本發(fā)明涉及一種驅(qū)動(dòng)模塊及應(yīng)用該驅(qū)動(dòng)模塊的相機(jī)裝置，特別涉及一種利用電磁效應(yīng)產(chǎn)生機(jī)械能的電磁驅(qū)動(dòng)模塊及應(yīng)用該電磁驅(qū)動(dòng)模塊的相機(jī)裝置。

背景技術(shù)：

電子產(chǎn)品通常配置有一驅(qū)動(dòng)模塊，以驅(qū)動(dòng)一構(gòu)件進(jìn)行一定距離上的移動(dòng)。舉例而言，部分具拍攝功能的相機(jī)裝置中設(shè)置有光學(xué)防手震(Optical Image Stabilization)驅(qū)動(dòng)模塊，以達(dá)到提升影像質(zhì)量的目的。

然而，傳統(tǒng)驅(qū)動(dòng)模塊使用高成本的精密驅(qū)動(dòng)組件作為驅(qū)動(dòng)構(gòu)件的動(dòng)力來源(例如：步進(jìn)馬達(dá)、超音波馬達(dá)、壓電致動(dòng)器，等等)以及相當(dāng)多的傳動(dòng)組件。不僅使得機(jī)械架構(gòu)復(fù)雜，而具有組裝步驟繁瑣不易、體積大、成本高昂，以及耗電量大的缺點(diǎn)，造成價(jià)格無法下降。

另一方面，在具有光學(xué)防手震驅(qū)動(dòng)模塊的相機(jī)裝置中，用于一承載鏡頭的承載基座利用多條吊環(huán)線懸吊于一底座之上。由于上述吊環(huán)線需要具有一定長度，導(dǎo)致相機(jī)裝置的厚度無法進(jìn)行降低。并且，在相機(jī)裝置未執(zhí)行影像提取時(shí)，為了使承載基座相對(duì)底座保持于特定位置，光學(xué)防手震驅(qū)動(dòng)模塊需要持續(xù)消耗電力。

因此，一種具有體積小、節(jié)省電力優(yōu)點(diǎn)的驅(qū)動(dòng)模塊，已成為業(yè)者進(jìn)行研發(fā)的方向。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明的一目的在于提供一種電磁驅(qū)動(dòng)模塊，其配置用于提供一動(dòng)力，以驅(qū)動(dòng)電子產(chǎn)品內(nèi)的一構(gòu)件(例如：鏡頭組件)進(jìn)行移動(dòng)。

根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，上述電磁驅(qū)動(dòng)模塊包括：一可動(dòng)部、一固定部、多個(gè)滾珠、一驅(qū)動(dòng)磁鐵、一驅(qū)動(dòng)線圈及一磁性組件?？蓜?dòng)部與固定部沿一主軸排列。可動(dòng)部配置用于承載一組件(例如：鏡頭組件)。多個(gè)滾珠與驅(qū)動(dòng) 磁鐵配置位于可動(dòng)部與固定部之間。驅(qū)動(dòng)線圈相對(duì)驅(qū)動(dòng)磁鐵設(shè)置，并配置用于使可動(dòng)部相對(duì)固定部在垂直主軸的方向上移動(dòng)。磁性組件相對(duì)驅(qū)動(dòng)磁鐵設(shè)置，其中驅(qū)動(dòng)磁鐵與磁性組件間相互吸引的磁力大于可動(dòng)部、組件及驅(qū)動(dòng)磁鐵的重量的總和。

在上述實(shí)施例中，多個(gè)滾珠包括一第一滾珠、一第二滾珠、一第三滾珠及一第四滾珠，第一、二、三滾珠直接接觸可動(dòng)部與固定部，且第四滾珠與可動(dòng)部或固定部之一者間相隔一距離。

在上述實(shí)施例中，在平行主軸的方向上，磁性組件的投影完全位于驅(qū)動(dòng)磁鐵之上。

在上述實(shí)施例中，固定部的形狀為矩形，且驅(qū)動(dòng)磁鐵與磁性組件的形狀皆為長方形，驅(qū)動(dòng)磁鐵與磁性組件的長邊平行于固定部的一側(cè)邊配置。

在上述實(shí)施例中，電磁驅(qū)動(dòng)模塊還包括一殼體圍繞可動(dòng)部與驅(qū)動(dòng)磁鐵，其中在垂直主軸的方向上，可動(dòng)部與殼體間的距離，小于驅(qū)動(dòng)磁鐵與殼體間的距離。

