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的鐵電單元和鐵電存儲(chǔ)器的制造方法

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的鐵電單元和鐵電存儲(chǔ)器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及存儲(chǔ)器領(lǐng)域,具體涉及一種基于LaMn3Cr401;^^鐵電單元和鐵電存儲(chǔ) 器。
【背景技術(shù)】
[0002] 非揮發(fā)性存儲(chǔ)器具有在無(wú)電源供應(yīng)時(shí)仍能保持?jǐn)?shù)據(jù)信息,在數(shù)據(jù)存儲(chǔ)領(lǐng)域具有廣 泛的應(yīng)用。鐵電存儲(chǔ)器(FeRAM)是一種利用鐵電晶體的鐵電效應(yīng)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ)的存儲(chǔ)器結(jié) 構(gòu)。鐵電效應(yīng)是指在鐵電晶體上施加一定的電場(chǎng)時(shí),晶體中心原子在電場(chǎng)的作用下運(yùn)動(dòng),并 達(dá)到一種穩(wěn)定狀態(tài),當(dāng)外加電場(chǎng)移走后,中心原子會(huì)保持在該位置上。因此鐵電存儲(chǔ)器保持 數(shù)據(jù)不需要電壓,也不需要周期性刷新,是一種非揮發(fā)性存儲(chǔ)器。鐵電存儲(chǔ)器具有更快的讀 寫(xiě)速度,更低的功耗以及幾乎無(wú)限次的擦寫(xiě)次數(shù),具有廣泛應(yīng)用前景。Pb(Zri_xTix) 03 (PZT) 和SrBi2Ta209 (SBT)薄膜是目前鐵電存儲(chǔ)器應(yīng)用最多的兩種鐵電薄膜材料,使用新的鐵電材 料是進(jìn)一步改善鐵電存儲(chǔ)器性能的一個(gè)重要途徑。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 有鑒于此,本發(fā)明提供了一種基于LaMn3Cr4012的鐵電單元以及制備方法,本發(fā)明 還提出了一種基于1^1]1 3〇4012的鐵電存儲(chǔ)器。
[0004] 第一方面,本發(fā)明提出了一種鐵電存儲(chǔ)單元,包括:下電極;形成于所述下電 極上的鐵電介質(zhì)層;以及形成于所述鐵電介質(zhì)層上的上電極;其中,所述鐵電介質(zhì)層為 LaMn3Cr4012 薄膜。
[0005] 優(yōu)選地,所述鐵電介質(zhì)層的厚度為10nm-200nm。
[0006] 優(yōu)選地,所述上電極為Pt、Al、Ni、Ti、Cu、Au、Poly-Si中的一種或者多種組成的合 金,所述下電極為Pt、Al、Ni、Ti、Cu、Au、Poly-Si中的一種或者多種組成的合金。
[0007] 優(yōu)選地,所述鐵電存儲(chǔ)單元的工作溫度低于170K。
[0008] 優(yōu)選地,所述鐵電介質(zhì)層的極化和反鐵磁有序耦合。
[0009] 優(yōu)選地,磁場(chǎng)可調(diào)控鐵電介質(zhì)層的電極化強(qiáng)度。
[0010] 第二方面,本發(fā)明提出了一種基于所述鐵電存儲(chǔ)單元的鐵電存儲(chǔ)器,包括一個(gè)所 述鐵電存儲(chǔ)單元和一個(gè)金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,所述金屬-氧化物-半導(dǎo)體 場(chǎng)效應(yīng)晶體管的柵極連接字線,所述金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管的源極連接位線, 所述金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管的漏極連接所述鐵電存儲(chǔ)單元的下電極,所述鐵 電存儲(chǔ)單元的上電極連接板線。
[0011] 第三方面,本發(fā)明提出了一種制備所述的鐵電存儲(chǔ)單元的方法,包括:
[0012] 在硅襯底上通過(guò)熱氧化生成一層二氧化硅;
[0013] 在二氧化硅層上通過(guò)濺射或者電子束蒸發(fā)形成下電極;
[0014] 以LaMn3Cr4012為靶材,在下電極上通過(guò)脈沖激光沉積或者濺射形成鐵電介質(zhì)層;
[0015] 在鐵電介質(zhì)層上通過(guò)濺射或者電子束蒸發(fā)形成上電極。
[0016] 優(yōu)選地,所述LaMn3Cr4012祀材的制備方法包括:
[0017] 將La203 (99. 99 % )、Mn203 (99. 99 % )和Cr203 (99. 99 % )按化學(xué)計(jì)量比 1:3:4 混合 均勻得到原料混合物;
