本實(shí)用新型涉及直流接觸器技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種無(wú)極性直流接觸器的滅弧機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有的滅弧組件采用塑料，塑料的滅弧組件的絕緣性不強(qiáng)，在進(jìn)行絕緣性能測(cè)試、接地性能測(cè)試以及壽命測(cè)試時(shí)無(wú)法滿足現(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的技術(shù)指標(biāo)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是：為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，本實(shí)用新型提供一種無(wú)極性直流接觸器的滅弧機(jī)構(gòu)。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所要采用的技術(shù)方案是：一種無(wú)極性直流接觸器的滅弧機(jī)構(gòu)，包括設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架內(nèi)部的兩組磁鋼組件和兩個(gè)陶瓷滅弧槽，兩組磁鋼組件分別固定在兩個(gè)陶瓷滅弧槽與靜觸點(diǎn)支架之間，兩個(gè)陶瓷滅弧槽相對(duì)設(shè)置中間形成滅弧室，兩組磁鋼組件位置呈中心對(duì)稱分布，每組磁鋼組件包括呈直角分布的滅弧磁鋼A和滅弧磁鋼B，且同組中滅弧磁鋼A的極性與滅弧磁鋼B的極性相同，不同組中滅弧磁鋼A的極性以及不同組中滅弧磁鋼B的極性相反，所述靜觸點(diǎn)支架內(nèi)部設(shè)有兩個(gè)靜觸頭，兩組中的滅弧磁鋼A分別位于兩個(gè)靜觸頭的外側(cè)，且與兩個(gè)靜觸頭中心連線垂直相交。

同組中滅弧磁鋼A與滅弧磁鋼B的極性相同是指朝向滅弧室的內(nèi)側(cè)或外側(cè)為相同的極性，不同組中滅弧磁鋼A的極性以及不同組中滅弧磁鋼B的極性相反是指，假設(shè)一組中滅弧磁鋼A的N極朝向滅弧室的內(nèi)側(cè)，則另一組中滅弧磁鋼A的N極朝向滅弧室的外側(cè)，滅弧磁鋼B極性同上。

采用極性相同的滅弧磁鋼以90°角排布形成無(wú)極性的直流接觸器，在使用時(shí)，接線端沒(méi)有極性要求。采用陶瓷材料制成滅弧槽，提高了滅弧槽的絕緣性，使電弧的冷卻速度更快，延長(zhǎng)了滅弧槽的使用壽命。

進(jìn)一步，所述滅弧槽為U型結(jié)構(gòu)，包括相對(duì)設(shè)置的兩平行部和用于連接兩平行部一端的連接部，所述兩平行部的內(nèi)側(cè)面上均設(shè)有齒形凸條，所述齒形凸條的延伸方向與直流接觸器的軸線平行。齒形凸條可以延長(zhǎng)電弧，使電弧更容易切斷。

優(yōu)選的，所述齒形凸條的頂部為弧面。避免尖角產(chǎn)生靜電。

進(jìn)一步，所述靜觸點(diǎn)支架內(nèi)壁上設(shè)有一端與靜觸點(diǎn)支架連接另一端向滅弧室延伸的第一撐條、第二撐條和第三撐條，所述第一撐條、第二撐條和第三撐條均為四個(gè)，四個(gè)所述第一撐條兩兩對(duì)稱設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架相對(duì)的一對(duì)側(cè)壁上，四個(gè)所述第二撐條兩兩對(duì)稱設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架相對(duì)的另一對(duì)側(cè)壁上，同側(cè)所述第二撐條之間的距離與滅弧磁鋼A的長(zhǎng)度匹配，所述滅弧槽固定在同側(cè)第一撐條和第二撐條圍成的空間內(nèi)，所述第二撐條與同側(cè)滅弧槽圍成滅弧磁鋼A的固定空間，所述第一撐條和第二撐條相互垂直；所述第三撐條與所述第一撐條平行設(shè)置，且兩兩為一組呈中心對(duì)稱分布，每組第三撐條位于第一撐條和第二撐條之間，同組第三撐條與同側(cè)的所述平行部圍成滅弧磁鋼B的固定空間。

進(jìn)一步，所述靜觸點(diǎn)支架包括相對(duì)設(shè)置的一對(duì)直側(cè)壁和相對(duì)設(shè)置的一對(duì)弧形側(cè)壁，所述第一撐條與所述直側(cè)壁連接，所述第二撐條與所述弧形側(cè)壁連接。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型提供的一種無(wú)極性直流接觸器的滅弧機(jī)構(gòu)，將原來(lái)的塑料的滅弧槽改為陶瓷材質(zhì)的滅弧槽，提高了滅弧槽的絕緣性，使電弧的冷卻速度更快，延長(zhǎng)了滅弧槽的使用壽命。滅弧槽除了具有滅弧的作用外，還與靜觸點(diǎn)支架配合用于固定滅弧磁鋼。滅弧磁鋼A的極性與滅弧磁鋼B的極性相同使整個(gè)直流接觸器為無(wú)極性結(jié)構(gòu)，形成旋轉(zhuǎn)的磁場(chǎng)，從而達(dá)到及時(shí)有效滅弧的作用。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型的滅弧組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是滅弧磁鋼排列示意圖；

