。
[0026] 本實施方式所涉及的永久磁鐵可以在磁鐵主體的表面上形成保護(hù)膜。本實施方式 所涉及的保護(hù)膜并沒有特別的限定，但是特別優(yōu)選使用由電解電鍍形成的保護(hù)膜。作為電 解電鍍的材質(zhì)能夠使用Ni、Ni-P、Cu、Zn、Cr、Sn、Al中的任意一種。由電解電鍍形成的保 護(hù)膜為本實施方式所涉及的典型的方式，但是也能夠設(shè)置由其他手法形成的保護(hù)膜。作為 由其他手法形成的保護(hù)膜，起始于無電解電鍍、鉻酸鹽處理的化學(xué)處理以及樹脂涂裝模中 的任意一種或者兩者組合都是實用的。保護(hù)膜的厚度有必要根據(jù)稀土類燒結(jié)磁鐵主體的尺 寸、被要求的耐蝕性的等級等進(jìn)行變動，但是如果在1~100ym的范圍內(nèi)作適當(dāng)設(shè)定即可。 保護(hù)膜的厚度優(yōu)選為1~50ym。
[0027] 接著，就本實施方式所涉及的永久磁鐵的優(yōu)選的制造方法作如下說明。關(guān)于本實 施方式的永久磁鐵的制造，首先以能夠獲得具有所希望的組成的R-T-B系磁鐵的方式準(zhǔn)備 原料合金。原料合金能夠在真空或者惰性氣體中優(yōu)選為在Ar氣氣氛中由薄帶連鑄（strip casting)法以及其他公知的恪解法來進(jìn)行制作。薄帶連鑄法是使在Ar氣氣氛等非氧化 性氣氛中熔解原料金屬而獲得的熔融液體噴出至正在旋轉(zhuǎn)的滾筒表面。在滾筒上被急劇 冷卻的熔融液體以薄板或者薄片（鱗片）狀被急劇冷卻凝固。冷卻滾筒的圓周速度優(yōu)選 為0. 3~15m/秒的范圍，更加優(yōu)選為0. 5~12m/秒的范圍。在極端慢的情況下容易產(chǎn)生 a-Fe或合金不均勻性，另外，在極端快的情況下結(jié)晶粒小并且產(chǎn)生等軸狀的激冷（chill) 晶體，因而得不到良好的磁特性。被急劇冷卻凝固的合金成為〇. 1~Imm左右厚度的薄板， 并且具有結(jié)晶粒徑為1~50ym的均質(zhì)組織。原料合金并不限定于薄帶連鑄法，也能夠由 高頻感應(yīng)恪煉（highfrequencyinductionmelting)等恪解法來制得。還有，為了防止恪 解后的偏析而可以例如傾注于水冷銅板上來使其凝固。另外，也能夠?qū)⒂蛇€原擴(kuò)散法獲得 的合金作為原料合金來使用。
[0028] 在本發(fā)明中，在獲得R-Fe-B系永久磁鐵的情況下作為原料合金基本適用一合金 法，即從一種合金制作燒結(jié)磁鐵。使用將R2Fe14B結(jié)晶粒作為主體的合金（低R合金）、含有R多于低R合金的合金（高R合金）的所謂二合金法因為在晶界容易生成高R的晶界相并 且引起矯頑力的增加，所以不適宜。
[0029] 原料合金被提供給粉碎工序。在粉碎工序中具有粗粉碎工序和微粉碎工序。首 先，將原料合金粗粉碎到粒徑成為數(shù)百ym左右。粗粉碎是使用搗碎機(jī)、顎式粉碎機(jī)（Jaw crusher)、布朗磨碎機(jī)等，優(yōu)選在惰性氣體氣氛中實行。在粗粉碎之前，在通過使氫吸留于 原料合金之后再使其放出而實行粉碎是有效的。氫放出處理是以作為稀土類燒結(jié)磁鐵要減 少成為雜質(zhì)的氫為目的而被實行的。用于吸氫的加熱保持溫度為200°C以上，優(yōu)選是350°C 以上。保持時間是根據(jù)與保持溫度的關(guān)系以及原料合金的厚度等進(jìn)行改變的，但是至少要 30分鐘以上，優(yōu)選是1小時以上。氫放出處理是在真空中或者在Ar氣流動的條件下實行 的。還有，吸氫處理和氫放出處理并不是必須的處理?？梢詫⒃摎浞鬯槎ㄎ粸榇址鬯椋瑥亩?省略機(jī)械性的粗粉碎。
[0030] 在粗粉碎工序之后移至微粉碎工序。對于微粉碎來說作為干式粉碎主要是使用噴 射磨碎機(jī)，將粒徑為數(shù)百ym程度的粗粉碎粉末磨碎至平均粒徑為1~6ixm，優(yōu)選是磨碎 至3~5ym。噴射磨碎法是一種以下所述的方法，S卩，從狹窄的噴嘴噴放出高壓惰性氣體從 而產(chǎn)生高速氣流，由該高速氣流來加速粗粉碎粉末并發(fā)生粗粉碎粉末彼此的碰撞或與目標(biāo) 物或容器壁的碰撞，由此來進(jìn)行粉碎。作為粉碎用惰性氣體可以選擇使用He、N2、Ar等。另 外，為了粉碎時的粉末的凝集防止或流動性的提高、成形時的潤滑或取向性的提高、C量的 調(diào)整而可以添加潤滑劑。作為潤滑劑可以選擇使用硬脂酸鋅、硬脂酸鈣、硬脂酸鋁、硬脂酸 鎂、硬脂酸酰胺、油酸酰胺、芥酸酰胺、亞甲基雙硬脂酸酰胺、亞乙基雙硬脂酸酰胺、石蠟、萘 等。作為添加量相對于粉碎投入粗粉碎粉末優(yōu)選為〇. 01~〇. 5wt%。