在上述實(shí)施例中，可動(dòng)部包括一后表面面向固定部，多個(gè)凹槽形成于后表面，其中每一凹槽配置用以容置上述多個(gè)滾珠至少其中之一者。

在上述實(shí)施例中，在垂直主軸的方向上，上述多個(gè)滾珠較驅(qū)動(dòng)磁鐵遠(yuǎn)離主軸。

在上述實(shí)施例中，電磁驅(qū)動(dòng)模塊還包括一基板位于可動(dòng)部與固定部之間，驅(qū)動(dòng)線圈設(shè)置于基板上，其中基板具有多個(gè)凹口，上述多個(gè)滾珠各自位于凹口內(nèi)。

本發(fā)明的另一目的在于提供一利用上述任一實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的相機(jī)裝置。相機(jī)裝置還包括一鏡頭組件，設(shè)置于承載基座上。

本發(fā)明的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的可動(dòng)部以滑動(dòng)的方式設(shè)置于固定部之上，因此與傳統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)模塊相比，本發(fā)明的電磁驅(qū)動(dòng)模塊至少具有方便組裝、厚度較薄的優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，傳統(tǒng)技術(shù)中用于懸掛可動(dòng)部的吊環(huán)線得以省略，電磁驅(qū)動(dòng)組件的厚度因此減少。另外，通過驅(qū)動(dòng)磁鐵與磁性組件間所產(chǎn)生的磁吸力，可動(dòng)部的位置可以更精確的被控制。于是，在電磁驅(qū)動(dòng)組件應(yīng)用于相機(jī)裝置時(shí)，影像質(zhì)量進(jìn)一步改善。

附圖說明

圖1顯示本發(fā)明的第一實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的爆炸圖。

圖2顯示本發(fā)明的第一實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的示意圖。

圖3顯示沿圖1的A-A’截線所視的剖面示意圖。

圖4顯示沿圖1的B-B’截線所視的剖面示意圖。

圖5顯示本發(fā)明的一實(shí)施例的相機(jī)裝置的示意圖。

圖6顯示本發(fā)明的第二實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的爆炸圖。

圖7顯示本發(fā)明的第二實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊的示意圖。

圖8顯示沿圖1的C-C’截線所視的剖面示意圖。

其中，附圖標(biāo)記說明如下：

1、1a～電磁驅(qū)動(dòng)模塊

2～相機(jī)裝置

3～鏡頭組件

4～主電路板

5～光感測(cè)組件

10、10a～殼體

11、11 a～上殼件

12、12a～側(cè)殼件

13、13a～開口

20、20a～固定部

201～上表面

21、21a～平臺(tái)

22、22a～平臺(tái)

23、23a～平臺(tái)

24、24a～平臺(tái)

25、25a～基板

250a～側(cè)緣

251～上表面

26、26a～開口

30、30a～磁性組件

31、31a～磁性組件

32～連結(jié)部

40、40a～感測(cè)組件

41、41a～霍爾傳感器

50、50a～電路板

501a～側(cè)邊

502a～連結(jié)邊

51、51a～開口

52～凹口

60、60a～線圈組件

61、61a～基板

611a～側(cè)邊

612a～連結(jié)邊

62、62a～線圈

63～凹口

64～開口

70、70a～可動(dòng)部

701、701a～上表面

702、702a～下表面

703、703a～側(cè)表面

704、704a～凹部

71、71a～凹槽

72、72a～凹槽

73、73a～凹槽

74、74a～凹槽

75、75a～開口

80、80a～滾珠組件

81、81a～滾珠(第一滾珠)

82、82a～滾珠(第二滾珠)

83、83a～滾珠(第三滾珠)

84、84a～滾珠(第四滾珠)

90、90a～驅(qū)動(dòng)磁鐵組件

91、91a～驅(qū)動(dòng)磁鐵

d1～距離

d2～距離

M～主軸

具體實(shí)施方式

以下將特舉多個(gè)具體的較佳實(shí)施例，并配合所附附圖做詳細(xì)說明，圖上顯示多個(gè)實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以許多不同形式實(shí)施，不局限于以下所述的實(shí)施例，在此提供的實(shí)施例可使得發(fā)明得以更透徹及完整，以將本發(fā)明的范圍完整地傳達(dá)予同領(lǐng)域熟悉此技藝者。

必需了解的是，為特別描述或圖標(biāo)的組件可以此技術(shù)人士所熟知的各種形式存在。此外，當(dāng)某層在其它層或基板“上”時(shí)，有可能是指“直接”在其它層或基板上，或指某層在其它層或基板上，或指其它層或基板之間夾設(shè)其它層。

