Zl方向的平坦度變化。由此，能夠充分抑制因隨著發(fā)射體710的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致電子發(fā)射部711凹陷(下垂現(xiàn)象)。
[0159]像這樣，在第7實施方式中，不設(shè)置支承部13，僅進(jìn)行翻轉(zhuǎn)加熱，也能夠充分抑制電子發(fā)射部711凹陷。
[0160]另外，應(yīng)該理解為此次公開的實施方式和實施例全部都是示例，不是用于限定本發(fā)明。本發(fā)明的范圍并非由所述實施方式和實施例的說明示出而是由權(quán)利要求書示出，而且包括在與權(quán)利要求書等同的意義上和范圍內(nèi)的全部變更。
[0161]例如，在所述第I實施方式?第7實施方式中例示了將本發(fā)明應(yīng)用于外殼旋轉(zhuǎn)型X射線管裝置的例子，但本發(fā)明并不限定于此。例如，也可以將本發(fā)明應(yīng)用于僅外殼固定了的陽極旋轉(zhuǎn)型X射線管裝置、陽極固定型X射線管裝置等除外殼旋轉(zhuǎn)型以外的X射線管裝置。
[0162]另外，在所述第I實施方式?第7實施方式中示出了設(shè)有在俯視時為圓形的電子發(fā)射部的例子，但本發(fā)明并不限定于此。在本發(fā)明中，電子發(fā)射部只要為平板狀即可，電子發(fā)射部的俯視形狀也可以為矩形、多邊形的平板形狀。然而，在用于發(fā)射體(電子發(fā)射部)旋轉(zhuǎn)的外殼旋轉(zhuǎn)型X射線管裝置的情況下，考慮到旋轉(zhuǎn)時的穩(wěn)定性，優(yōu)選電子發(fā)射部的俯視形狀為圓形或者接近圓形的多邊形。
[0163]另外，在所述第I實施方式?第7實施方式中示出了由具有第I部分?第3部分和中心部的電流通路形成平板狀的電子發(fā)射部的例子，但本發(fā)明并不限定于此。在本發(fā)明中，也可以由與所述各實施方式中示出的形狀不同的形狀的電流通路形成平板狀的電子發(fā)射部。在該情況下，根據(jù)構(gòu)成電子發(fā)射部的電流通路的形狀的不同，平坦度變化較大的變形部的位置也不同，因此只要根據(jù)電子發(fā)射部(電流通路)的形狀決定支承部的配置即可。
[0164]另外，在所述第I實施方式?第3實施方式和第6實施方式中示出了支承部形成為向與發(fā)射體的端子部相同的一側(cè)延伸的例子，但本發(fā)明并不限定于此。在本發(fā)明中，支承部也可以形成為向與端子部不同的一側(cè)延伸，例如支承部也可以被設(shè)為向發(fā)射體的側(cè)方(與平板狀的電子發(fā)射部平行的方向)延伸。
[0165]另外，在所述第I實施方式?第3實施方式和第6實施方式中示出了在發(fā)射體設(shè)有一對(兩個)支承部的例子，但本發(fā)明并不限定于此。支承部也可以設(shè)有一個或3個以上。然而，若支承部的數(shù)量較多，則可能存在這樣的情況:在通電加熱時電子發(fā)射部的熱量向支承部逸散，而導(dǎo)致電子發(fā)射部的溫度分布不均勻，因此優(yōu)選支承部設(shè)有足夠用于支承電子發(fā)射部的盡可能少的數(shù)量。
[0166]另外，在所述第6實施方式和第7實施方式中示出了將X射線管裝置作為使用例搭載于X射線裝置等X射線攝像裝置601的例子，但本發(fā)明并不限定于此。除醫(yī)用X射線攝像裝置以外，也可以將本發(fā)明應(yīng)用于例如用于X射線檢查裝置(非破壞檢查裝置)等產(chǎn)業(yè)用裝置的X射線管裝置。
[0167]附圖標(biāo)記說曰月
[0168]1、電子源(陰極);la、電極；2、靶(陽極);3、外殼；10、110、210、210a、230、230a、310、410、430、510、710、發(fā)射體；ll、211、211a、231、231a、311、411、431、511、711、電子發(fā)射部；12(12a、12b)、端子部；13、113、支承部；20、320、520、電流通路；21、第I部分；22、第2部分；212、212a、232、232a、突出部；312、寬部；Df、變形部；P1、連接部分；100、200、300、400、500、700、X射線管裝置。
【主權(quán)項】
