本申請屬于顯示面板檢測，尤其涉及一種檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法以及檢測設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、目前，隨著技術(shù)的發(fā)展，由于oled具有更輕薄、亮度高、功耗低、響應(yīng)快、清晰度高、柔性好、發(fā)光效率高等優(yōu)點，用于高端顯示設(shè)備，同時對oled的質(zhì)量要求較高，為提高oled顯示設(shè)備的質(zhì)量和生產(chǎn)的良率，因此，在生產(chǎn)過程中就需要對oled的基板進(jìn)行缺陷檢測，以保證產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)良率。然而，由于oled的尺寸較大，故如何提高oled基板的檢測速度和檢測準(zhǔn)確性是現(xiàn)在亟待解決的一個問題。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法以及檢測設(shè)備，其旨在解決現(xiàn)有的對顯示基板的檢測準(zhǔn)確性較低的問題。

2、本發(fā)明提出一種檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法，所述檢測設(shè)備包括機(jī)械對準(zhǔn)模塊、光學(xué)對準(zhǔn)模塊，所述檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法包括以下步驟：

3、使用所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊對所述待測物進(jìn)行粗對準(zhǔn)，所述待測物表面具有對準(zhǔn)標(biāo)記，使所述對準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊的視場中；

4、所述粗對準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊對所述待測物進(jìn)行精對準(zhǔn)，使所述待測物處于預(yù)定位置。

5、可選地，所述檢測設(shè)備包括承載臺，包括承載區(qū)，用于承載待測物；所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個對準(zhǔn)滾柱；

6、所述使用所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊對所述待測物進(jìn)行粗對準(zhǔn)，使所述對準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊的視場中包括以下分步驟：

7、使所述對準(zhǔn)滾柱朝向所述待測物運(yùn)動，直至運(yùn)動至預(yù)設(shè)位置并將所述待測物的外邊緣夾緊。

8、可選地，所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊包括至少一個光學(xué)對準(zhǔn)探頭，所述對準(zhǔn)標(biāo)記組包括至少兩個標(biāo)準(zhǔn)點，所述粗對準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊對所述待測物進(jìn)行精對準(zhǔn)，使所述待測物處于預(yù)定位置包括以下分步驟：

9、通過所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭對對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝，獲取所述對準(zhǔn)標(biāo)記的對準(zhǔn)圖像；

10、根據(jù)所述對準(zhǔn)圖像獲取所述標(biāo)準(zhǔn)點的位置信息；

11、根據(jù)至少兩個標(biāo)準(zhǔn)點的位置信息，獲取所述待測物的位置偏差；

12、根據(jù)所述位置偏差對所述待測物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測物處于預(yù)定位置。

13、可選地，所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭的個數(shù)為多個，多個光學(xué)對準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭；所述對準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記；

14、根據(jù)所述對準(zhǔn)圖像獲取標(biāo)準(zhǔn)點的位置信息包括：根據(jù)所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的對準(zhǔn)圖像獲取第一對準(zhǔn)標(biāo)記中心的第一位置信息；根據(jù)所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記的對準(zhǔn)圖像獲取第二對準(zhǔn)標(biāo)記中心的第二位置信息；

15、所述位置偏差包括所述待測物的平移偏移量和旋轉(zhuǎn)偏移量中的一者或兩者組合；根據(jù)至少兩個標(biāo)準(zhǔn)點的位置信息，獲取所述待測物的位置偏差包括：根

16、據(jù)所述第一位置信息與第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭視場中心之間的偏移，獲取所述待測物的平移偏移量；和/或，根據(jù)所述第一位置信息和所述第二位置信息獲取所述待測物的旋轉(zhuǎn)偏移量。

17、可選地，根據(jù)所述位置偏差對所述待測物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測物處于預(yù)定位置的步驟包括：

18、根據(jù)所述待測物的位置偏差獲取需調(diào)整量；

19、對所述待測物進(jìn)行調(diào)整，直至所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭的視場中心與對應(yīng)的所述對準(zhǔn)標(biāo)記的中心重合。

20、本發(fā)明還提出一種檢測設(shè)備，所述檢測設(shè)備包括：

21、機(jī)械對準(zhǔn)模塊和光學(xué)對準(zhǔn)模塊；

22、所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊被配置為對所述待測物進(jìn)行粗對準(zhǔn)，所述待測物表面具有對準(zhǔn)標(biāo)記，使所述對準(zhǔn)標(biāo)記位于所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊的視場中；