此外，實(shí)施例中可能使用相對(duì)性的用語，例如“較低”或“底部”及“較高”或“頂部”，以描述圖標(biāo)的一個(gè)組件對(duì)于另一組件的相對(duì)關(guān)系。能理解的是，如果將圖標(biāo)的裝置翻轉(zhuǎn)使其上下顛倒，則所敘述在“較低”側(cè)的組件將會(huì)成為在“較高”側(cè)的組件。

在此，“約”、“大約”的用語通常表示在一給定值或范圍的20％之內(nèi)，較佳是10％之內(nèi)，且更佳是5％之內(nèi)。在此給定的數(shù)量為大約的數(shù)量，意即在沒有特定說明的情況下，仍可隱含“約”、“大約”的含義。

參照?qǐng)D1，本發(fā)明的第一實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊1包括：一殼體10、一固定部20、一磁性組件30、一感測(cè)組件40、一電路板50、一線圈組件60、一可動(dòng)部70、一滾珠組件80及一驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90。電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的組件可依照需求進(jìn)行增加或減少，并不僅以此實(shí)施例為限。

在此實(shí)施例中，殼體10包括一上殼件11及多個(gè)側(cè)殼件12。上殼件11的形狀為矩形，殼體10包括四個(gè)側(cè)殼件12自上殼件11的邊緣朝固定部20延伸。相鄰兩個(gè)側(cè)殼件12彼此相互連結(jié)。一開口13形成于上殼件11的實(shí)質(zhì) 中心，開口13為一主軸M所通過。

固定部20通過殼體10的側(cè)殼件12連結(jié)于殼體10，以定義一用于容置電磁驅(qū)動(dòng)模塊1其余組件的空間。在此實(shí)施例中，固定部20包括一基板25，其中一開口26形成于基板25的實(shí)質(zhì)中心，開口26為主軸M所通過。另外，固定部20包括多個(gè)自基板25的上表面251朝向上殼件11凸出的平臺(tái)(例如平臺(tái)21、22、23、24)。平臺(tái)21、22、23、24圍繞開口26配置。在此實(shí)施例中，開口26的邊緣為圓形，平臺(tái)21、22、23、24配置以在開口26的周向上間隔相同間距，然本發(fā)明并不僅此為限。在其余未圖示的實(shí)施例中，相鄰的兩個(gè)平臺(tái)間距離相異間隔。舉例而言，平臺(tái)21、22、23的相距第一間隔，平臺(tái)24與平臺(tái)21、23分別相距第二間隔，第二間隔大于第一間隔。另外，平臺(tái)21、22、23、24的高度可以相同或相異。舉例而言，平臺(tái)21、22、23具有第一高度，平臺(tái)24具有第二高度，第一高度不同于第二高度。

磁性組件30配置用于與驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90產(chǎn)生一磁力以固定可動(dòng)部70于固定座20之上。在此實(shí)施例中，磁性組件30包括四個(gè)磁性組件31及四個(gè)連結(jié)部32。四個(gè)磁性組件31可為磁鐵或其他可為磁力所吸引的磁性材料(例如：鐵、硅鋼、鎳鐵、鈷鐵、不銹鋼、軟磁鐵氧體或其組合)所制成。每一磁性組件31的形狀為一長方形。連結(jié)部32連接于相鄰兩個(gè)磁性組件31之間。磁性組件31與連結(jié)部32部可以利用相同材料以一體成型的方式所制成。或者，磁性組件31與連結(jié)部32利用相異材料制成。

磁性組件30可利用任何適當(dāng)?shù)姆绞竭B結(jié)于固定部20。在一些實(shí)施例中，磁性組件30以埋入射出成型(insert molding)的方式設(shè)置于固定部20上。舉例而言，磁性組件30的連結(jié)部32的部分結(jié)構(gòu)埋設(shè)于平臺(tái)21、22、23、24內(nèi)，磁性組件31則暴露于固定部20的上表面251的外部?；蛘?，磁性組件30的整體埋設(shè)于固定部20當(dāng)中。

感測(cè)組件40配置用于感測(cè)可動(dòng)部70的位移，并傳送其檢測(cè)結(jié)果至一控制單元(圖未示)?？刂茊卧鶕?jù)感測(cè)組件40所檢測(cè)的結(jié)果發(fā)送控制信號(hào)以控制可動(dòng)部的位移。感測(cè)組件40設(shè)置于固定部20之上的適當(dāng)位置。在此實(shí)施例中，感測(cè)組件40包括兩個(gè)霍爾傳感器41，并且固定部20還包括兩個(gè)容置槽形成于固定部20的上表面。兩個(gè)霍爾傳感器41分別設(shè)置于兩個(gè)容置槽其中之一者。

