預(yù)期所述缺陷的印記會出現(xiàn)在無缺陷光罩上)。然而，即使對于單裸片光罩，一些比較技術(shù)仍可用于找到所關(guān)注的大多數(shù)缺陷。當(dāng)圖案的部分經(jīng)重復(fù)或足夠簡單以自參考時(shí)，可找到或合成參考圖案。與這些被找到或合成的參考的比較可用于檢測缺陷。當(dāng)對于單裸片光罩的檢驗(yàn)使用此類比較技術(shù)時(shí)，存在兩個(gè)主要不足。第一，存在覆蓋問題。無法對于圖案的所有部分找到或合成合適參考。第二，存在錯誤檢測的問題。一些檢測可由圖案中的異常但故意的變動觸發(fā)。這些最經(jīng)常歸因于OPC變動。
[0031]光刻掩?；蚬庹挚砂呻娐泛筒季衷O(shè)計(jì)者和/或合成工具產(chǎn)生的裝置設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。前OPC設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)大體上包含在任何OPC結(jié)構(gòu)被添加到所述設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)之前由設(shè)計(jì)者或合成工具對于特定光罩產(chǎn)生的多邊形。所述前OPC設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)可被認(rèn)為表示設(shè)計(jì)者的意圖且將大體上類似于將用光罩(使用所述光罩設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)制造所述光罩)制造的最終晶片。圖1A為具有兩個(gè)前OPC特征102a和102b(所述特征具有相同形狀和尺寸)的光罩部分100的圖解俯視圖。
[0032]光罩設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)可包含添加到前OPC光罩設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)的OPC裝飾。一般來說，OPC軟件用于分析光罩設(shè)計(jì)且接著基于此類分析將OPC裝飾添加到光罩設(shè)計(jì)。所述OPC裝飾提高了光罩的制造。例如，如果接近于設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)中的角而添加特定OPC提高，那么可在此類角上獲得更清晰的圖像。
[0033]一或多個(gè)OPC產(chǎn)生模型可應(yīng)用于前OPC設(shè)計(jì)，使得基于此類模型產(chǎn)生OPC結(jié)構(gòu)。所述模型可基于實(shí)驗(yàn)和/或模擬結(jié)果。一般來說，術(shù)語0PC、SRAF、細(xì)線和不可印刷結(jié)構(gòu)可在本文中互換使用。
[0034]OPC軟件的一個(gè)特定副作用是相對于相同設(shè)計(jì)圖案而放置的OPC裝飾的高水平的不一致。圖1B說明添加不同OPC裝飾的圖1A的兩個(gè)相同圖案102a和102b。如所展示，OPC軟件添加裝飾104a到104c到第一 L形圖案，且同時(shí)添加OPC裝飾104d到104f到相同L形第二圖案102b。在此實(shí)例中，圖案102a的裝飾104a和104c具有與圖案102b的裝飾104d和104e相同形狀和位置。相比之下，第二圖案102b具有額外的OPC裝飾104f，而第一圖案102a具有呈L形狀的“鉤”中的經(jīng)移除的凹口部分104b的形式的裝飾104b，而L形圖案102b在此相同區(qū)域中保持原貌。
[0035]用于添加OPC裝飾的OPC軟件可在相同前OPC布局上執(zhí)行且因各種原因而引起不同的OPC裝飾。例如，用于給定特征的OPC裝飾的類型和數(shù)目可取決于相對于其它特征分析此特定特征的順序。另外，可給予特征陣列的邊緣特征不同于相同陣列中的相同中心特征的OPC裝飾。OPC軟件可添加不同OPC裝飾到具有不同背景特征或背景的相同特征。即使具有相同背景的特征也可基于不同特征之間的柵格捕捉(grid snap)差異而被給予不同OPC裝飾。