23、所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊被配置為所述粗對準(zhǔn)之后，使用所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊對所述待測物進(jìn)行精對準(zhǔn)，使所述待測物處于預(yù)定位置。

24、可選地，包括承載臺，包括承載區(qū)，用于承載待測物；所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個對準(zhǔn)滾柱；驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動所述對準(zhǔn)滾柱朝向所述承載區(qū)移動。

25、可選地，對準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記；所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭的個數(shù)為多個，多個對準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭，所述第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，所述第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像。

26、在本申請的技術(shù)方案的有益效果如下：由于本申請的檢測設(shè)備設(shè)有機(jī)械對準(zhǔn)模塊和光學(xué)對準(zhǔn)模塊，故在基板進(jìn)行檢測之前，可以通過機(jī)械對準(zhǔn)模塊、光學(xué)對準(zhǔn)模塊及承載臺來調(diào)整好基板的方向，使得基板的長邊方向與承載臺的運(yùn)動方向一致，即均為第一方向，從而能夠減少全檢模塊的漏檢，有效提高檢測

27、的準(zhǔn)確性。

技術(shù)特征：

1.一種檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測設(shè)備包括機(jī)械對準(zhǔn)模塊、光學(xué)對準(zhǔn)模塊，所述檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法包括以下步驟：

2.如權(quán)利要求1所述的檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法，其特征在于，所述檢測設(shè)備包括承載臺，包括承載區(qū)，用于承載待測物；所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個對準(zhǔn)滾柱；

3.如權(quán)利要求1所述的檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法，其特征在于，所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭的個數(shù)為多個，多個光學(xué)對準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭；所述對準(zhǔn)標(biāo)記組包括第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記；

4.一種檢測設(shè)備，其特征在于，包括：機(jī)械對準(zhǔn)模塊和光學(xué)對準(zhǔn)模塊；

5.如權(quán)利要求4所述的檢測設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊包括至少一個光學(xué)對準(zhǔn)探頭，設(shè)置對準(zhǔn)標(biāo)記組且包括至少兩個標(biāo)準(zhǔn)點；所述光學(xué)對準(zhǔn)模塊具體被配置為：

6.如權(quán)利要求5所述的檢測設(shè)備，其特征在于，所述根據(jù)所述位置偏差對所述待測物進(jìn)行調(diào)整，使所述待測物處于預(yù)定位置，包括：

7.如權(quán)利要求4所述的檢測設(shè)備，其特征在于，包括承載臺，包括承載區(qū)，用于承載待測物；所述機(jī)械對準(zhǔn)模塊包括設(shè)置于所述承載區(qū)外圍的多個對準(zhǔn)滾柱；驅(qū)動裝置，用于驅(qū)動所述對準(zhǔn)滾柱朝向所述承載區(qū)移動。

8.如權(quán)利要求4所述的檢測設(shè)備，其特征在于，設(shè)置對準(zhǔn)標(biāo)記組包括兩個標(biāo)準(zhǔn)點且分別記為第一對準(zhǔn)標(biāo)記和第二對準(zhǔn)標(biāo)記；所述光學(xué)對準(zhǔn)探頭的個數(shù)為多個，多個對準(zhǔn)探頭包括第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭和第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭，所述第一光學(xué)對準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第一對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像，所述第二光學(xué)對準(zhǔn)探頭用于拍攝所述第二對準(zhǔn)標(biāo)記的圖像。

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┝艘环N檢測設(shè)備的對準(zhǔn)方法以及檢測設(shè)備，該對準(zhǔn)方法包括以下步驟：使用機(jī)械對準(zhǔn)模塊對待測物進(jìn)行粗對準(zhǔn)，使待測物表面的對準(zhǔn)標(biāo)記位于光學(xué)對準(zhǔn)模塊的視場中；在粗對準(zhǔn)之后，使用光學(xué)對準(zhǔn)模塊對待測物進(jìn)行精對準(zhǔn)，使待測物處于預(yù)定位置。本申請在基板進(jìn)行檢測之前，可通過機(jī)械對準(zhǔn)模塊、光學(xué)對準(zhǔn)模塊及承載臺來調(diào)整好基板的方向，使得基板的長邊方向與承載臺的運(yùn)動方向一致，即均為第一方向，從而能夠減少全檢模塊的漏檢，有效提高檢測的準(zhǔn)確性。

技術(shù)研發(fā)人員：陳魯,黃有為,王天民,龐芝亮,崔高增
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳中科飛測科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/19