電路板50配置用以接收來自外部的電子信號(hào)以及/或者電源。在部分實(shí)施例中，電路板50設(shè)置于固定部20的上表面201之上。如圖1所示，一開口51形成于電路板50的實(shí)質(zhì)中心，開口51為一主軸M所通過。多個(gè)凹口52分別對(duì)應(yīng)于平臺(tái)21、22、23、24形成于開口51的邊緣。

線圈組件60配置用于接收一驅(qū)動(dòng)電流以產(chǎn)生一磁場(chǎng)，使可動(dòng)部70相對(duì)于固定部20進(jìn)行移動(dòng)。在此實(shí)施例中，線圈組件60包括一基板61及四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62。驅(qū)動(dòng)線圈62以適當(dāng)?shù)姆绞叫纬捎诨?1之上，并通過基板61內(nèi)部的電路電性連接至電路板50。一開口64形成于基板61的實(shí)質(zhì)中心，開口64為一主軸M所通過。多個(gè)凹口63分別對(duì)應(yīng)于平臺(tái)21、22、23、24形成于開口64的邊緣。四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62設(shè)置于基板61并周向圍繞于開口64，然而本發(fā)明并不僅此為限。在其余未圖示的實(shí)施例中，線圈組件60的基板61可省略設(shè)置，四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62直接形成于電路板50之上。

可動(dòng)部70配置用于承載一組件(例如：鏡頭組件)。在此實(shí)施例中，可動(dòng)部70具有一上表面701、一下表面702及多個(gè)側(cè)表面703。上表面701直接面向上殼件11，無其余組件設(shè)置于其間。下表面702面向固定部20。在此實(shí)施例中，上表面701與下表面702的形狀為矩形。四個(gè)側(cè)表面703各自連結(jié)于上表面701與下表面702之間。一通道75相對(duì)開口13沿主軸M貫穿可動(dòng)部70。

參照?qǐng)D2、3，圖2顯示本發(fā)明的第一實(shí)施例的作動(dòng)組件1的平面示意圖，圖3顯示沿圖2的A-A’截線所視的剖面示意圖。在部分實(shí)施例中，四個(gè)凹槽71、72、73、74分別相對(duì)于固定部20的平臺(tái)21、22、23、24形成于可動(dòng)部70的下表面702。在部分實(shí)施例中，凹槽71、72、73、74開口的形狀相似于其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21、22、23、24的形狀。

在此實(shí)施例中，四個(gè)凹槽71、72、73、74與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21、22、23、24之間在平行主軸M的方向上的間距具有差異，并非完全相同。舉例而言，凹槽74與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)24之間在平行主軸M的方向上的間距大于凹槽71、72、73與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21、22、23之間在平行主軸M的方向上的間距。

滾珠組件80設(shè)置于可動(dòng)部70與固定部20之間，并配置用于支撐可動(dòng)部70于固定部20之上。具體而言，滾珠組件80包括多個(gè)滾珠，例如：第一滾 珠81、第二滾珠82、第三滾珠83、第四滾珠84。第一、二、三、四滾珠81、82、83、84分別設(shè)置于凹槽71、72、73、74與平臺(tái)21、22、23、24之間。并且，如圖3所示，第一、二、三、四滾珠81、82、83、84位于電路板50的凹口52及線圈組件60的凹口63內(nèi)部。

在此實(shí)施例中，第一、二、三、四滾珠81、82、83、84的球徑實(shí)質(zhì)相同。并且，凹槽71、72、73與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21、22、23之間在平行主軸M的方向上的間距相同于第一、二、三、四滾珠81、82、83、84的球徑。另外，凹槽74與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)24之間在平行主軸M的方向上的間距大于第一、二、三、四滾珠81、82、83、84的球徑。因此，第一、二、三滾珠81、82、83直接接觸凹槽71、72、73的底部與平臺(tái)21、22、23表面。在此同時(shí)，第四滾珠74未同時(shí)接觸凹槽74的底部及平臺(tái)24，第四滾珠74與凹槽74的底部或平臺(tái)24間相隔一距離。

在此實(shí)施例中，在電磁驅(qū)動(dòng)模塊1處于靜止?fàn)顟B(tài)或在驅(qū)動(dòng)狀態(tài)時(shí)，第一、二、三滾珠81、82、83所形成三個(gè)支撐點(diǎn)使可動(dòng)部70可相對(duì)固定部20維持水平移動(dòng)不致傾斜。另一方面，上述第四滾珠74與凹槽74的底部或平臺(tái)24間相隔一間距的特征適當(dāng)?shù)奶峁┮痪彌_，當(dāng)電磁驅(qū)動(dòng)模塊1受外力沖擊時(shí)，可動(dòng)部70上的組件不致受到損壞。應(yīng)當(dāng)理解的是，本發(fā)明并不僅此為限，各種其他結(jié)構(gòu)上的變化或更改同樣應(yīng)視為本發(fā)明的實(shí)施例。