[0036]盡管一些檢驗(yàn)過程對于具有可變OPC裝飾的光罩運(yùn)作良好，但是具有用于相同特征的許多且可變的OPC裝飾的光罩的一些檢驗(yàn)將傾向于引起不可管理的候選事件集合。在一個(gè)實(shí)例中，單裸片檢驗(yàn)包含用于分析光罩的圖像特征以識別異常事件的算法，所述異常事件傾向于包含用于基礎(chǔ)設(shè)計(jì)特征(例如，前OPC特征)的不同OPC裝飾。例如，單裸片檢驗(yàn)過程可定義不同裝飾(圖案102a的104b、圖案102b的104f)為異常事件或候選事件。因?yàn)镺PC軟件傾向于引起較高數(shù)目的可變OPC裝飾，所以在此光罩圖案的單裸片檢驗(yàn)期間通常標(biāo)記較高數(shù)目的候選事件。
[0037]另外，光罩可能包含并未由設(shè)計(jì)者希望作為所述光罩設(shè)計(jì)圖案的部分的人為產(chǎn)物(例如，額外或缺失材料)。然而，可確定某些非刻意的人為產(chǎn)物并不限制用此光罩生產(chǎn)的晶片的良率。單裸片檢驗(yàn)還可將非印刷或非良率限制的異常事件識別為候選缺陷。
[0038]本發(fā)明的某些實(shí)施例包含從檢驗(yàn)報(bào)告過濾缺陷候選事件，所述事件在當(dāng)前檢驗(yàn)中找到且還在對已知在規(guī)格內(nèi)的光罩的先前檢驗(yàn)中找到。經(jīng)過濾的候選事件和其圖像數(shù)據(jù)從系統(tǒng)的存儲器去除且不在(例如)缺陷重檢過程中進(jìn)行進(jìn)一步分析。
[0039]圖2為說明根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例用于產(chǎn)生候選事件的基線的過程200的流程圖。最初，在操作202中可獲得已視為可接受的光罩。已發(fā)現(xiàn)此光罩滿足預(yù)定規(guī)格集合。例如，可能已在之前使用任何合適檢驗(yàn)技術(shù)來檢驗(yàn)光罩且將所述光罩視為不含有影響良率或引起晶片上的可印刷錯誤的任何缺陷?？赏ㄟ^任何合適方式確認(rèn)或定義光罩實(shí)質(zhì)上不具有任何劣化或缺陷。例如，新制造的光罩的買主可假設(shè)已由制造者確認(rèn)所述光罩無缺陷和劣化?；蛘?，可使用光學(xué)或掃描電子顯微鏡檢驗(yàn)光罩以(例如)通過執(zhí)行裸片到數(shù)據(jù)庫檢驗(yàn)從而確定所述光罩上是否存在任何CD均勻度缺陷或所述光罩是否已劣化?？稍谇鍧嵐庹忠匀コ裏熿F以及其它類型的劣化和缺陷后類似地檢驗(yàn)所述光罩。
[0040]此高良率(known-good)光罩包含經(jīng)設(shè)計(jì)為在放置OPC裝飾前相同的設(shè)計(jì)圖案。即，OPC前設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)含有任何數(shù)目和類型的相同圖案。所述高良率光罩還包含相對于至少一些相同設(shè)計(jì)圖案而形成的不同OPC裝飾。例如，OPC軟件已添加OPC裝飾以便更改OPC前設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)以在先前相同的設(shè)計(jì)圖案上包含不同的OPC裝飾，以便產(chǎn)生不相同的OPC裝飾的圖案。
[0041]高良率光罩還可含有到原始光罩的修復(fù)，且這些修復(fù)已經(jīng)確定為產(chǎn)生滿足預(yù)定規(guī)格集合的光罩。例如，可能已去除不期望為光罩圖案的部分的額外材料。在另一實(shí)例中，可能已修復(fù)光罩的缺失材料(例如，與預(yù)期設(shè)計(jì)圖案相比較)的區(qū)域以便添加材料到此區(qū)域。
[0042]接著，在操作204中，可對光罩執(zhí)行單裸片檢驗(yàn)以識別異常事件。一個(gè)類型的檢驗(yàn)為單裸片檢驗(yàn)，所述單裸片檢驗(yàn)包含對裸片的圖像特征實(shí)施統(tǒng)計(jì)分析以定位異常事件，所述異常事件中的每一者可對應(yīng)于一或多個(gè)“候選事件或缺陷”。單裸片檢驗(yàn)過程可包含用于處理圖像特征以識別候選事件的任何合適操作。例如，圖像處理技術(shù)的任何合適組合可用于分析圖像特征且在給定此類特征的背景的情況下確定哪些特征是非典型的。在一個(gè)簡單實(shí)例中，如果幾乎相同的桿的陣列包含具有形成于側(cè)上的凹口的單一桿，那么所述凹口可視為候選缺陷。
