氣孔3位于所述殼體2上并與殼體2內(nèi)部相通，該進(jìn)氣孔2允許氣體進(jìn)入殼體2內(nèi)部，并使得相對(duì)于殼體2外部，殼體2內(nèi)部為正壓。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述外殼2(電機(jī)保護(hù)罩)的材質(zhì)可以在較寬的范圍內(nèi)進(jìn)行選擇，只要其能夠是耐酸的即可。例如，所述外殼2的材質(zhì)可以為耐酸的PVC材質(zhì)。另外，本實(shí)用新型對(duì)于所述外殼2的厚度也沒(méi)有特別的限定，只要在允許的范圍內(nèi)，通氣后可維持外殼2內(nèi)部相對(duì)于外部為正壓即可。例如，所述外殼2的厚度可以為3-8mm。

根據(jù)本實(shí)用新型，通入至外殼2內(nèi)部的氣體也可以在較寬的范圍內(nèi)進(jìn)行選擇，只要能夠維持外殼2內(nèi)的相對(duì)正壓，同時(shí)不會(huì)對(duì)馬達(dá)電機(jī)造成不利影響即可。例如，所述氣體可以為空氣，還可以為氮?dú)狻鍤獾榷栊詺怏w。然而，從而實(shí)用性以及經(jīng)濟(jì)性原則考慮，本實(shí)用新型優(yōu)選所述氣體為空氣。

根據(jù)本實(shí)用新型，對(duì)于外殼2內(nèi)部的壓力也沒(méi)有特別的限制，只要其高于外殼2外部的壓力并且能夠有效防止外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣進(jìn)入到外殼內(nèi)部即可。優(yōu)選情況下，所述外殼2內(nèi)的壓力為2-5kg/cm²。

根據(jù)本實(shí)用新型，如圖1所示，所述外殼2的進(jìn)氣孔3上安裝有進(jìn)氣調(diào)整閥4，通過(guò)該進(jìn)氣調(diào)整閥4可以對(duì)進(jìn)氣量進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)外殼2內(nèi)部壓力的控制。其中，所述進(jìn)氣孔3可以為多個(gè)，例如，2-5個(gè)，因此，相應(yīng)的進(jìn)氣調(diào)整閥4也可以為多個(gè)，例如，2-5個(gè)。

其中，所述進(jìn)氣調(diào)整閥4優(yōu)選為手動(dòng)進(jìn)氣調(diào)整閥。從而可人工控制進(jìn)氣量的大小。進(jìn)一步的，所述進(jìn)氣優(yōu)選為CDA進(jìn)氣(CDA為Clean Dry Air指干燥的干凈空氣)。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述蝕刻液和/或蝕刻氣一般為酸液和/或酸氣。

第二方面，本實(shí)用新型還提供了一種蝕刻裝置，該蝕刻裝置包括如上所述的馬達(dá)裝置。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述馬達(dá)裝置在蝕刻裝置中具體的布置可以按照現(xiàn)有的蝕刻裝置中的馬達(dá)裝置的布置即可，本實(shí)用新型并沒(méi)有對(duì)此進(jìn)行改進(jìn)。

根據(jù)本實(shí)用新型，只要將如上的馬達(dá)裝置用在用于蝕刻的蝕刻裝置中，即能夠有效地避免馬達(dá)裝置中的馬達(dá)電機(jī)被外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣所侵蝕。但本實(shí)用新型的發(fā)明人在研究的過(guò)程中進(jìn)一步發(fā)現(xiàn)，通過(guò)對(duì)蝕刻裝置進(jìn)一步進(jìn)行如下的改進(jìn)，能夠有效防止蝕刻過(guò)程中蝕刻液和/或蝕刻氣的外逸，從而降低飄逸至馬達(dá)裝置附件的蝕刻液和/或蝕刻氣的量，因此，可進(jìn)一步避免馬達(dá)電機(jī)收到蝕刻液和/或蝕刻氣的侵蝕。

由此，本實(shí)用新型的蝕刻裝置除包括如上的馬達(dá)裝置外，如圖2所示的，還包括：蝕刻區(qū)5，該蝕刻區(qū)5允許待蝕刻物件在其中進(jìn)行蝕刻處理，且該蝕刻區(qū)5的上部呈突起狀，所述突起的外側(cè)面與所述蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)是間隔開(kāi)的；水封區(qū)6，該水封區(qū)6由所述蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)、所述突起的外側(cè)面和所述蝕刻區(qū)5的頂部所形成，該水封區(qū)6用于捕獲由所述蝕刻區(qū)5外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣。