舉例而言，在一些未圖示的實(shí)施例中，第四滾珠84的球徑小于第一、二、三滾珠81、82、83的球徑。并且，凹槽71、72、73、74與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21、22、23、24之間的間距皆相同于第一、二、三滾珠81、82、83的球徑。因此，當(dāng)?shù)谝?、二、三、四滾珠81、82、83、84設(shè)置于凹槽71、72、73、74與平臺(tái)21、22、23、24之間時(shí)，且電磁驅(qū)動(dòng)模塊1處于靜止?fàn)顟B(tài)下時(shí)，第一、二、三滾珠81、82、83直接接觸凹槽71、72、73的底部與平臺(tái)21、22、23表面。在此同時(shí)，第四滾珠74未同時(shí)接觸凹槽74的底部及平臺(tái)24，第四滾珠74與凹槽74的底部或平臺(tái)24間相隔一距離。

參照?qǐng)D2、4，圖4顯示沿圖1的B-B’截線所視的剖面示意圖。在此實(shí)施例中，如圖4所示，四個(gè)凹部704(圖4僅顯示兩個(gè)凹部704)分別鄰接可動(dòng)部70的四個(gè)側(cè)表面703之一，并形成于可動(dòng)部70的下表面702之上。

驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90包括四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91。四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91分別設(shè)置于四 個(gè)凹部704之一。在此實(shí)施例中，如圖4所示，四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91(圖4僅顯示兩個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91)分別相對(duì)于四個(gè)磁性組件31(圖4僅顯示兩個(gè)磁性組件31)之一者。四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91與四個(gè)磁性組件31間所產(chǎn)生的磁吸力大于可動(dòng)部70的重量及所有位于可動(dòng)部70上的組件的重量的總和。舉例而言，若可動(dòng)部70用于承載一鏡頭組件(未圖標(biāo)于圖4)，則四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91與四個(gè)磁性組件31間所產(chǎn)生的磁吸力大于可動(dòng)部70、四個(gè)磁性組件31及鏡頭組件的重量的總和。

在此實(shí)施例之中，驅(qū)動(dòng)磁鐵91的形狀為長方形，且磁性組件31的形狀為長方形，驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31的長邊皆平行相鄰的側(cè)殼件12延伸。另外，在此實(shí)施例之中，驅(qū)動(dòng)磁鐵91的短邊的寬度大于磁性組件31的短邊的寬度。驅(qū)動(dòng)磁鐵91的短邊的寬度與磁性組件31的短邊的寬度的比值可依照電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的驅(qū)動(dòng)特性進(jìn)行調(diào)整。在一實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)磁鐵91的短邊的寬度與磁性組件31的短邊的寬度的比值介于約0.01-約100之間。并且，當(dāng)電磁驅(qū)動(dòng)模塊1位于靜止?fàn)顟B(tài)下時(shí)，磁性組件31位于驅(qū)動(dòng)磁鐵91的實(shí)質(zhì)中心。于是，在平行主軸M的方向上，四個(gè)磁性組件31的投影完全位于驅(qū)動(dòng)磁鐵91之上。關(guān)于上述特征所產(chǎn)生的功效將于后續(xù)內(nèi)容中說明。

另外，如圖4所示，在此實(shí)施例中，在垂直主軸M的方向上，凹部704的寬度大于驅(qū)動(dòng)磁鐵91的寬度，因此可動(dòng)部70與殼體10的間距相異于驅(qū)動(dòng)磁鐵91與殼體10的間距。在此實(shí)施例中，可動(dòng)部70的側(cè)表面703與殼體10的側(cè)殼件12間的間距為d1，并且驅(qū)動(dòng)磁鐵91與殼體10的側(cè)殼件12間的間距為d2。間距d1小于間距d2。關(guān)于此特征所產(chǎn)生的功效將于后續(xù)內(nèi)容中說明。

參照?qǐng)D1-4，根據(jù)本發(fā)明的一實(shí)施例，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的作動(dòng)方式說明如下。

