一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種薄膜電路制作方法，具體涉及一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法。
【背景技術】
[0002]薄膜電路是將整個電路的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件以及它們之間的互連引線，全部用厚度在微米級以下的金屬、半導體、金屬氧化物、多種金屬混合相、合金或絕緣介質(zhì)薄膜，并通過真空蒸發(fā)、濺射和電鍍等工藝制成的集成電路。而目前，薄膜電路在工藝制作上均處于平面上，即只能開發(fā)和制作出平面薄膜電路；列如，在公告號為:CN103579107A的中國專利《一種基于掩膜電鍍的薄膜電路劃切方法》中，其制作出平面薄膜電路制作方法還停留于雕刻式的劃切工藝方法，其只能應用于平面薄膜電路；曲面薄膜電路的制作方法要想能真正意義上的實現(xiàn)、且能低成本的批量生產(chǎn)是需要研究的一個問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服以上所述的缺點，提供一種工藝簡單、精度高的基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的具體方案如下:一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法，包括如下步驟:
a、設置基體金屬膜，在曲面結(jié)構(gòu)件上設置基體金屬膜；
b、涂光刻膠，在a步驟中得到的金屬膜上涂光刻膠；
還包括:
c、利用激光投影系統(tǒng)對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光顯影；
d、腐蝕，使用腐蝕劑腐蝕c步驟中得到的曲面結(jié)構(gòu)件。
[0005]2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法，其特征在于:步驟a中的鍍基體金屬膜的方式為通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜。
[0006]其中，在步驟a中，通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜后，用水電鍍的方式進行二次鍍金屬膜，在基體金屬膜上形成二次金屬膜。
[0007]其中，在a步驟之前還包括:對曲面結(jié)構(gòu)件進行清洗處理和干燥處理。
[0008]其中，c步驟中，利用激光投影系統(tǒng)對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光顯影為利用最少一個的空間光調(diào)制器對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光。
[0009]其中，對曲面結(jié)構(gòu)件進行清洗的步驟包括:
(1)超聲波清洗；
(2)乙醇超聲清洗；
(3)丙酮清洗;
(4)鹽酸溶液清洗；
其中，通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜的均勻性在10%以內(nèi)。
[0010]其中，在b步驟中在基體金屬膜上旋涂光刻膠后，光刻膠厚度為8um-12umo
[0011]其中，超聲波清洗時間不超過5分鐘；乙醇超聲清洗的時間不超過5分鐘;丙酮清洗的時間不超過5分鐘;鹽酸溶液清洗步驟的鹽酸溶液濃度為10%。
[0012]其中，利用最少一個的空間光調(diào)制器對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光的方法如下:設計出曲面微結(jié)構(gòu)圖形，將其加載到空間光調(diào)制器里，對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光；當曲面結(jié)構(gòu)件的面積不大于一個空間光調(diào)制器所投影的面積時，則用一個空間光調(diào)制器進行直接投影；當曲面結(jié)構(gòu)件的面積大于一個空間光調(diào)制器所投影的面積時，則先將曲面結(jié)構(gòu)根據(jù)空間光調(diào)制器的掃描面積拆分成小面積的模塊，然后用空間光調(diào)制器對每個模塊分別投影曝光;數(shù)控系統(tǒng)根據(jù)曲面的外形軌跡進行姿態(tài)調(diào)整，實現(xiàn)激光對曲面的精確定位。
[0013]其中，在d步驟完成之后，重復a~d步驟，可制作多層薄膜電路結(jié)構(gòu)。
[0014]本發(fā)明的有益效果為:
1、能真正意義上實現(xiàn):利用上述方法，利用激光投影的方式，使曲面薄膜電路能真正意義上的實現(xiàn)。
[0015]2、精度高:由于利用激光投影的方式，其精度非常高。
[0016]3、實現(xiàn)的曲面薄膜電路可以是任意曲面形狀；由于采用激光投影曝光，將需要曝光的地方使用激光投影，能實現(xiàn)制作任意曲面形狀的薄膜電路。
[0017]4、應用前景廣；可以將制作出的曲面薄膜電路應用在很多領域，例如車載導航雷達系統(tǒng)、飛機航電系統(tǒng)和整流罩集成、未來4G、5G基站天線、地面雷達站的低幅面、小型化集成設計。
【具體實施方式】
[0018]下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明作進一步詳細的說明，并不是把本發(fā)明的實施范圍局限于此。
[0019]實施例1。
[0020]本實施例所述的一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法，包括如下步驟:
a、設置基體金屬膜，在曲面結(jié)構(gòu)件上設置基體金屬膜；
b、涂光刻膠，在a步驟中得到的金屬膜上涂光刻膠；
還包括:
c、利用激光投影系統(tǒng)對涂有光刻膠的曲面結(jié)構(gòu)件進行曝光顯影；
d、腐蝕，使用腐蝕劑腐蝕c步驟中得到的曲面結(jié)構(gòu)件。
[0021]本實施例所述的一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法，步驟a中的鍍基體金屬膜的方式為通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜。利用該方法能快速、低成本的制作出高精度的曲面薄膜電路，具體的其具有如下效果:1能真正意義上實現(xiàn):利用上述方法，利用激光投影的方式，使曲面薄膜電路能真正意義上的實現(xiàn)。2、精度高:由于利用激光投影的方式，其精度非常高。3、實現(xiàn)的曲面薄膜電路可以是任意曲面形狀；由于采用激光投影曝光，將需要曝光的地方使用激光投影，能實現(xiàn)制作任意曲面形狀的薄膜電路。4、應用前景廣；可以將制作出的曲面薄膜電路應用在很多領域，例如車載導航雷達系統(tǒng)、飛機航電系統(tǒng)和整流罩集成、未來4G、5G基站天線、地面雷達站的低幅面、小型化集成設
i+o
[0022]本實施例所述的一種基于激光投影技術的曲面薄膜電路制作方法，在步驟a中，通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜后，用水電鍍的方式進行二次鍍金屬膜，在基體金屬膜上形成二次金屬膜。由于，通過磁控派射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜的厚度為lum左右，比較薄，達不到導電率的要求，而難以控制良品率，因此在通過磁控濺射方式在曲面結(jié)構(gòu)件形成基體金屬膜后，繼續(xù)用水電鍍的方式進行二次鍍金屬膜，在基體金屬膜上形成二次金屬膜，使得整體金屬膜的厚度達到10um以上，從而克服了達不到導電率的要求，增加了良品率;而采用這一方式的原因在于，在實踐方式當中，如果直接在曲面結(jié)構(gòu)上進行水電鍍是難以實現(xiàn)的，因為曲面結(jié)構(gòu)往往是陶瓷等介質(zhì)，其粘合性差，通過水電鍍的方式難以直接鍍膜，因此本發(fā)明采用先磁控濺射鍍上基體金屬膜，再在基體金屬膜上