一種防污閃絕緣子的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種防污閃絕緣子，包括絕緣子本體，設(shè)于絕緣子表面的涂層，其特征在于：涂層包括自絕緣子表面向外依次設(shè)置的磨砂層、粘附層和催化降解層。通過在絕緣子本體表面設(shè)置磨砂層后，有利于通過粘附層敷設(shè)催化降解層于絕緣子本體表面，使絕緣子產(chǎn)品具有良好的耐水性能、耐磨性能，同時(shí)可通過磨砂層折射、散射太陽光，提高太陽光中紫外光的利用率，更有效地提高絕緣子表面的催化降解性能，減少有機(jī)污穢沉積，降低污閃發(fā)生的幾率，保證電網(wǎng)安全運(yùn)行。
【專利說明】
一種防污閃絕緣子
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種防污閃絕緣子，屬于電力設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]絕緣子在發(fā)電廠和變電站的配電裝置中，用來支持和固定載流導(dǎo)體，并使載流導(dǎo)體的相與相之間以及相與地之間絕緣。因此，要求絕緣子應(yīng)有足夠的絕緣強(qiáng)度和機(jī)械強(qiáng)度，并能在惡劣的環(huán)境如高溫、潮濕、多塵埃、污垢下安全運(yùn)行。通常，在線運(yùn)行的絕緣子大多處于大氣環(huán)境中，表面會逐漸沉積一層污穢物，當(dāng)遇到潮濕天氣時(shí)，污穢物中的可溶性物質(zhì)會溶于水而形成導(dǎo)電水膜，這樣就會有泄漏電流沿絕緣子表面流過，流過的電流大小主要取決于臟污程度和受潮程度。當(dāng)臟污和受潮較嚴(yán)重時(shí)，局部電弧會逐步發(fā)展，當(dāng)達(dá)到或超過臨界狀態(tài)時(shí)，電弧會貫穿兩極，形成污穢閃絡(luò)，簡稱污閃。一旦絕緣子產(chǎn)生污閃，會對電力系統(tǒng)的安全運(yùn)行帶來嚴(yán)重威脅。目前，針對絕緣子污閃的預(yù)防措施主要有:加大絕緣子爬電距離、增強(qiáng)絕緣子表面憎水性能、人工定期清潔等，這些措施存在的主要問題有:1.不能從根本上解決污穢物沉積的問題;2.成本較高?，F(xiàn)有技術(shù)中對絕緣子表面采用涂覆硅橡膠的辦法，但硅橡膠為彈性物質(zhì)，容易吸附灰塵，而且當(dāng)絕緣子的絕緣性能降低時(shí)，人們通常不能及時(shí)發(fā)現(xiàn)，在惡劣條件下容易引發(fā)重大事故。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述不足，本實(shí)用新型提供一種具有優(yōu)良耐水性、粘接性、耐磨性、更高效光催化降解性能的防污閃絕緣子。
[0004]本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案是:一種防污閃絕緣子，包括絕緣子本體，設(shè)于絕緣子表面的涂層，其特征在于:涂層包括自絕緣子表面向外依次設(shè)置的磨砂層、粘附層和催化降解層。通過在絕緣子本體表面設(shè)置磨砂層后，有利于通過粘附層敷設(shè)催化降解層于絕緣子本體表面。
[0005]所述磨砂層是通過化學(xué)方法在絕緣子本體表面處理后形成的磨砂層。
[0006]所述粘附層為硅烷偶聯(lián)劑層。
[0007]所述催化降解層為二氧化鈦與二氧化硅復(fù)合的溶膠層。
[0008]所述磨砂層厚度為0.05?0.1mm。
[0009]所述粘附層厚度為I?1.5μπι。
[0010]所述催化降解層厚度為2?4μπι。
[0011]所述硅烷偶聯(lián)劑為市購產(chǎn)品，二氧化鈦與二氧化硅復(fù)合的溶膠為市購產(chǎn)品鈦酸丁酯與正硅酸乙酯水解得到。
[0012]本實(shí)用新型的有益效果是:通過在絕緣子本體表面設(shè)置磨砂層后，有利于通過粘附層敷設(shè)催化降解層于絕緣子本體表面，使絕緣子產(chǎn)品具有良好的耐水性能、耐磨性能，同時(shí)可通過磨砂層折射、散射太陽光，提高太陽光中紫外光的利用率，更有效地提高絕緣子表面的催化降解性能，減少有機(jī)污穢沉積，降低污閃發(fā)生的幾率，保證電網(wǎng)安全運(yùn)行。
【附圖說明】
[0013]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述。
[0015]如圖1所示，本實(shí)用新型提供的防污閃絕緣子，包括絕緣子本體I，設(shè)于絕緣子本體I表面的涂層，所述涂層包括自絕緣子本體I表面向外依次設(shè)置的磨砂層2、粘附層3和催化降解層4。
[0016]所述磨砂層2是通過常規(guī)化學(xué)方法在絕緣子本體I表面處理后形成的，其厚度為
0.05?0.1mm。所述粘附層為硅烷偶聯(lián)劑層，其厚度為I?1.5μπι。所述催化降解層為二氧化鈦與二氧化硅復(fù)合的溶膠層，其厚度為2?4μηι。
[0017]所述硅烷偶聯(lián)劑為市購產(chǎn)品，是市購產(chǎn)品鈦酸丁酯與正硅酸乙酯水解得到的。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種防污閃絕緣子，包括絕緣子本體，設(shè)于絕緣子表面的涂層，其特征在于:涂層包括自絕緣子表面向外依次設(shè)置的磨砂層、粘附層和催化降解層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防污閃絕緣子，其特征在于:所述磨砂層厚度為0.05?0.1mm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防污閃絕緣子，其特征在于:所述粘附層厚度為I?1.5μπι。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防污閃絕緣子，其特征在于:所述催化降解層厚度為2?4μπι。
【文檔編號】H01B17/38GK205487584SQ201620117403
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年2月6日
【發(fā)明人】黃恒, 彭占榮, 鮑讓, 楊剛
【申請人】昆明理工大電力工程技術(shù)有限公司