[0031] 對于微粉碎來說也可以使用濕式粉碎。對于濕式粉碎來說是使用球磨機(jī)和超微磨 碎機(jī)（attritor)等，將粒徑為數(shù)百Iim程度的粗粉碎粉末磨碎至平均粒徑為0. 1~5Iim， 優(yōu)選是磨碎至2~4. 5ym。在濕式粉碎過程中是通過選擇適宜的分散介質(zhì)來生成漿料，因 為磁鐵粉不與氧接觸并進(jìn)行粉碎所以能夠獲得氧濃度低的微粉碎粉末。作為分散介質(zhì)可以 選擇使用異丙醇、乙醇、甲醇、乙酸乙酯、磷酸酯、戊燒、己燒、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲基乙 基酮等。作為漿料濃度為1~50wt%，優(yōu)選為20~45wt%。
[0032] 上述微粉末被提供給磁場中成形工序。磁場中成形的成形壓力如果是被控制在 0.3~3ton/cm2(30~300MPa)的范圍內(nèi)的話即可。成形壓力既可以是從成形開始到結(jié)束 為恒定又可以是進(jìn)行遞增或者遞減，或者也可以是進(jìn)行不規(guī)則變化。成形壓力越低則取向 性變得越好，但是如果成形壓力過低，則因為成形體的強度不足并且在操作處理上會產(chǎn)生 問題，所以考慮了這一點優(yōu)選從上述范圍選擇成形壓力。以磁場中成形來獲得的成形體的 最終相對密度通常為40~60 %。
[0033] 所施加的磁場如果是控制在10~20k0e(960~1600kA/m)左右的話既可。所施 加的磁場并不限定于靜磁場，也可以是脈沖狀的磁場。另外，也可以并用靜磁場和脈沖狀磁 場。
[0034] 接著，在真空或者惰性氣體氣氛中燒結(jié)成形體。燒結(jié)溫度有必要根據(jù)組成、粉碎方 法、平均粒徑和粒度分布的差異等諸條件進(jìn)行調(diào)整，一般是在1000~1200°C的溫度條件下 燒結(jié)1小時~20小時。如果燒結(jié)時間小于1小時，則不能夠達(dá)到充分致密化。另外，如果 燒成20小時以上，則異常顆粒成長或異相的形成會不斷有所進(jìn)展，并且會對磁特性帶來壞 的影響。
[0035] 在燒結(jié)之后，能夠在500~900°C的溫度條件下對所獲得的燒結(jié)體施以時效（老 化）處理。該時效處理工序?qū)τ谡{(diào)整矯頑力來說是有效的工序，但是與通常的以高矯頑力 為目標(biāo)的Nd-Fe-B系永久磁鐵的情況不同，在時效處理工序中作為可變磁通電動機(jī)用的磁 通可變磁鐵要降低到適宜的矯頑力是困難的。
[0036] 經(jīng)過以上所述處理的燒結(jié)體被切斷成規(guī)定尺寸?形狀。燒結(jié)體表面的處理方法并 沒有特別的限定，能夠?qū)嵭袡C(jī)械加工。作為機(jī)械性的加工例如可以列舉使用磨刀石的研磨 處理等。
[0037] 再有，根據(jù)必要可以將保護(hù)膜形成于燒結(jié)體表面。保護(hù)膜的形成如果是對應(yīng)于保 護(hù)膜的種類按照公知的手法來實行的話即可。例如，在使用電解電鍍的情況下，可以采用所 謂脫脂、水洗、腐蝕（例如硝酸）、水洗、由電解電鍍形成的成膜、水洗、干燥的常用方法。能 夠?qū)嵤┟撝幚?、由酸完成的化學(xué)腐蝕從而對燒結(jié)體的表面實施清潔化。作為用于Ni電解 電鍍的電鍍?。ú垡海├缈梢粤信e不含氯化鎳的瓦特浴（Watt'sbath) (S卩，將硫酸鎳以 及硼酸作為主成分）、氨基磺酸?。╯ulfamineacidbath)、氟化硼浴、溴化鎳浴等。但是， 在此情況下因為陽極的溶解變少，所以優(yōu)選將鎳離子補充到槽液中。鎳離子優(yōu)選作為硫酸 鎳或者溴化鎳的溶液來進(jìn)行補充。
[0038] 接著，就本實施方式所涉及的可變磁通電動機(jī)作如下說明。圖1是表示本發(fā)明所 涉及的優(yōu)選的可變磁通電動機(jī)的一個實施方式的截面圖。在圖1所表示的可變磁通電動機(jī) 1中，轉(zhuǎn)子3被配置于定子2內(nèi)。在轉(zhuǎn)子3內(nèi)的鐵心4中配置有使用了高磁通密度并且高矯 頑力的永久磁鐵的磁通固定磁鐵5、使用了本實施方式的高磁通密度并且低矯頑力的永久 磁鐵的磁通可變磁鐵6。磁化線圈（沒有圖示）被設(shè)置于轉(zhuǎn)子3,通過電流從磁化回路流到 該磁化線圈從而其磁場直接作用于磁通可變磁鐵6,因而成為磁通密度（磁通量）可變的結(jié) 構(gòu)。
[0039] 實施例
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