地，在所述步驟(a)中，若所述測(cè)量圖案已經(jīng)用作定位圖案，則發(fā)出警告，并對(duì)所述定位圖案進(jìn)行修改，選用測(cè)量圖案以外的圖案作為所述定位圖案；
[0026]若所述測(cè)量圖案沒(méi)有用作定位圖案，執(zhí)行步驟(b)。
[0027]在所述步驟(b)中，若所述定位圖案已經(jīng)用作測(cè)量圖案，則發(fā)出警告，并對(duì)所述定位圖案進(jìn)行重新選擇，選用測(cè)量圖案以外的圖案作為所述定位圖案。
[0028]實(shí)施例1
[0029]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明所述晶圓版圖的CDSEM測(cè)量方法作進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0030]參照?qǐng)D1，在該實(shí)施例中，首先選定第一測(cè)量圖案并選擇測(cè)試圖案以外的圖案作為第一定位圖案，所述第一定位圖案選用位于所述測(cè)試圖案附近的圖案，并通過(guò)CDSEM核實(shí)所述第一定位圖案并非為其他的測(cè)試圖案，然后對(duì)所述第一測(cè)量圖案進(jìn)行測(cè)量，得到所述第一測(cè)量圖案的關(guān)鍵尺寸等數(shù)據(jù)。
[0031]在完成所述第一測(cè)量圖案之后如圖1所示，接著對(duì)第二測(cè)量圖案進(jìn)行測(cè)量，在對(duì)第二測(cè)量圖案進(jìn)行測(cè)量的過(guò)程中，包括讀取記錄當(dāng)前測(cè)量點(diǎn)的坐標(biāo)(get measurementcoordinate)的步驟，在確定第二測(cè)量圖案之后，檢查所述第二測(cè)量圖案是否選其他測(cè)量圖案的定位圖案，若所述第二測(cè)量圖案是否選作其他測(cè)量圖案的定位圖案，具有以下兩種結(jié)果:
[0032]第一種情況所述第二測(cè)量圖案已經(jīng)選作其他測(cè)量圖案的定位圖案，則發(fā)出警告，停止對(duì)所述第二測(cè)量圖案的檢測(cè)，并查找哪些點(diǎn)(測(cè)量圖案)已經(jīng)選用所述第二測(cè)量圖案作為定位圖案，在找到這些點(diǎn)(測(cè)量圖案)后對(duì)這些點(diǎn)的定位圖案進(jìn)行修改，修改為測(cè)量圖案以外的圖案作為定位圖案。
[0033]在為選用第二測(cè)量圖案作為定位圖案的點(diǎn)重新選擇定位圖案之后，返回開始檢測(cè)步驟中，重新開始對(duì)所述第二測(cè)量圖案的測(cè)量。
[0034]第二種情況，所述第二測(cè)量圖案沒(méi)有被其他測(cè)量圖案(其他點(diǎn))作為定位圖案，則執(zhí)行后續(xù)的步驟。
[0035]執(zhí)行步驟(b)，選擇第二測(cè)量圖案的第二定位圖案，所述第二定位圖案用做參照?qǐng)D案，對(duì)所述第二測(cè)量圖案進(jìn)行測(cè)量，在選定第二定位圖案之后還需要對(duì)所述第二定位圖案進(jìn)行檢查。
[0036]具體地，在選定第二定位圖案之后進(jìn)行檢查，檢查所述第二定位圖案是否已經(jīng)作為測(cè)量圖案，即檢查所述第二定位圖案是否為所述晶圓版圖中所有的測(cè)量圖案中的一個(gè)，通過(guò)檢查若所述第二定位圖案已經(jīng)作為測(cè)量圖案中的一個(gè)，則發(fā)出警告，并停止后續(xù)的步驟，返回到上個(gè)步驟中對(duì)所述第二定位圖案重新進(jìn)行選擇，再次確定第二定位圖案之后同樣進(jìn)行檢查，至所述第二定位圖案不是測(cè)量圖案中的一個(gè)為止，然后才繼續(xù)后面的測(cè)量步驟。
[0037]若在檢查過(guò)程中所述第二定位圖案并非測(cè)量圖案中的一個(gè)，則不會(huì)發(fā)出警告，直接執(zhí)行下一步。
[0038]在確定所述第二定位圖案之后，所述方法進(jìn)一步包括對(duì)所述第二定位圖案進(jìn)行編輯的步驟，所述編輯的具體內(nèi)容以及方法，可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)定，在此不再贅述。
[0039]對(duì)所述第二定位圖案進(jìn)行編輯之后，還包括對(duì)所述第二測(cè)量圖案進(jìn)行編輯的步驟，在該步驟中包括對(duì)所述圖案關(guān)鍵尺寸的測(cè)量，確定在所述第二測(cè)量圖案中是否存在缺陷點(diǎn)，如果檢測(cè)到缺陷點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)記等步驟，當(dāng)時(shí)所述編輯過(guò)程并不局限于上述示例，可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定和檢測(cè)，在此不再贅述。