在此實(shí)施例中，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1在未作動(dòng)狀態(tài)下，可動(dòng)部70通過驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31間所產(chǎn)生的磁吸力設(shè)置于固定部20之上。此時(shí)，由于上述磁吸力大于可動(dòng)部70及設(shè)置于可動(dòng)部70上所有組件的重量，故可動(dòng)部70不會(huì)相對(duì)于固定部20產(chǎn)生Z方向(平行主軸M)的位移。另外，由于可動(dòng)部70是通過第一、二、三滾珠81、82、83設(shè)置于固定部20之上，可動(dòng)部70沒有相對(duì)固定部20傾斜的問題。相較于傳統(tǒng)技術(shù)中，以吊繩懸吊可動(dòng)部 于固定部上方的技術(shù)而言，本發(fā)明的電磁驅(qū)動(dòng)模塊1在靜止?fàn)顟B(tài)下不需額外提供電流維持可動(dòng)部70相對(duì)固定部20的位置，故較為省電。

欲使電磁驅(qū)動(dòng)模塊1作動(dòng)時(shí)，一電子裝置的控制模塊(圖未示)提供驅(qū)動(dòng)電流至電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的驅(qū)動(dòng)線圈62。于是，可動(dòng)部70的位置可以通過驅(qū)動(dòng)線圈62與驅(qū)動(dòng)磁鐵91的磁力作用而相對(duì)固定部20在垂直主軸M的方向上移動(dòng)至對(duì)齊主軸M的位置。在電磁驅(qū)動(dòng)模塊1作動(dòng)過程中，感測(cè)組件40的霍爾傳感器41持續(xù)感測(cè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91的磁場(chǎng)變化，回送可動(dòng)部70相對(duì)固定部20的位置至控制模塊(圖未示)，以形成閉合回路控制(closed-loop control)。

在此實(shí)施例中，驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31的長邊皆平行相鄰的側(cè)殼件12延伸，故驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31間的磁吸力對(duì)稱分布。因此，在上述調(diào)整可動(dòng)部70位置的過程中，驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31間的磁吸力可以避免可動(dòng)部70產(chǎn)生回旋方向的位移(cross talk，繞平行Z軸的方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的位移)。于是，可動(dòng)部70的控制精度(control accuracy)可以提升。另外，由于在平行主軸M的方向上，磁性組件31的投影完全位于驅(qū)動(dòng)磁鐵91之上，即便可動(dòng)部70產(chǎn)生大幅度的位移，驅(qū)動(dòng)磁鐵91與磁性組件31間的磁吸力仍不致衰減。

另一方面，由于可動(dòng)部70與殼體10的間距小于驅(qū)動(dòng)磁鐵91與殼體10的間距，在調(diào)整可動(dòng)部70位置的過程中，若可動(dòng)部70意外碰撞至殼體10的側(cè)殼件12，可動(dòng)部70的側(cè)表面703可以保護(hù)驅(qū)動(dòng)磁鐵91不會(huì)受到殼體10的側(cè)殼件12碰撞，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的可靠度因此增加。

參照?qǐng)D5，其顯示本發(fā)明的一實(shí)施例的相機(jī)裝置2的示意圖。在此實(shí)施例中，相機(jī)裝置2包括一電磁驅(qū)動(dòng)模塊1、一鏡頭組件3、一主電路板4及一光感測(cè)組件5。鏡頭組件3設(shè)置于電磁驅(qū)動(dòng)模塊1的承載組件70的信道75內(nèi)部，且包括一或多個(gè)光學(xué)鏡片沿主軸M排列，光學(xué)鏡片的光軸重疊于主軸M。磁性組件30與驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90間的磁吸力根據(jù)鏡頭組件3的重量進(jìn)行調(diào)配。在此實(shí)施例中，磁性組件30與驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90間的磁吸力大于鏡頭組件3、可動(dòng)部70、驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90的重量的總和。光感測(cè)組件5相對(duì)主軸M設(shè)置于主電路板4之上。光感測(cè)組件5例如是互補(bǔ)式金氧半場(chǎng)效晶體管(CMOS)傳感器，接收通過鏡頭組件3的光線，并產(chǎn)生一影像信號(hào)。

在此實(shí)施例中，于相機(jī)裝置2進(jìn)行影像提取的過程中，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1持續(xù)對(duì)鏡頭組件3的位置進(jìn)行調(diào)整。因此，在相機(jī)裝置2產(chǎn)生晃動(dòng)時(shí)，通過鏡頭組件3的光線仍然可以正確折射在光感測(cè)組件5上。如此一來，相機(jī)裝置2產(chǎn)生的影像的質(zhì)量得以提升。

圖6顯示本發(fā)明的第二實(shí)施例的電磁驅(qū)動(dòng)模塊1a。在此實(shí)施例中，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1a包括一殼體10a、一固定部20a、一磁性組件30a、一感測(cè)組件40a、一電路板50a、一線圈組件60a、一可動(dòng)部70a、一滾珠組件80a及一驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90a。電磁驅(qū)動(dòng)模塊1a的組件可依照需求進(jìn)行增加或減少，并不僅以此實(shí)施例為限。