在本實(shí)用新型中，在未作相反說(shuō)明的情況下，使用的術(shù)語(yǔ)如：

“上部”是指蝕刻裝置水平放置時(shí)，蝕刻區(qū)5水平線最高處所形成的突起；

“突起的外側(cè)面”是指突起部位背離蝕刻區(qū)5而面向水封區(qū)6的側(cè)面；

“蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)”是指蝕刻裝置外殼的內(nèi)側(cè)，也即，面向水封區(qū)6或是蝕刻區(qū)5的一面；

“蝕刻區(qū)5的頂部”是指蝕刻區(qū)5未與蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)間隔開(kāi)的部分的水平線最高處。

根據(jù)本實(shí)用新型，一般情況下，所述蝕刻區(qū)5向外散逸的主要為蝕刻液所形成的蝕刻氣或者為蝕刻區(qū)5的噴嘴噴灑蝕刻液所散逸成的微小液滴，而所述外漏的蝕刻液基本上是指由所述外逸的蝕刻氣冷凝后所形成的蝕刻液滴和所述微小液滴。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述蝕刻區(qū)5的上部突起的形狀沒(méi)有特別的要求，只要其外側(cè)面和所述蝕刻區(qū)5的頂部以及所述蝕刻裝置的外壁內(nèi)側(cè)能夠形成可存儲(chǔ)流體的通道即可。例如，所述突起的形狀可以為但不限于椎體狀、圓柱狀或多面體狀。優(yōu)選的，所述突起的形狀為多面體狀，更優(yōu)選為長(zhǎng)方體狀(包括正方體狀)。

本實(shí)用新型提供的蝕刻裝置還可以包括多個(gè)蝕刻區(qū)5和水封區(qū)6所形成的重復(fù)單元，例如，所述重復(fù)單元可以有多個(gè)，如可以有三個(gè)或四個(gè)。但實(shí)用新型并不限于此，還可以有更多個(gè)，如5個(gè)或6個(gè)。蝕刻液通常通過(guò)噴淋的方式噴灑在蝕刻區(qū)5內(nèi)的待蝕刻物件上，當(dāng)蝕刻裝置包括蝕刻區(qū)5和水封區(qū)6的重復(fù)單元時(shí)，待蝕刻物件可以按照順序依次在多個(gè)重復(fù)單元內(nèi)分別經(jīng)過(guò)一段時(shí)間的噴淋后，完成整個(gè)蝕刻處理。在實(shí)用新型的進(jìn)一步優(yōu)選的蝕刻裝置的技術(shù)方案中，主要是在蝕刻裝置中(蝕刻區(qū)5的外周)設(shè)置了水封區(qū)6，以吸收外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣，從而有效避免蝕刻液和/或蝕刻氣的外漏，降低馬達(dá)裝置周圍的蝕刻液和/或蝕刻氣的量，而并未對(duì)除馬達(dá)裝置外的蝕刻裝置的結(jié)構(gòu)及其工作過(guò)程做重大改進(jìn)，因此可以參考傳統(tǒng)的蝕刻裝置進(jìn)行時(shí)刻處理。

根據(jù)本實(shí)用新型，如圖2所示的，所述突起還包括有向上的開(kāi)口，由此，本實(shí)用新型所提供的蝕刻裝置還包括用于封閉所述開(kāi)口的內(nèi)蓋9和整個(gè)蝕刻裝置的外蓋10。其中，為了實(shí)現(xiàn)所述蝕刻區(qū)5內(nèi)的水汽平衡，所述內(nèi)蓋9的材質(zhì)是蝕刻液和/或蝕刻氣所能夠通透的(蝕刻液和/或蝕刻氣因蝕刻槽內(nèi)噴淋，蝕刻液呈現(xiàn)霧狀的水汽，蝕刻氣流動(dòng)性高，故內(nèi)層蓋板無(wú)法完全將蝕刻氣隔絕，因此，蝕刻氣可進(jìn)入到內(nèi)蓋9和外蓋10所形成的空間)，例如，可以為PVC材質(zhì)。當(dāng)所述蝕刻氣穿透所述內(nèi)蓋9進(jìn)入至內(nèi)蓋9和外蓋10所形成的空間后，由于溫度的降低，會(huì)部分冷凝形成蝕刻液滴從而粘附在所述外蓋10的內(nèi)側(cè)(其中，所述外蓋10的材質(zhì)為蝕刻液和/或蝕刻氣不可通透的，例如，可以為但并不限于不可通透的PVC材質(zhì))。當(dāng)液滴不斷增重至超過(guò)其負(fù)荷后便會(huì)滴落至所述水封區(qū)6中，而被水封區(qū)6中的流體帶走。

