納米光能移相系統(tǒng)及制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種納米光能移相系統(tǒng)及制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，該移相系統(tǒng)包括基底，所述基底表面設(shè)有多個(gè)凸起，所述凸起可使光線從基底上折射、反射到其左下方和右下方位置的光學(xué)用能單元上。本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)可以將照射在基底上的光線基本折射、反射到光學(xué)用能單元上，其凸起厚度為納米級，成本降低，光能轉(zhuǎn)換效率更高。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及太陽能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，特別是指一種納米光能移相系統(tǒng)及制備納米 光能移系統(tǒng)的設(shè)備。 納米光能移相系統(tǒng)及制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備

【背景技術(shù)】
[0002] 能源問題已是世界性問題，充分利用太陽能成為一種必然趨勢。目前太陽能光 電轉(zhuǎn)換技術(shù)有很多，而技術(shù)成熟且已用于發(fā)電的主要是硅基光伏太陽能組件(下稱光伏組 件)，這種能源清潔環(huán)保，但是這種組件的轉(zhuǎn)換率太低，成本太高，這就妨礙了它在多方面的 發(fā)展。本發(fā)明人在2013年12月9日申請的"太陽能光伏組件折光單元"，解決了該技術(shù)問 題，但是該折光單元中的折光板厚，成本高，且光線折射到光伏組件上的效率還有待提高， 因此，本發(fā)明人在此基礎(chǔ)上進(jìn)一步進(jìn)行了研發(fā)。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0003] 本實(shí)用新型的目的在于提供一種納米光能移相系統(tǒng)及制備納米光能移相系統(tǒng)的 設(shè)備，其可以將照射在基底上的光線基本折射、反射到光學(xué)用能單元上，其凸起厚度為納米 級，成本降低，光能轉(zhuǎn)換效率更高。
[0004] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供一種納米光能移相系統(tǒng)，其中包括基底，所述 基底表面設(shè)有多個(gè)凸起，所述凸起可使光線從基底上折射、反射到其左下方或/和右下方 位置的光學(xué)用能單元上。
[0005] 所述凸起為向前后延伸的三棱柱和/或多棱柱和/或向上延伸的棱錐。
[0006] 當(dāng)凸起為所述三棱柱時(shí)，其橫截面為頂角角度范圍是3Γ -6Γ的直角三角形或 頂角角度范圍是75° -110°的等腰三角形。
[0007] 當(dāng)凸起為所述棱錐時(shí)，其縱截面為頂角角度范圍是3Γ -6Γ的直角三角形或頂 角角度范圍是75° -110°的等腰三角形。
[0008] 所述基底為軟性固化透明材料制成。
[0009] 所述基底上與所設(shè)凸起表面相反面連接有玻璃板。
[0010] 一種制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其中包括由電腦系統(tǒng)控制的刀庫，所述刀庫 上設(shè)置有多支刀頭，該些刀頭通過電腦系統(tǒng)控制刀庫在所述基底表面切割出多個(gè)所述凸 起。
[0011] 所述刀頭為鉆石微刀頭。
[0012] 一種制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其中包括擠壓機(jī)機(jī)頭，所述擠壓機(jī)機(jī)頭的右 側(cè)設(shè)置有至少一對用于將物料進(jìn)行第一次擠壓的預(yù)熱輪，所述預(yù)熱輪右側(cè)設(shè)置有用于將物 料表面擠壓出多個(gè)所述凸起的版輥和壓力輪，所述版輥位于壓力輪上方，所述版輥上方左 側(cè)設(shè)置有用于將版輥滾壓過的成品進(jìn)行分離的分離輥，所述分離輥的右側(cè)設(shè)置有將成品進(jìn) 行輸送的成品輸送輥，所述成品輸送輥的右側(cè)下方設(shè)置有多個(gè)支撐成品的成品托輥，所述 成品托輥的右方設(shè)置有剪切機(jī)工作臺，所述剪切機(jī)工作臺上方設(shè)置有用于將成品切割成段 的剪切機(jī)刀架。
[0013] 一種制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其中包括擠壓機(jī)機(jī)頭，所述擠壓機(jī)機(jī)頭的右 側(cè)設(shè)置有至少一對用于將物料進(jìn)行第一次擠壓的預(yù)熱輪，所述預(yù)熱輪右側(cè)設(shè)置有用于擠壓 物料的光輥和壓力輪，所述光輥位于壓力輪上方，所述光輥上方左側(cè)設(shè)置有用于將滾壓過 的物料進(jìn)行分離的分離輥，所述分離輥的右側(cè)上方設(shè)置有用于將物料表面切割出多個(gè)所述 凸起的帶有刀頭的刀庫，所述刀庫的右側(cè)設(shè)置有輸送成品的成品輸送輥，所述成品輸送輥 的右側(cè)下方設(shè)置有多個(gè)支撐成品的成品托輥，所述成品托輥的右方設(shè)置有剪切機(jī)工作臺， 所述剪切機(jī)工作臺上方設(shè)置有用于將成品切割成段的剪切機(jī)刀架。
