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勻光裝置及其制備方法與流程

文檔序號(hào):11289986閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種勻光裝置及其制備方法,該勻光裝置包括:第一電極板、第二電極板、第三電極板、第四電極板、基底和液態(tài)透鏡,基底上設(shè)置有第一電極板、第二電極板、第三電極板和第四電極板,第一電極板和第二電極板組成第一組平行板電容器,第三電極板和第四電極板組成第二組平行板電容器,液態(tài)透鏡的底部被鑲嵌在基底上且液態(tài)透鏡位于第一組平行板電容器和第二組平行板電容器之間。制備方法:基底上光刻膠圖形化;濺射ZnO層;水浴生長(zhǎng)ZnO納米結(jié)構(gòu);氟表面處理;殘余光刻膠去除;傳感器封裝。本發(fā)明能夠?qū)⒉痪鶆虻墓鈴?qiáng)分布利用液態(tài)透鏡振動(dòng)的方式轉(zhuǎn)化為均勻的光強(qiáng)分布,具有可調(diào)節(jié)性強(qiáng)、可持續(xù)利用等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員:尹磊;劉紅忠;陳邦道;史永勝
受保護(hù)的技術(shù)使用者:常州瑞豐特科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.06.27
技術(shù)公布日:2017.09.22
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