在此實(shí)施例中，殼體10a包括一上殼件11a及多個(gè)側(cè)殼件12a。上殼件11a的形狀為矩形，殼體10a包括四個(gè)側(cè)殼件12a自上殼件11a的邊緣朝固定部20a延伸。每一側(cè)殼件12a彼此相互連結(jié)。一開口13a形成于上殼件11的實(shí)質(zhì)中心，開口13a為一主軸M所通過。

固定部20a通過殼體10a的側(cè)殼件12a連結(jié)于殼體10a，以定義一用于容置電磁驅(qū)動(dòng)模塊1a其余組件的空間。在此實(shí)施例中，固定部20a包括一基板25a，其中一開口26a形成于基板25a的實(shí)質(zhì)中心，開口26a為主軸M所通過。另外，固定部20a包括多個(gè)自基板25的上表面朝向上殼件11凸出的平臺(tái)(例如平臺(tái)21a、22a、23a、24a)。平臺(tái)21a、22a、23a、24a分別設(shè)置于基板25a的兩個(gè)側(cè)緣250a的交會(huì)角。平臺(tái)21a、22a、23a、24a的高度可以相同或相異。舉例而言，平臺(tái)21a、22a、23a的高度不同于平臺(tái)24a的高度。

磁性組件30a配置用于與驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90a產(chǎn)生一磁力以固定可動(dòng)部70a于固定座20a之上。在此實(shí)施例中，磁性組件30a包括四個(gè)磁性組件31a。四個(gè)磁性組件31a可為磁鐵或其他可為磁力所吸引的磁性材料(例如：鐵、硅鋼、鎳鐵、鈷鐵、不銹鋼、軟磁鐵氧體或其組合)所制成。磁性組件30a可利用任何適當(dāng)?shù)姆绞竭B結(jié)于固定部20a。在此實(shí)施例中，固定部20a包括四個(gè)容置槽分別相鄰平臺(tái)21a、22a、23a、24a設(shè)置于固定部20a的上表面。四個(gè)磁性組件31a分別設(shè)置于四個(gè)容置槽其中之一者。

感測(cè)組件40a配置用于檢測(cè)可動(dòng)部的位移，并傳送其檢測(cè)結(jié)果至一控制單元(圖未示)?？刂茊卧鶕?jù)感測(cè)組件40a所檢測(cè)的結(jié)果發(fā)送控制信號(hào)以 控制可動(dòng)部的位移。感測(cè)組件40a設(shè)置于固定部20a之上的適當(dāng)位置。在此實(shí)施例中，感測(cè)組件40a包括兩個(gè)霍爾傳感器41a，并且固定部20a還包括兩個(gè)容置槽形成于固定部20a的上表面。兩個(gè)霍爾傳感器41a分別設(shè)置于兩個(gè)容置槽其中之一者。

電路板50a配置用以接收來自外部的電子信號(hào)以及/或者電源。在部分實(shí)施例中，電路板50a設(shè)置于固定部20之上。如圖6所示，電路板50a包括四側(cè)邊501a，其中每兩個(gè)側(cè)邊501a由一連結(jié)邊502a所連結(jié)。連結(jié)邊502a的位置及形狀對(duì)應(yīng)于平臺(tái)21a、22a、23a、24a的內(nèi)緣的位置及形狀。

線圈組件60a配置用于接收一驅(qū)動(dòng)電流以產(chǎn)生一磁場(chǎng)，使可動(dòng)部70a相對(duì)于固定部20a進(jìn)行移動(dòng)。在此實(shí)施例中，線圈組件60a包括一基板61a及四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62a。一開口64a形成于基板61a的實(shí)質(zhì)中心，開口64a為一主軸M所通過。驅(qū)動(dòng)線圈62a以適當(dāng)?shù)姆绞叫纬捎诨?1a之上，并通過基板61a內(nèi)部的電路電性連接至電路板50a。如圖6所示，基板61a包括四個(gè)側(cè)邊611a，其中每兩個(gè)側(cè)邊611a由一連結(jié)邊612a所連結(jié)。連結(jié)邊612a的位置及形狀對(duì)應(yīng)于平臺(tái)21a、22a、23a、24a的內(nèi)緣的位置及形狀。四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62a分別相鄰連結(jié)邊612a設(shè)置于基板61a，然本發(fā)明并不僅此為限。在其余未圖示的實(shí)施例中，線圈組件60a的基板61a省略設(shè)置，四個(gè)驅(qū)動(dòng)線圈62a直接設(shè)置于電路板50a之上。

