本發(fā)明屬于去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備，尤其是涉及一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、電池片濕法刻蝕是太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)過(guò)程中的一道重要工序，通過(guò)利用酸性混合液體對(duì)擴(kuò)散后的硅片下表面和邊緣進(jìn)行腐蝕，其主要目的是去除硅片邊緣的pn結(jié)，避免短路并降低并聯(lián)電阻，目前電池片濕法刻蝕加工常使用到酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)，該酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)包括上片、濕法蝕刻、水洗、干燥和下片等步驟。

2、目前用于電池片濕法刻蝕的酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)在使用時(shí)，因電池硅片原料品質(zhì)差異和酸性溶液濕法蝕刻不均勻?qū)е码姵毓杵吘塸n結(jié)去除不徹底，部分電池硅片邊緣還存留pn結(jié)，因而影響電池硅片濕法蝕刻設(shè)備蝕刻加工電池硅片的合格率受到影響，以及影響電池硅片濕法蝕刻設(shè)備使用的可靠性；

3、另外電池硅片經(jīng)過(guò)濕法刻蝕設(shè)備加工后還需要通過(guò)輸送設(shè)備輸送到電池硅片檢測(cè)設(shè)備中進(jìn)行質(zhì)檢，若出現(xiàn)電池硅片濕法蝕刻不徹底的情況還需要返回到酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)中返修，影響電池硅片濕法蝕刻加工的便捷性和效率。

4、為此，我們提出一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備來(lái)解決上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對(duì)上述問(wèn)題，提供一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備。

2、為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案：一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備，包括酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體、機(jī)械臂和電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件，所述酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體的下片端外壁固定連接有兩個(gè)連接架，所述連接架的底端與酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體的底端處于同一水平面，兩個(gè)所述連接架的外壁固定連接有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的底端與機(jī)械臂的固定端固定連接，所述電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件的固定端與機(jī)械臂的活動(dòng)端固定連接，兩個(gè)所述連接架的外壁共同固定連接有電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)和工控機(jī)，所述工控機(jī)的外壁固定連接有橫板，所述橫板的上表面固定連接有顯示器，兩個(gè)所述連接架的外壁與酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體的外壁固定連接有第一支撐板和第二支撐板，所述第二支撐板的上表面固定連接有再處理槽，所述再處理槽的內(nèi)壁固定連接有隔板，所述隔板一側(cè)外壁與再處理槽外壁共同固定連接有電池硅片再濕法蝕刻機(jī)構(gòu)，所述隔板另一側(cè)外壁與再處理槽的內(nèi)壁共同固定連接有水洗與干燥機(jī)構(gòu)。

3、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括與兩個(gè)連接架外壁固定連接的固定板，兩個(gè)所述固定板相對(duì)的一側(cè)通過(guò)滾動(dòng)軸承連接有絲桿，其中一個(gè)所述固定板的外壁固定連接有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)的輸出端與絲桿的側(cè)端固定連接，所述絲桿的桿壁螺紋套接有螺紋筒，所述螺紋筒的外壁固定套接有固定框，所述固定框的外壁與兩個(gè)連接架的外壁活動(dòng)連接，所述固定框的底端與機(jī)械臂的固定端固定連接。

4、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括與兩個(gè)連接架外壁固定連接的l形板，所述l形板的內(nèi)壁固定連接有多通道電壓測(cè)量?jī)x，所述多通道電壓測(cè)量?jī)x的輸出端通過(guò)導(dǎo)線與工控機(jī)的輸入端電性連接，所述l形板豎直部的四側(cè)外壁均開(kāi)設(shè)有一組對(duì)稱(chēng)分布的連接通孔，且四組連接通孔的孔壁均連接有接觸組件，所述電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件的外壁固定連接有ccd視覺(jué)相機(jī)，所述l形板的豎直部固定連接有補(bǔ)光燈。

5、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述接觸組件包括兩個(gè)導(dǎo)電桿，兩個(gè)導(dǎo)電桿的接電端均通過(guò)導(dǎo)線與多通道電壓測(cè)量?jī)x的輸入端電性連接，兩個(gè)所述導(dǎo)電桿的接觸端均固定連接有導(dǎo)電海綿塊，所述導(dǎo)電桿的桿壁固定套接有絕緣環(huán)，所述導(dǎo)電桿的桿壁活動(dòng)套接有絕緣彈簧，所述絕緣彈簧的兩端分別與絕緣環(huán)和l形板豎直部的外壁固定連接。