[0040]在本發(fā)明中通過(guò)兩個(gè)步驟對(duì)測(cè)量圖案進(jìn)行檢查，所述兩個(gè)步驟分別為檢查所述版圖中測(cè)量圖案是否已經(jīng)用作定位圖案，同時(shí)檢測(cè)所述定位圖案是否已經(jīng)作為測(cè)量圖案，以防止測(cè)量圖案作為另一測(cè)量圖案的定位圖案，在CDSEM測(cè)量中被電子放射多次，以確保所述測(cè)量圖案測(cè)量的準(zhǔn)確性。
[0041]本發(fā)明已經(jīng)通過(guò)上述實(shí)施例進(jìn)行了說(shuō)明，但應(yīng)當(dāng)理解的是，上述實(shí)施例只是用于舉例和說(shuō)明的目的，而非意在將本發(fā)明限制于所描述的實(shí)施例范圍內(nèi)。此外本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的是，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施例，根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)還可以做出更多種的變型和修改，這些變型和修改均落在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍以內(nèi)。本發(fā)明的保護(hù)范圍由附屬的權(quán)利要求書及其等效范圍所界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種晶圓版圖的⑶SEM測(cè)量方法，包括: 步驟(a)選擇測(cè)量圖案，并檢查所述測(cè)量圖案是否已經(jīng)用作定位圖案； 步驟(b)選擇所述測(cè)量圖案的定位圖案，并檢測(cè)所述定位圖案是否為所有測(cè)量圖案中的一個(gè)，以防止所述測(cè)量圖案作為另一測(cè)量圖案的定位圖案在CDSEM測(cè)量中被電子放射多次。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步驟(a)中，若所述測(cè)量圖案已經(jīng)用作定位圖案，則查找到選用所述測(cè)量圖案作為定位圖案的點(diǎn)，對(duì)所述點(diǎn)重新選擇定位圖案，選用測(cè)量圖案以外的圖案作為所述定位圖案； 若所述測(cè)量圖案沒(méi)有用作定位圖案，執(zhí)行步驟(b)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步驟(a)中，若所述測(cè)量圖案已經(jīng)用作定位圖案，則發(fā)出警告。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步驟(b)中，若所述定位圖案為所有測(cè)量圖案中的一個(gè)，則對(duì)所述定位圖案進(jìn)行重新選擇，選用測(cè)量圖案以外的圖案作為所述定位圖案。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在所述步驟(b)中，若所述定位圖案為所有測(cè)量圖案中的一個(gè)，則發(fā)出警告。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，若所述定位圖案沒(méi)有用作測(cè)量圖案，則對(duì)所述定位圖案進(jìn)行編輯。7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述方法還包括對(duì)所述測(cè)量圖案進(jìn)行編輯測(cè)量的步驟。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種晶圓版圖的CDSEM測(cè)量方法，包括：步驟(a)選擇測(cè)量圖案，并檢查所述測(cè)量圖案是否已經(jīng)用作定位圖案；步驟(b)選擇所述測(cè)量圖案的定位圖案，并檢測(cè)所述定位圖案是否為所有測(cè)量圖案中的一個(gè)，以防止所述測(cè)量圖案作為另一測(cè)量圖案的定位圖案在CDSEM測(cè)量中被電子放射多次。在本發(fā)明中通過(guò)兩個(gè)步驟對(duì)測(cè)量圖案進(jìn)行檢查，所述兩個(gè)步驟分別為檢查所述版圖中測(cè)量圖案是否已經(jīng)用作定位圖案，同時(shí)檢測(cè)所述定位圖案是否已經(jīng)作為測(cè)量圖案，以防止測(cè)量圖案作為另一測(cè)量圖案的定位圖案，在CDSEM測(cè)量中被電子放射多次，以確保所述測(cè)量圖案測(cè)量的準(zhǔn)確性。
【IPC分類】H01L21/66
【公開號(hào)】CN105097585
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410216745
【發(fā)明人】王輝, 王良
【申請(qǐng)人】中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2014年5月21日