可動(dòng)部70a配置用于承載一組件(例如：鏡頭組件)。在此實(shí)施例中，可動(dòng)部70a具有一上表面701a、一下表面702a及多個(gè)側(cè)表面703a。上表面701a面向上殼件11a，且下表面702a面向固定部20a。在此實(shí)施例中，上表面701a與下表面702a的形狀為矩形，殼體可動(dòng)部70a包括四個(gè)側(cè)表面703a。四個(gè)側(cè)表面703a各自連結(jié)于上表面701a與下表面702a之間。一通道75a相對(duì)開口13a沿主軸M貫穿可動(dòng)部70a。

參照?qǐng)D7、8，圖7顯示本發(fā)明的第二實(shí)施例的作動(dòng)組件1a的平面示意圖，圖8顯示沿圖7的C-C’截線所視的剖面示意圖。在部分實(shí)施例中，四個(gè)凹槽71a、72a、73a、74a分別相對(duì)于固定部20a的平臺(tái)21a、22a、23a、24之一者形成于可動(dòng)部70a的下表面702a。在部分實(shí)施例中，凹槽71a、72a、73a、74a開口的形狀相似于其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21a、22a、23a、24a的形狀。

在此實(shí)施例中，四個(gè)凹槽71a、72a、73a、74a與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21a、 22a、23a、24a之間在平行主軸M的方向上的間距具有差異，并非完全相同。舉例而言，凹槽74a與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)24a之間在平行主軸M的方向上的間距大于凹槽71a、72a、73a與其所對(duì)應(yīng)的平臺(tái)21a、22a、23a之間在平行主軸M的方向上的間距。

滾珠組件80a設(shè)置于可動(dòng)部70a與固定部20a之間，并配置用于支撐可動(dòng)部70a于固定部20a之上。具體而言，滾珠組件80a包括多個(gè)滾珠，例如：第一滾珠81a、第二滾珠82a、第三滾珠83a、第四滾珠84a。第一、二、三、四滾珠81a、82a、83a、84a分別設(shè)置于凹槽71a、72a、73a、74a與平臺(tái)21a、22a、23a、24a之間。

在此實(shí)施例中，相似于圖1-4的實(shí)施例，四個(gè)滾珠之一并未同時(shí)接觸凹槽的底部及平臺(tái)，滾珠與凹槽的底部或平臺(tái)間相隔一距離。舉例而言，如圖8所示，第四滾珠74a未接觸凹槽74a的底面，第四滾珠74與凹槽74的底面或平臺(tái)24間相隔一距離。

繼續(xù)參照?qǐng)D8，在此實(shí)施例中，四個(gè)凹部704a(圖8僅顯示兩個(gè)凹部704a)分別形成于可動(dòng)部70的下表面702a之上。凹部704a的延伸方向與側(cè)表面703a的延伸方向夾設(shè)一角度，兩者并非平行。另外，在垂直主軸M的方向上，上述平臺(tái)21a、22a、23a、24a較凹部704a遠(yuǎn)離主軸M。

驅(qū)動(dòng)磁鐵組件90a包括四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91a。四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91a分別設(shè)置于四個(gè)凹部704a之一。在此實(shí)施例中，如圖7所示，四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91a分別相對(duì)于四個(gè)磁性組件31a之一者。四個(gè)驅(qū)動(dòng)磁鐵91a與四個(gè)磁性組件31a間所產(chǎn)生的磁吸力大于可動(dòng)部70a的重量及所有位于可動(dòng)部70a上的組件的重量的總和。

在此實(shí)施例中，第一、二、三、四滾珠81a、82a、83a、84a設(shè)置于固定部20a角落的位置。在垂直主軸M的方向上，第一、二、三、四滾珠81a、82a、83a、84a較驅(qū)動(dòng)磁鐵91a遠(yuǎn)離M主軸。因此，電磁驅(qū)動(dòng)模塊1a的體積可以進(jìn)一步減少。

本發(fā)明的電磁驅(qū)動(dòng)組件的可動(dòng)部以滑動(dòng)的接觸的方式設(shè)置于固定部之上，因此傳統(tǒng)技術(shù)中用于懸掛可動(dòng)部的吊環(huán)線得以省略，電磁驅(qū)動(dòng)組件的厚度因此減少。另外，通過驅(qū)動(dòng)磁鐵與磁性組件間所產(chǎn)生的磁吸力，可動(dòng)部的位置可以更精確的被控制。于是，在電磁驅(qū)動(dòng)組件應(yīng)用于相機(jī)裝置時(shí)，影像質(zhì)量 進(jìn)一步改善。

雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例發(fā)明于上，然其并非用以限定本發(fā)明，本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的改動(dòng)與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求書所界定者為準(zhǔn)。