6、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述電池硅片再濕法蝕刻機(jī)構(gòu)包括與再處理槽內(nèi)壁和隔板外壁共同固定連接的傾斜板，所述傾斜板、隔板和再處理槽共同組成酸液儲(chǔ)存區(qū)，所述隔板的外壁固定連接有第一空心罩，所述第一空心罩的底端與傾斜板上表面共同固定連接的圍板，所述圍板的內(nèi)壁固定連接有抽氣泵，所述抽氣泵的輸出端穿過(guò)傾斜板的下表面，并固定連通有排氣單向閥，所述抽氣泵的吸入端固定連通有連接管，所述連接管的進(jìn)氣端穿過(guò)第一空心罩的上表面，并固定連通有空心過(guò)濾罐，所述空心過(guò)濾罐的外壁與再處理槽的頂端外壁固定連接，所述傾斜板的頂端固定嵌設(shè)有導(dǎo)管，所述導(dǎo)管的頂端與第一空心罩的下表面固定連通，所述第一空心罩的上表面固定連通有四個(gè)電磁控制閥，四個(gè)所述電磁控制閥的頂端均固定連通有噴液嘴，所述再處理槽位于酸液儲(chǔ)存區(qū)處下表面固定連通有常閉閥門(mén)，所述常閉閥門(mén)的輸入端穿過(guò)第二支撐板的下表面，并固定連通有酸液輸送管，所述傾斜板的下表面固定連接有密封罩，所述密封罩的底端固定嵌設(shè)有液位開(kāi)關(guān)。

7、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述水洗與干燥機(jī)構(gòu)包括與隔板外壁固定連接的隔熱罩和第二空心罩，所述隔熱罩的內(nèi)部設(shè)有半導(dǎo)體制冷器，所述半導(dǎo)體制冷器的制冷端固定連接有陶瓷導(dǎo)熱條，所述陶瓷導(dǎo)熱條的側(cè)端穿過(guò)隔板伸入酸液儲(chǔ)存區(qū)，所述陶瓷導(dǎo)熱條的外壁開(kāi)設(shè)有多個(gè)導(dǎo)熱孔，所述第二空心罩的下表面和隔熱罩的上表面共同固定連通有導(dǎo)氣管，所述第二空心罩的上表面固定連通有多個(gè)噴氣嘴，所述第二空心罩的底端固定連通有進(jìn)水控制閥，所述進(jìn)水控制閥的輸入端固定連通有供水管，所述供水管的底端穿過(guò)再處理槽的外壁，所述隔熱罩的底端固定連通有進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管的底端穿過(guò)第二支撐板的下表面，并固定連通有進(jìn)風(fēng)扇。

8、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述再處理槽的兩側(cè)外壁分別固定連通有廢液排出管和廢水排出管。

9、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述第二支撐板的上表面開(kāi)設(shè)有矩形安裝孔，且矩形安裝孔的孔壁活動(dòng)連接有廢料收集槽，所述廢料收集槽的底端與第一支撐板的上表面活動(dòng)接觸。

10、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中所述酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體包括烘干段和酸洗段，位于所述烘干段的進(jìn)口處設(shè)置有水膜機(jī)構(gòu)，所述水膜機(jī)構(gòu)的正下方設(shè)有第一輸送輥，所述酸洗段的內(nèi)部設(shè)有第二輸送輥，所述第二輸送輥的兩端分別設(shè)置有多個(gè)傘形的從動(dòng)齒輪，每個(gè)所述從動(dòng)齒輪的外壁均嚙合有驅(qū)動(dòng)齒輪，所述驅(qū)動(dòng)齒輪的連接端連接有驅(qū)動(dòng)軸，所述驅(qū)動(dòng)軸的兩端均設(shè)有連接插件，所述連接插件的連接孔內(nèi)壁固定連接有與驅(qū)動(dòng)軸側(cè)端相配合的peek軸承，所述驅(qū)動(dòng)軸的外壁設(shè)有支撐鎖附塊。

11、在上述的一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備中，所述酸洗段靠近酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體出口的一側(cè)設(shè)有清洗組件，且清洗組件包括循環(huán)水洗段和直供噴淋段。

12、與現(xiàn)有的技術(shù)相比，一種去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備的優(yōu)點(diǎn)在于：