[0014] 采用上述方案后，本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)通過在基底設(shè)置納米級別的多個(gè) 凸起，這些凸起能將光線全部折射、反射到光學(xué)用能單元上，其通過將現(xiàn)有的凸透鏡對折 射、反射光有用的部分留取，沒用的部分全部去除，使其凸起厚度達(dá)到納米級，體積減小，成 本降低，光能轉(zhuǎn)換效率更高。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015] 圖1是本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016] 圖2是本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的光路原理圖；
[0017] 圖3是本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018] 圖4是本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的實(shí)施例三結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019] 圖5是本實(shí)用新型的安裝結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020] 圖6是本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021] 圖7是本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022] 圖8是本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例三結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0023] 下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員 可以更好的理解本實(shí)用新型并能予以實(shí)施，但所舉實(shí)施例不作為對本實(shí)用新型的限定。
[0024] 如圖1所示，本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)，包括由軟性固化透明材料制成的平 面型基底1，此實(shí)施例中選用三元乙丙材料制成。基底1的下表面設(shè)有多個(gè)納米級高度（〇. 1 納米至1微米）的凸起2,凸起2為向前后延伸、且延伸至基底1前、后端的三棱柱或多棱 柱，且各凸起2的橫截面形狀中一部分凸起2的橫截面為直角三角形，其頂角的角度范圍是 3Γ -6Γ，一部分凸起2的橫截面為等腰三角形，其頂角的角度范圍是75° -110°。
[0025] 結(jié)合圖2所示，射到基底1上的入射光線3,經(jīng)各凸起2后，其折反射線4向右下方 傾斜，折反射線4照射的位置可放置一個(gè)光學(xué)用能單元。而圖中的虛線表示移相物理結(jié)構(gòu) 線5。
[0026] 如圖3所示，為本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意圖，其大部分 結(jié)構(gòu)特征與實(shí)施例一的相同，不同之處是：在基底1的上表面設(shè)置有多個(gè)納米級厚度的凸 起2'，各凸起2'均為向前后延伸的三棱柱，各凸起2'的形狀相同且相互間隔設(shè)置，各凸起 2'的橫截面均為等腰三角形，其頂角為75° -110°，此實(shí)施例為75°。
[0027] 如圖4所示，為本實(shí)用新型納米光能移相系統(tǒng)的實(shí)施例三結(jié)構(gòu)示意圖，其大部分 結(jié)構(gòu)特征與實(shí)施例一的相同，不同之處是：在基底1的上表面設(shè)置有多個(gè)連續(xù)的納米級厚 度的凸起2"，各凸起2"均為向上延伸的四棱錐，該凸起2"的縱截面為等腰三角形，其頂 角為75° -110°，此實(shí)施例為75°。
[0028] 如圖5所示，為本實(shí)用新型的安裝結(jié)構(gòu)示意圖，其將基底1安裝于架體6的上表 面，在架體6的左側(cè)下面和右側(cè)下面對稱放置兩個(gè)光學(xué)用能單元7。該兩個(gè)光學(xué)用能單元7 的形狀、面積與該基底1的形狀、面積相同?；?上的凸起2可使光線從基底1上折射、 反射到其左下方和右下方位置的光學(xué)用能單元7上。
[0029] 當(dāng)需要在玻璃板上加工凸起時(shí)，可以將本實(shí)用新型的表面加工有多個(gè)凸起2的基 底1連接在玻璃板上?；蛑苯影呀Y(jié)構(gòu)制作在玻璃等基底上。
[0030] 如圖6所示，為本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例一結(jié)構(gòu)示意圖， 其包括由電腦系統(tǒng)8控制的刀庫9,刀庫9上設(shè)置有多支刀頭10,刀頭10選用鉆石微刀頭。 該些刀頭10通過電腦系統(tǒng)8控制刀庫9在基底1表面切割出多個(gè)凸起2。
[0031] 如圖7所示，為本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例二結(jié)構(gòu)示意圖， 包括擠壓機(jī)機(jī)頭11，擠壓機(jī)機(jī)頭11的右側(cè)設(shè)置有一對用于將物料進(jìn)行第一次擠壓的預(yù)熱 輪12,預(yù)熱輪12的右側(cè)設(shè)置有用于將物料表面擠壓出多個(gè)凸起2的版輥13和壓力輪14， 版輥13位于壓力輪14的上方，版輥13的上方左側(cè)設(shè)置有用于將版輥13滾壓過的成品進(jìn) 行分離的分離輥15,分離輥15的右側(cè)設(shè)置有將成品進(jìn)行輸送的成品輸送輥16,成品輸送輥 16的右側(cè)下方設(shè)置有多個(gè)支撐成品的成品托輥17,成品托輥17的右方設(shè)置有剪切機(jī)工作 臺18,剪切機(jī)工作臺18上方設(shè)置有用于將成品切割成段的剪切機(jī)刀架19。