1.一種X射線管裝置，其中， 該X射線管裝置包括: 陽極； 陰極，其包括用于向所述陽極發(fā)射電子的發(fā)射體， 所述發(fā)射體包括: 電子發(fā)射部，其為平板狀； 一對端子部，其分別自所述電子發(fā)射部延伸，并且與電極連接； 支承部，其相對于所述端子部獨立地設(shè)置，相對于所述電極絕緣，并且用于支承所述電子發(fā)射部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 所述支承部被配置為支承所述電子發(fā)射部中的變形部的附近，該變形部為因隨著所述發(fā)射體的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致所述電子發(fā)射部的平坦度發(fā)生變化的程度相對較大的部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的X射線管裝置，其中， 所述電子發(fā)射部由曲折的電流通路形成為平板狀， 所述支承部被配置為支承所述電子發(fā)射部中的所述電流通路的靠包括所述變形部的所述電子發(fā)射部的外周側(cè)的部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線管裝置，其中， 所述電流通路至少包括第I部分和第2部分，該第I部分是自一個所述端子部朝向另一個所述端子部側(cè)延伸的外周側(cè)的部分，該第2部分與所述第I部分相連續(xù)，在比所述第I部分靠內(nèi)周側(cè)的位置自另一個所述端子部側(cè)朝向一個所述端子部側(cè)延伸， 所述支承部被配置為支承所述第I部分與所述第2部分連接的連接部分的附近。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 所述支承部形成為在與所述電子發(fā)射部相交叉的方向上向與所述端子部所處的一側(cè)相同的一側(cè)延伸，并且一端被固定，另一端與所述電子發(fā)射部連結(jié)或者另一端配置在與所述電子發(fā)射部相接觸的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 所述支承部通過自平板狀的所述電子發(fā)射部的外周部引出并且向與所述端子部所處的一側(cè)相同的一側(cè)彎折而與所述電子發(fā)射部一體地形成為平板狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 該X射線管裝置還包括外殼，其為筒狀，用于收納所述發(fā)射體和作為所述陽極的靶，并且該外殼可繞中心軸線旋轉(zhuǎn)， 所述支承部在隔著所述中心軸線相對的位置設(shè)有一對。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 所述電子發(fā)射部在包括變形部的區(qū)域具有朝向與所述變形部的變形方向相反的方向突出的突出部，該變形部為因隨著所述發(fā)射體的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致所述電子發(fā)射部的平坦度發(fā)生變化的程度相對較大的部分。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線管裝置，其中， 所述突出部朝向與使用時的重力作用方向相反的方向突出。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線管裝置，其中， 所述電子發(fā)射部由曲折的電流通路形成為平板狀， 所述突出部配置在所述電子發(fā)射部中的所述電流通路的靠包括所述變形部的所述電子發(fā)射部的外周側(cè)的部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的X射線管裝置，其中， 所述電流通路至少包括第I部分和第2部分，該第I部分是自一個所述端子部朝向另一個所述端子部側(cè)延伸的外周側(cè)的部分，該第2部分與所述第I部分相連續(xù)，在比所述第I部分靠內(nèi)周側(cè)的位置自另一個所述端子部側(cè)朝向一個所述端子部側(cè)延伸， 所述突出部是通過使所述第I部分以所述第I部分與所述第2部分連接的連接部分的附近突出的方式傾斜而形成的。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線管裝置，其中， 所述電子發(fā)射部由曲折的電流通路形成為平板狀，并且具有相比所述電流通路的其他部分而言路徑寬度較寬的寬部， 所述寬部配置在包括變形部的區(qū)域，該變形部為因隨著所述發(fā)射體的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致所述電子發(fā)射部的平坦度發(fā)生變化的程度相對較大的部分。