其中，本實(shí)用新型對(duì)于所述外蓋10的形狀沒(méi)有特別的要求，其可以為水平狀的，或是具有一定傾角的。優(yōu)選的，為了便于所述蝕刻液滴能夠更好的滴落至所述水封區(qū)6中，所述外蓋10的形狀優(yōu)選為中間高而兩端低的折角狀。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述水封區(qū)6通過(guò)不斷的流體流動(dòng)而將滴落至水封區(qū)6中的蝕刻液帶走，其中，本實(shí)用新型對(duì)于水封區(qū)6內(nèi)的流體的種類并沒(méi)有特別的限制，例如，其可以為純水或堿水等，只要其能夠?qū)⑺鑫g刻液帶離至待處理處而不會(huì)對(duì)蝕刻工藝造成影響即可。

其中，如圖2所示的，所述水封區(qū)6還包括流體入口7和流體出口8，所述流體的流動(dòng)通過(guò)所述流體入口7和流體出口8不斷的供給流體而完成。所述流體的流動(dòng)速度本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際待處理的蝕刻液的情況進(jìn)行調(diào)整。

其中，優(yōu)選的，為了進(jìn)一步保證水封區(qū)6中的流體的高度不會(huì)超過(guò)所述突出部位以造成流體內(nèi)漏至蝕刻區(qū)2中，所述水封區(qū)6還包括有溢流口11，以使得水封區(qū)6內(nèi)的流體相對(duì)于所述突出的高度達(dá)到平衡狀態(tài)。

根據(jù)本實(shí)用新型，所述蝕刻區(qū)2中的蝕刻液可以為本領(lǐng)域任意的常規(guī)用于蝕刻的蝕刻液，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)具體的情況而具體的選擇，例如，所述蝕刻液為可以為酸。

根據(jù)本實(shí)用新型的一種更為優(yōu)選的實(shí)施方式，為了進(jìn)一步防止蝕刻液和/或蝕刻氣的外漏，如圖2所示的，本實(shí)用新型的蝕刻裝置的水封區(qū)6還包括一個(gè)或多個(gè)抽氣孔61，以進(jìn)一步外排沒(méi)有滴落至水封區(qū)6的流體中的蝕刻液和/或蝕刻氣，從而更加有效地防止蝕刻液和/或蝕刻氣的外漏。

其中，所述抽氣孔61的高度高于水封區(qū)6中流體的高度，以能夠順利的將剩余的蝕刻氣以及蝕刻液抽走。所述抽氣孔61的高出水封區(qū)6中流體的高度以使得在抽氣系統(tǒng)啟動(dòng)后不會(huì)或基本上不會(huì)由于抽力的作用而將水封區(qū)6中的流體抽走。

現(xiàn)結(jié)合圖1和2對(duì)本實(shí)用新型的一種具體的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)介紹。

首先，先將蝕刻裝置中的馬達(dá)1固定位置后，在將殼體2用螺絲緊固以使其罩在馬達(dá)1的外圍，在外殼2的進(jìn)氣孔3上安裝進(jìn)氣調(diào)整閥4，通入壓縮空氣，使得外殼2內(nèi)部的壓力約為3kg/cm²，以使馬達(dá)電機(jī)免受蝕刻液和/或蝕刻氣的侵蝕。