[0032] 工作時(shí)，物料從擠壓機(jī)機(jī)頭11出來，經(jīng)一對預(yù)熱輪12進(jìn)行第一次擠壓，之后物料 經(jīng)版輥13與壓力輪14作用在表面擠壓出多個(gè)凸起2,該產(chǎn)品經(jīng)分離輥15分離后，經(jīng)成品輸 送輥16輸送及成品托輥17的支撐，送到剪切機(jī)工作臺18上，經(jīng)剪切機(jī)刀架19切割，制成 我們需要的段產(chǎn)品。
[0033] 如圖8所示，為本實(shí)用新型制備納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備實(shí)施例三結(jié)構(gòu)示意圖， 其大部分結(jié)構(gòu)與圖7的實(shí)施例二相同，不同之處是：版輥13由光輥20替代，并在分離輥15 與成品輸送輥16之間設(shè)置一帶有多個(gè)刀頭10的刀庫9,用于在物料表面切割出多個(gè)凸起 2。其工作過程與圖7所述實(shí)施例相似，此處不在贅述。
[0034] 以上所述實(shí)施例僅是為充分說明本實(shí)用新型而所舉的較佳的實(shí)施例，本實(shí)用新型 的保護(hù)范圍不限于此。本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實(shí)用新型基礎(chǔ)上所作的等同替代或變 換，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1. 一種納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：包括基底，所述基底表面設(shè)有多個(gè)凸起，所述 凸起可使光線從基底上折射、反射到其左下方或/和右下方位置的光學(xué)用能單元上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：所述凸起為向前后延伸的 三棱柱和/或多棱柱和/或向上延伸的棱錐。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：當(dāng)凸起為所述三棱柱時(shí)， 其橫截面為頂角角度范圍是3Γ -6Γ的直角三角形或頂角角度范圍是75° -110°的等 腰三角形。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：當(dāng)凸起為所述棱錐時(shí)，其 縱截面為頂角角度范圍是3Γ -6Γ的直角三角形或頂角角度范圍是75° -110°的等腰 三角形。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：所述基底為軟性固化透明 材料制成。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：所述基底上與所設(shè)凸起表 面相反面連接有玻璃板。
7. -種制備權(quán)利要求1-6之一所述的納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其特征在于：包括由 電腦系統(tǒng)控制的刀庫，所述刀庫上設(shè)置有多支刀頭，該些刀頭通過電腦系統(tǒng)控制刀庫在所 述基底表面切割出多個(gè)所述凸起。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的納米光能移相系統(tǒng)，其特征在于：所述刀頭為鉆石微刀頭。
9. 一種制備權(quán)利要求1-6之一所述的納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其特征在于：包括擠 壓機(jī)機(jī)頭，所述擠壓機(jī)機(jī)頭的右側(cè)設(shè)置有至少一對用于將物料進(jìn)行第一次擠壓的預(yù)熱輪， 所述預(yù)熱輪右側(cè)設(shè)置有用于將物料表面擠壓出多個(gè)所述凸起的版輥和壓力輪，所述版輥位 于壓力輪上方，所述版輥上方左側(cè)設(shè)置有用于將版輥滾壓過的成品進(jìn)行分離的分離輥，所 述分離輥的右側(cè)設(shè)置有將成品進(jìn)行輸送的成品輸送輥，所述成品輸送輥的右側(cè)下方設(shè)置有 多個(gè)支撐成品的成品托輥，所述成品托輥的右方設(shè)置有剪切機(jī)工作臺，所述剪切機(jī)工作臺 上方設(shè)置有用于將成品切割成段的剪切機(jī)刀架。
10. -種制備權(quán)利要求1-6之一所述的納米光能移相系統(tǒng)的設(shè)備，其特征在于：包括 擠壓機(jī)機(jī)頭，所述擠壓機(jī)機(jī)頭的右側(cè)設(shè)置有至少一對用于將物料進(jìn)行第一次擠壓的預(yù)熱 輪，所述預(yù)熱輪右側(cè)設(shè)置有用于擠壓物料的光輥和壓力輪，所述光輥位于壓力輪上方，所述 光輥上方左側(cè)設(shè)置有用于將滾壓過的物料進(jìn)行分離的分離輥，所述分離輥的右側(cè)上方設(shè)置 有用于將物料表面切割出多個(gè)所述凸起的帶有刀頭的刀庫，所述刀庫的右側(cè)設(shè)置有輸送成 品的成品輸送輥，所述成品輸送輥的右側(cè)下方設(shè)置有多個(gè)支撐成品的成品托輥，所述成品 托輥的右方設(shè)置有剪切機(jī)工作臺，所述剪切機(jī)工作臺上方設(shè)置有用于將成品切割成段的剪 切機(jī)刀架。
【文檔編號】H02S40/22GK203911862SQ201420364307
【公開日】2014年10月29日 申請日期:2014年7月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月3日
【發(fā)明者】李會欣, 孫占標(biāo), 閆樹林 申請人:李會欣, 孫占標(biāo), 閆樹林