13、1、通過(guò)設(shè)置的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)、ccd視覺(jué)相機(jī)、補(bǔ)光燈和工控機(jī)，當(dāng)電池硅片通過(guò)酸洗烘干一體鏈?zhǔn)綑C(jī)主體進(jìn)行濕法刻蝕加工下片后，此時(shí)機(jī)械臂通過(guò)工控機(jī)帶動(dòng)電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件靠近電池硅片的上表面，接著工控機(jī)控制電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件穩(wěn)定吸取電池硅片，之后工控機(jī)通過(guò)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)機(jī)械臂和電動(dòng)負(fù)壓吸盤(pán)組件移動(dòng)到再處理槽的上方，然后通過(guò)工控機(jī)再控制機(jī)械臂使電池硅片靠近電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)，同時(shí)工控機(jī)控制啟動(dòng)ccd視覺(jué)相機(jī)和補(bǔ)光燈，補(bǔ)光燈的燈光照射到電池硅片上，然后ccd視覺(jué)相機(jī)再拍攝受光狀態(tài)下的電池硅片，并利用工控機(jī)裝載的視覺(jué)檢測(cè)軟件輔助檢測(cè)，自動(dòng)檢測(cè)受光狀態(tài)下電池硅片靠近c(diǎn)cd視覺(jué)相機(jī)一側(cè)存不存在光亮點(diǎn)，若存在光亮點(diǎn)則表示該電池硅片存在過(guò)蝕刻而不合格的情況，反之，則表示該電池硅片沒(méi)有過(guò)蝕刻的情況，并初步合格，該機(jī)構(gòu)使用于電池硅片濕法蝕刻設(shè)備具有電池硅片過(guò)蝕刻檢測(cè)的功能。

14、2、通過(guò)設(shè)置的電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)，當(dāng)電池硅片通過(guò)ccd視覺(jué)相機(jī)和工控機(jī)初步檢測(cè)合格后，電池硅片還需要通過(guò)電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)進(jìn)行二次檢測(cè)，此時(shí)電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)中多通道電壓測(cè)量?jī)x與四組接觸組件配合，并對(duì)電池硅片四側(cè)邊進(jìn)行電壓測(cè)量，同時(shí)多通道電壓測(cè)量?jī)x把各個(gè)檢測(cè)通道上接觸組件檢測(cè)的電壓以電信號(hào)逐個(gè)發(fā)送到工控機(jī)中，若四組電壓值與蝕刻邊緣處標(biāo)準(zhǔn)電壓值比對(duì)后出現(xiàn)一組或者多組電壓值低于蝕刻邊緣處標(biāo)準(zhǔn)電壓值時(shí)，這是電池硅片邊緣因蝕刻不完全仍然存在pn結(jié)，并導(dǎo)致電池硅片該邊緣區(qū)域有短路情況，并且出現(xiàn)電阻降低和易于電流通過(guò)的問(wèn)題，進(jìn)而使電池硅片該側(cè)邊處的電壓降低，接著工控機(jī)通過(guò)電壓降低信號(hào)控制機(jī)械臂把電池硅片移動(dòng)到電池硅片再濕法蝕刻機(jī)構(gòu)處，該機(jī)構(gòu)使用于電池硅片濕法蝕刻設(shè)備具有電池硅片蝕刻不完全檢測(cè)的功能，提高電池硅片濕法蝕刻設(shè)備使用的可靠性。

15、3、通過(guò)設(shè)置的電池硅片再濕法蝕刻機(jī)構(gòu)和水洗與干燥機(jī)構(gòu)，當(dāng)電池硅片側(cè)邊存在蝕刻不完全的情況時(shí)，工控機(jī)控制機(jī)械臂把電池硅片移動(dòng)到電池硅片再濕法蝕刻機(jī)構(gòu)處，并進(jìn)行不完全蝕刻位置針對(duì)性再次蝕刻修整，再次蝕刻修整后通過(guò)水洗與干燥機(jī)構(gòu)進(jìn)行清潔和干燥，干燥后的電池硅片再通過(guò)電池硅片檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)，檢測(cè)合格輸送到下一個(gè)加工位，該機(jī)構(gòu)使去磷去硼硅刻蝕清洗設(shè)備具有蝕刻不完全電池硅片精準(zhǔn)再蝕刻加工的功能，不僅能夠提高電池硅片加工的品質(zhì)，還能夠提高電池硅片濕法蝕刻加工的便捷性和效率。