圖3是靜觸點(diǎn)支架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是靜觸點(diǎn)支架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是陶瓷滅弧槽的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：4-1、靜觸點(diǎn)支架，4-11、第一撐條，4-12、第二撐條，4-13、第三撐條，4-14、直側(cè)壁，4-15、弧形側(cè)壁，6-1、微動(dòng)開(kāi)關(guān)，7-1、滅弧槽，7-11、平行部，7-12、連接部，7-13、齒形凸條，7-2、滅弧磁鋼A，7-3、滅弧磁鋼B。

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)的說(shuō)明。此圖為簡(jiǎn)化的示意圖，僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。

如圖1-5所示，本實(shí)用新型的一種無(wú)極性直流接觸器的滅弧機(jī)構(gòu)，包括設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架4-1內(nèi)部的兩組磁鋼組件和兩個(gè)滅弧槽7-1，兩組磁鋼組件分別固定在兩個(gè)滅弧槽7-1與靜觸點(diǎn)支架4-1之間，兩個(gè)滅弧槽7-1相對(duì)設(shè)置中間形成滅弧室，兩組磁鋼組件位置呈中心對(duì)稱分布，每組磁鋼組件包括呈直角分布的滅弧磁鋼A7-2和滅弧磁鋼B7-3，且同組中滅弧磁鋼A7-2的極性與滅弧磁鋼B7-3的極性相同，不同組中滅弧磁鋼A7-2的極性以及不同組中滅弧磁鋼B7-3的極性相反，所述靜觸點(diǎn)支架4-1內(nèi)部設(shè)有兩個(gè)靜觸頭，兩組中的滅弧磁鋼A7-2分別位于兩個(gè)靜觸頭的外側(cè)，且與兩個(gè)靜觸頭中心連線垂直相交。如圖2所示，本實(shí)施例中上面一組滅弧磁鋼A7-2和滅弧磁鋼B7-3的S極在內(nèi)，N極在外側(cè)，下面一組滅弧磁鋼A7-2和滅弧磁鋼B7-3的N極在內(nèi)，S極在外側(cè)。

所述滅弧槽7-1采用陶瓷材料制成。

所述滅弧槽7-1為U型結(jié)構(gòu)，包括相對(duì)設(shè)置的兩平行部7-11和用于連接兩平行部7-11一端的連接部7-12，所述兩平行部7-11的內(nèi)側(cè)面上均設(shè)有齒形凸條7-13，所述齒形凸條7-13的延伸方向與直流接觸器的軸線平行。所述齒形凸條7-13的頂部為弧面。齒形凸條7-13相互平行。

所述靜觸點(diǎn)支架4-1內(nèi)壁上設(shè)有一端與靜觸點(diǎn)支架4-1連接另一端向滅弧室延伸的第一撐條4-11、第二撐條4-12和第三撐條4-13，所述第一撐條4-11、第二撐條4-12和第三撐條4-13均為四個(gè)，四個(gè)所述第一撐條4-11兩兩對(duì)稱設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架4-1相對(duì)的一對(duì)側(cè)壁上，四個(gè)所述第二撐條4-12兩兩對(duì)稱設(shè)置在靜觸點(diǎn)支架4-1相對(duì)的另一對(duì)側(cè)壁上，同側(cè)所述第二撐條4-12之間的距離與滅弧磁鋼A7-2的長(zhǎng)度匹配，所述滅弧槽7-1固定在同側(cè)第一撐條4-11和第二撐條4-12圍成的空間內(nèi)，所述第二撐條4-12與同側(cè)滅弧槽7-1圍成滅弧磁鋼A7-2的固定空間，所述第一撐條4-11和第二撐條4-12相互垂直；所述第三撐條4-13與所述第一撐條4-11平行設(shè)置，且兩兩為一組呈中心對(duì)稱分布，每組第三撐條4-13位于第一撐條4-11和第二撐條4-12之間，同組第三撐條4-13與同側(cè)的所述平行部7-11圍成滅弧磁鋼B7-3的固定空間。靜觸點(diǎn)支架4-1上還固定有用于檢測(cè)直流接觸器工作狀態(tài)的微動(dòng)開(kāi)關(guān)6-1。

所述靜觸點(diǎn)支架4-1包括相對(duì)設(shè)置的一對(duì)直側(cè)壁4-14和相對(duì)設(shè)置的一對(duì)弧形側(cè)壁4-15，所述第一撐條4-11與所述直側(cè)壁4-14連接，所述第二撐條4-12與所述弧形側(cè)壁4-15連接。

以上述依據(jù)本實(shí)用新型的理想實(shí)施例為啟示，通過(guò)上述的說(shuō)明內(nèi)容，相關(guān)的工作人員完全可以在不偏離本實(shí)用新型的范圍內(nèi)，進(jìn)行多樣的變更以及修改。本項(xiàng)實(shí)用新型的技術(shù)范圍并不局限于說(shuō)明書(shū)上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來(lái)確定其技術(shù)性范圍。