[0043]—些實(shí)例單裸片方法包含模板匹配和主成分分析。模板匹配為用于使用共同模板特征作為參考以定位異常特征的圖像處理技術(shù)。例如，第一圖像特征經(jīng)獲取且與其它特征進(jìn)行比較或匹配。即使不存在與所述第一圖像特征匹配的另一特征(或可忽略數(shù)目個(gè)特征)，也將所述第一圖像特征定義為異常或候選事件。窮舉模板匹配方法可用于獲取每一圖像特征和比較所述圖像特征與其它特征?；蛘撸部蓪?shí)施其它過程以更智能和更有效地定位異常特征。例如，可在分析光罩圖像前首先定義共同特征模板集合?？蓪⒛０鍒D像特征轉(zhuǎn)換成特征向量以與其它特征向量進(jìn)行比較。另外，即使存在多個(gè)類似事件，也可將特定特征定義為異常事件。例如，可將在另外OD或ID圖案中出現(xiàn)的小特征識別為異常事件。
[0044]在操作206中，對于對應(yīng)于一或多個(gè)候選缺陷的每一經(jīng)識別的異常事件，可在不保存缺陷重檢數(shù)據(jù)(例如圖像)的情況下保存每一候選缺陷的位置和強(qiáng)度。換句話說，在操作208中摒棄缺陷重檢數(shù)據(jù)(例如圖像和被排除的基線事件數(shù)據(jù))?；€事件數(shù)據(jù)可與故意異常事件(例如通過對于實(shí)質(zhì)上相同的設(shè)計(jì)圖案的OPC裝飾變動所引起的異常事件)相關(guān)。即，至少一些基線事件將大體上對應(yīng)于光罩特征，在對此類光罩特征實(shí)施光學(xué)鄰近校正(OPC)過程以添加OPC裝飾使得此類光罩特征不再相同之前所述多個(gè)光罩特征經(jīng)設(shè)計(jì)為相同的。此基線事件數(shù)據(jù)也可與被視為并非為真實(shí)缺陷或引起良率問題的非刻意或可忽略事件相關(guān)。
[0045]基線事件數(shù)據(jù)含有用于稍后在光罩的隨后單裸片檢驗(yàn)中識別相同事件的最小數(shù)據(jù)集合。在所說明的實(shí)施例中，對于每一候選缺陷的基線事件數(shù)據(jù)包含相對于光罩上的原點(diǎn)位置的位置(例如X和y坐標(biāo))?？梢匀魏魏线m方式(例如通過光罩上的一或多個(gè)原點(diǎn)X和/或Y標(biāo)記)識別所述光罩上的原點(diǎn)位置。例如，十字形標(biāo)記可允許檢驗(yàn)工具參考每一光罩XY位置相對于此標(biāo)記的中心部分的定位。其它識別基線事件數(shù)據(jù)可包含強(qiáng)度值以及在哪一個(gè)通道上獲得所述事件數(shù)據(jù)的強(qiáng)度值(例如，透射或反射通道)。
[0046]可通過首先找到對于每一異常事件的參考而找到對于每一異常事件的一或多個(gè)候選缺陷。候選缺陷在本文中還可稱為異常事件?？稍谥車鷮⒚恳华?dú)有區(qū)域擴(kuò)大邊限量。接著，可從原始圖像收集定制尺寸的矩形片段或模板。此片段含有對應(yīng)于經(jīng)擴(kuò)大的獨(dú)有區(qū)域內(nèi)的像素的原始圖像像素。
[0047]2D權(quán)重陣列可設(shè)置為與矩形片段具有相同的尺寸。這些權(quán)重可用于驅(qū)動對于參考區(qū)域的加權(quán)的正規(guī)化互相關(guān)搜索。在找到匹配圖案的概率為低的情況下，所述權(quán)重可設(shè)置為低。所述權(quán)重可隨著找到匹配圖案的概率增加而增加。因?yàn)橛袝r(shí)在構(gòu)成獨(dú)有區(qū)域的獨(dú)有片段的中心附近存在某獨(dú)有事物，所以在這些模板中心附近找到匹配圖案的概率為低。找到匹配圖案的概率隨離這些中心的距離而增加且在經(jīng)增加的非獨(dú)有邊限中最高。所述權(quán)重可設(shè)置為遵循這些趨勢。可進(jìn)一步調(diào)整所述權(quán)重使得在平坦區(qū)域上方突顯圖案內(nèi)的邊緣。對于邊限外但在邊界矩形內(nèi)的任何像素的權(quán)重可設(shè)置為零。
[0048]憑借權(quán)重設(shè)置，可對于最大化加權(quán)的NCC(正規(guī)化互相關(guān))分?jǐn)?shù)的相同尺寸的片塊搜索光