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高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋的制作方法

文檔序號(hào):12805028閱讀:665來(lái)源:國(guó)知局
高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋的制作方法與工藝

本實(shí)用新型屬于高壓隔爆型三相異步電動(dòng)機(jī)技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋。



背景技術(shù):

高壓電機(jī)軸電壓高的問(wèn)題常有發(fā)生,引起軸電壓高的因素很多,完全杜絕軸電壓?jiǎn)栴}很難。軸電壓過(guò)高會(huì)擊穿軸承滾子油膜放電,由于軸承滾子接觸點(diǎn)面積很小,接觸點(diǎn)通過(guò)的電流密度很大,瞬間會(huì)產(chǎn)生高溫?zé)圯S承。作為隔爆電機(jī),安裝在端蓋上的軸承內(nèi)蓋與軸之間有隔爆性能要求,如隔爆等級(jí)ExdIICT4要求兩面單邊間隙不超過(guò)0.15mm,長(zhǎng)度不低于40mm,因此細(xì)微的軸承質(zhì)量問(wèn)題都有很大可能引起電機(jī)抱軸,其金屬摩擦形成的火花存在安全隱患?,F(xiàn)有技術(shù)一般采用絕緣軸承來(lái)解決軸承受到電流腐蝕的問(wèn)題,但由于受到規(guī)格型號(hào)的限制,且絕緣軸承大多需要從國(guó)外進(jìn)口,成本高、采購(gòu)周期長(zhǎng),由此會(huì)加大電機(jī)生產(chǎn)廠家的負(fù)擔(dān)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本實(shí)用新型的目的是提供一種采用絕緣端蓋隔斷電機(jī)軸電流回路,避免軸電流腐蝕軸承,保障隔爆電機(jī)安全穩(wěn)定運(yùn)行的高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋。

為實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的所采取的技術(shù)方案是:該絕緣端蓋具有一個(gè)帶隔爆結(jié)合面的端蓋本體,端蓋本體的內(nèi)孔中裝有軸承,在端蓋本體與軸承之間設(shè)置有絕緣套,絕緣套的外徑與端蓋本體之間采用過(guò)盈配合連接,絕緣套的內(nèi)徑與軸承外徑相適配。

所述絕緣套具有一個(gè)鋼套基體,鋼套基體的外表面設(shè)有若干條凹槽或凹坑,并纏繞有無(wú)緯帶層。

所述絕緣套的厚度≤5mm。

按照上述方案制成的高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋,通過(guò)在端蓋與軸承之間增加絕緣套,能夠有效阻斷電機(jī)軸電流回路,避免軸電流的產(chǎn)生,其絕緣套所用原材料均為電機(jī)制造廠常見(jiàn)材料,制作工藝簡(jiǎn)單,不會(huì)增加電機(jī)制造周期,與絕緣軸承相比,具有無(wú)需進(jìn)口采購(gòu),成本更低,同時(shí)能避免軸電流腐蝕軸承,延長(zhǎng)電機(jī)軸承使用壽命,提高隔爆電機(jī)運(yùn)行安全穩(wěn)定性、降低安全風(fēng)險(xiǎn)的優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是圖1中絕緣套的局部放大圖。

具體實(shí)施方式

參看圖1、圖2,本實(shí)用新型的一種高壓隔爆型電機(jī)絕緣端蓋,該絕緣端蓋具有一個(gè)帶隔爆結(jié)合面的端蓋本體1,端蓋本體1的內(nèi)孔中裝有軸承4,在端蓋本體1與軸承4之間設(shè)置有絕緣套3,絕緣套3的外徑與端蓋本體1之間采用過(guò)盈配合連接,絕緣套3的內(nèi)徑與軸承4外徑相適配。所述絕緣套3具有一個(gè)鋼套基體7,鋼套基體7的外表面設(shè)有若干條凹槽或凹坑6,并纏繞有無(wú)緯帶層5,所述絕緣套3的厚度≤5mm。該絕緣套3是先在外圈表面有凹槽或凹坑6的鋼套基體7上用1000N拉力纏繞無(wú)緯帶,構(gòu)成無(wú)緯帶層5,然后將絕緣套3加熱到150℃左右,在此溫度下無(wú)緯帶層5融化在鋼套基體7外表面形成一層玻璃鋼層,由于玻璃鋼不導(dǎo)電,因此能夠起到阻斷軸電流的作用,避免軸電流腐蝕軸承,延長(zhǎng)電機(jī)軸承使用壽命,降低電機(jī)抱軸風(fēng)險(xiǎn)。同時(shí),由于絕緣套3的厚度要求不超過(guò)5mm,因此端蓋本體1內(nèi)側(cè)與軸承內(nèi)蓋(圖中未示)的配合面所采用的隔爆結(jié)合面2不會(huì)因?yàn)榻^緣套3過(guò)厚發(fā)生尺寸變化而影響隔爆性能,有效隔絕電機(jī)抱死摩擦產(chǎn)生的電火花外溢,能夠滿足防爆規(guī)程GB3836.2-2010的要求。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案并不限制于本實(shí)用新型所述的實(shí)施例的范圍內(nèi)。本實(shí)用新型未詳盡描述的技術(shù)內(nèi)容均為公知技術(shù)。

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