接著，將水封區(qū)6中的流體入口7打開(kāi)，并控制流量，使作為流體的水流入水封區(qū)6內(nèi)，待水封區(qū)6中的水達(dá)到預(yù)定的高度時(shí)，打開(kāi)流體出口8以及溢流口11，同時(shí)調(diào)整水流量使得入水與出水和溢流情況穩(wěn)定并達(dá)到平衡狀態(tài)，在所述平衡狀態(tài)時(shí)，水封區(qū)內(nèi)水的高度低于所述突起的高度(其中，所述突起呈正方體狀)。待水封區(qū)6中的入水和出水達(dá)到平衡狀態(tài)后，蓋上蝕刻液和蝕刻氣可透過(guò)的內(nèi)蓋9，同時(shí)開(kāi)啟抽氣系統(tǒng)，并保證設(shè)置在水封區(qū)6中高于流體水的位置處的抽氣孔61正常運(yùn)作。之后，蓋上蝕刻液和蝕刻氣不可透過(guò)的水平外蓋10并啟動(dòng)蝕刻區(qū)5內(nèi)的蝕刻工序。其中，所述蝕刻區(qū)5內(nèi)設(shè)置有多個(gè)向待蝕刻物件噴射蝕刻液的噴嘴，在噴射蝕刻液的過(guò)程中蝕刻液會(huì)部分散逸為微小的液滴，并通過(guò)所述內(nèi)蓋9而逃離到內(nèi)蓋9和外蓋10所形成的空間，另外，在蝕刻的過(guò)程中所產(chǎn)生的蝕刻氣也會(huì)通過(guò)所述內(nèi)蓋9而逃離到內(nèi)蓋9和外蓋10所形成的空間。當(dāng)逃離的微小液滴粘附在外蓋10下層并累積成超過(guò)其負(fù)荷的水珠后便會(huì)滴落至水封區(qū)6內(nèi)，從而被水封區(qū)6中流水所帶走，而未形成水珠的微小液滴或蝕刻氣則會(huì)通過(guò)抽氣孔61而被抽離出體系外。

本實(shí)用新型通過(guò)在馬達(dá)電機(jī)外添加外圍防護(hù)罩，同時(shí)對(duì)保護(hù)罩內(nèi)進(jìn)氣，并使得保護(hù)罩內(nèi)部的壓力大于外部的壓力，從而可有效地避免外逸的蝕刻液和/或蝕刻氣進(jìn)入到保護(hù)罩內(nèi)對(duì)馬達(dá)電機(jī)造成侵蝕。因此，本實(shí)用新型的馬達(dá)裝置可對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行有效的防護(hù)，延長(zhǎng)使用壽命。

在本實(shí)用新型提供的包括有如上馬達(dá)裝置的蝕刻裝置中，進(jìn)一步優(yōu)選的，在蝕刻裝置中設(shè)置水封區(qū)，在刻蝕機(jī)啟動(dòng)之后，在所述水封區(qū)內(nèi)持續(xù)補(bǔ)給能夠捕獲蝕刻液和/或蝕刻氣的流體并將捕獲的蝕刻液和/或蝕刻氣送至待處理處，可有效避免蝕刻液和/或蝕刻氣外逸，從而降低了飄散到馬達(dá)裝置周圍的蝕刻液和/或蝕刻氣，可對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行進(jìn)一步的保護(hù)。在更為優(yōu)選的情況下，在水封區(qū)高于流體的位置，設(shè)置一抽風(fēng)口，將蝕刻裝置中剩余的蝕刻液和/或蝕刻氣持續(xù)抽離，可進(jìn)一步降低蝕刻液和/或蝕刻氣的外逸，從而更有效地對(duì)馬達(dá)電機(jī)進(jìn)行保護(hù)。

此外，本實(shí)用新型提供的馬達(dá)裝置加工簡(jiǎn)單、拆卸方便，包括有該馬達(dá)裝置的蝕刻裝置進(jìn)一步優(yōu)選的方案操作方便，設(shè)備結(jié)構(gòu)也比較簡(jiǎn)單，且水封區(qū)6的維修和清洗液較為方便和容易。從而延長(zhǎng)了馬達(dá)的使用壽命，降低了更換頻度

以上結(jié)合附圖詳細(xì)描述了本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，但是，本實(shí)用新型并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié)，在本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi)，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型，這些簡(jiǎn)單變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。

另外需要說(shuō)明的是，在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過(guò)任何合適的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù)，本實(shí)用新型對(duì)各種可能的組合方式不再另行說(shuō)明。

此外，本實(shí)用新型的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本實(shí)用新型的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本實(shí)用新型所公開(kāi)的內(nèi)容。