[0018] 將所述原料混合物研磨30-90分鐘;
[0019] 將研磨后的原料混合物裝入金或鉑金膠囊中密封;
[0020] 在六面頂壓機(jī)中進(jìn)行高壓溫高壓合成,合成壓力為6-10GPa,合成溫度為 900-1100°C,保溫30-60分鐘后淬火至室溫。
[0021] 優(yōu)選地,所述金或鉬金膠囊的直徑為2-10_,長(zhǎng)度為2-10_,壁厚為1-2_。
[0022] 本發(fā)明提出的基于LaMn3Cr4012的鐵電存儲(chǔ)器具有速度快、功耗低、耐腐蝕、壽命長(zhǎng) 的特點(diǎn)并且與硅工藝兼容。
【附圖說(shuō)明】
[0023] 通過(guò)以下參照附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的描述,本發(fā)明的上述以及其它目的、特征和 優(yōu)點(diǎn)將更為清楚,在附圖中:
[0024] 圖1為L(zhǎng)aMn3Cr4012材料的晶格結(jié)構(gòu)圖;
[0025] 圖2為1^113(>4012材料的介電常數(shù)、磁化率以及電極化強(qiáng)度隨溫度變化曲線;
[0026] 圖3為本發(fā)明提出的基于LaMn3Cr4012的鐵電存儲(chǔ)單元示意圖;
[0027] 圖4為本發(fā)明提出的一種基于LaMn3Cr4(V^電存儲(chǔ)單元的1T1C的FeRAM結(jié)構(gòu)圖;
[0028] 圖5為圖4所示的FeRAM的等效電路圖;以及
[0029] 圖6為本發(fā)明提出的LaMn3Cr4012祀材的制備方法。
【具體實(shí)施方式】
[0030] 以下基于實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行描述,但是本發(fā)明并不僅僅限于這些實(shí)施例。在下 文對(duì)本發(fā)明的細(xì)節(jié)描述中,詳盡描述了一些特定的細(xì)節(jié)部分。對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)沒(méi)有 這些細(xì)節(jié)部分的描述也可以完全理解本發(fā)明。為了避免混淆本發(fā)明的實(shí)質(zhì),公知的方法、過(guò) 程、流程、元件和電路并沒(méi)有詳細(xì)敘述。此外,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,在此提供的附 圖都是為了說(shuō)明的目的,并且附圖不一定是按比例繪制的。
[0031] 除非上下文明確要求,否則整個(gè)說(shuō)明書(shū)和權(quán)利要求書(shū)中的"包括"、"包含"等類(lèi)似 詞語(yǔ)應(yīng)當(dāng)解釋為包含的含義而不是排他或窮舉的含義;也就是說(shuō),是"包括但不限于"的含 義。
[0032] 圖1為L(zhǎng)aMn3Cr4012材料的晶格結(jié)構(gòu)圖。如圖1所示,LaMn3〇4012屬于立方晶系, 空間群為Im-3,晶格常數(shù)為7.398/\。一個(gè)1^11113(>4012原胞包含2個(gè)La原子,6個(gè)Mn原子,8 個(gè)Cr原子和24個(gè)0原子,每個(gè)Cr原子連接6個(gè)0原子,位于由6個(gè)0原子圍成的正八面 體的中心。在有外加電場(chǎng)的情況下,產(chǎn)生位置移動(dòng)的是Cr原子。
[0033] 圖2為1^113〇4012材料的介電常數(shù)、磁化率以及電極化強(qiáng)度隨溫度變化曲線。在 溫度低于170K時(shí),1^11113(>4012在正極化方向和反極化方向具有不同的電極化強(qiáng)度。如圖2 的上半部分所示,在溫度高于90K時(shí),隨著介電常數(shù)的測(cè)量中使用的交流電的頻率從1兆赫 茲降到1千赫茲,LaMn3Cr4012的介電常數(shù)增大;溫度在20K到90K之間時(shí),LaMn3Cr4012的介 電常數(shù)不隨交流電頻率改變,其介電特性在廣泛的頻率區(qū)間內(nèi)保持不變,是穩(wěn)定的鐵電材 料。此外,1^]?113(>4012還具有極化和反鐵磁有序耦合的性質(zhì),磁場(chǎng)可調(diào)控鐵電介質(zhì)層的電極 化強(qiáng)度。
[0034] 圖3為本發(fā)明提出的基于LaMn3Cr4012的鐵電存儲(chǔ)單元的示意圖?;贚aMn3Cr4012 的鐵電存儲(chǔ)單元包括:上電極2、鐵電介質(zhì)層1以及下電極3。其中鐵電介質(zhì)層1形成于上 電極2和下電極3之間,為L(zhǎng)aMn
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