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線管裝置，其中， 所述寬部配置在所述電子發(fā)射部中的所述電流通路的靠包括所述變形部的所述電子發(fā)射部的外周側(cè)的部分。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的X射線管裝置，其中， 所述電子發(fā)射部至少包括第I部分和第2部分，該第I部分是自一個所述端子部朝向另一個所述端子部側(cè)延伸的外周側(cè)的部分，該第2部分與所述第I部分相連續(xù)，在比所述第I部分靠內(nèi)周側(cè)的位置自另一個所述端子部側(cè)朝向一個所述端子部側(cè)延伸， 所述寬部形成于包括所述第I部分與所述第2部分連接的連接部分的附近的所述第I部分。
15.一種X射線管裝置的使用方法，該X射線管裝置包括:陽極；陰極，其包括用于向所述陽極發(fā)射電子的發(fā)射體，所述發(fā)射體包括:電子發(fā)射部，其為平板狀；一對端子部，其分別自所述電子發(fā)射部延伸，并且與電極連接；支承部，其相對于所述端子部獨立地設(shè)置，相對于所述電極絕緣，并且用于支承所述電子發(fā)射部，其中， 該X射線管裝置的使用方法包括如下工序: 在所述發(fā)射體朝向沿著重力方向的第I方向與所述陽極相對的狀態(tài)下發(fā)射電子而產(chǎn)生X射線的工序； 在所述發(fā)射體沿著重力方向并且朝向與所述第I方向相反的第2方向與所述陽極相對的狀態(tài)下，至少對所述發(fā)射體進(jìn)行通電加熱的工序。
16.一種X射線管裝置的使用方法，該X射線管裝置包括:陽極；發(fā)射體，其具有用于向所述陽極發(fā)射電子的平板狀的電子發(fā)射部，其中， 該X射線管裝置的使用方法包括如下工序: 在所述發(fā)射體朝向沿著重力方向的第I方向與所述陽極相對的狀態(tài)下發(fā)射電子而產(chǎn)生X射線的工序； 在所述發(fā)射體沿著重力方向并且朝向與所述第I方向相反的第2方向與所述陽極相對的狀態(tài)下，至少對所述發(fā)射體進(jìn)行通電加熱的工序。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的X射線管裝置的使用方法，其中， 所述發(fā)射體朝向所述第2方向的情況下對該發(fā)射體進(jìn)行通電加熱的工序在與產(chǎn)生所述X射線的工序中的所述發(fā)射體的通電加熱條件相同的條件下實施，并且實施與產(chǎn)生所述X射線的工序中的通電加熱時間大致相同的時間。
18.—種X射線管裝置，其中， 該X射線管裝置包括: 陽極；以及 陰極，其包括用于向所述陽極發(fā)射電子的發(fā)射體， 所述發(fā)射體包括: 電子發(fā)射部，其為平板狀； 一對端子部，其分別自所述電子發(fā)射部的兩端延伸，并且與電極連接， 所述電子發(fā)射部在包括變形部的區(qū)域具有朝向與所述變形部的變形方向相反的方向突出的突出部，該變形部為因隨著所述發(fā)射體的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致所述電子發(fā)射部的平坦度發(fā)生變化的程度相對較大的部分。
19.一種X射線管裝置，其中， 該X射線管裝置包括: 陽極； 陰極，其包括用于向所述陽極發(fā)射電子的發(fā)射體， 所述發(fā)射體包括: 電子發(fā)射部，其由曲折的電流通路形成為平板狀，并且具有相比所述電流通路的其他部分而言路徑寬度較寬的寬部； 一對端子部，其分別自所述電子發(fā)射部的兩端延伸，并且與電極連接， 所述寬部配置在包括變形部的區(qū)域，該變形部為因隨著所述發(fā)射體的使用所發(fā)生的蠕變變形而導(dǎo)致所述電子發(fā)射部的平坦度發(fā)生變化的程度相對較大的部分。
【專利摘要】X射線管裝置(100)包括：陽極(2)；陰極(1)，其包括用于向陽極發(fā)射電子的發(fā)射體(10)。發(fā)射體包括：電子發(fā)射部(11)，其為平板狀；一對端子部(12)，其分別自電子發(fā)射部延伸，并且與電極(1a)連接；支承部(13)，其相對于端子部獨立地設(shè)置，相對于電極絕緣，并且用于支承電子發(fā)射部。
【IPC分類】H01J35-06
【公開號】CN104620350
【申請?zhí)枴緾N201280075793
【發(fā)明人】小林巧, 浮田昌昭
【申請人】株式會社島津制作所
【公開日】2015年5月13日
【申請日】2012年9月12日
【公告號】EP2897155A1, US20150262782, WO2014041639A1