本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領域，具體涉及一種顯示基板的制作方法、一種顯示基板以及一種包括該顯示基板的顯示裝置。

背景技術(shù)：

一般的，有機電致發(fā)光器件(organiclightemittingdiode，oled)相對于液晶顯示器(liquidcrystaldisplay，lcd)具有自發(fā)光、反應快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點，被認為是下一代顯示技術(shù)。

有機電致發(fā)光器件(oled)薄膜沉積方法主要有真空蒸鍍和溶液制程兩種。其中，真空蒸鍍適用于有機小分子，其成膜均勻好、技術(shù)相對成熟、但是設備投資大、材料利用率低、大尺寸產(chǎn)品掩膜對位精度低。溶液制程主要包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等，適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點設備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產(chǎn)上優(yōu)勢突出。特別是噴墨打印技術(shù)，能夠?qū)⑷芤壕珳实膰娔较袼貐^(qū)中，形成有機薄膜。

但是，傳統(tǒng)的噴墨打印技術(shù)中，在進行噴墨打印時會存在墨滴未豎直下落，打印到像素界定層上面，將疏液的像素界定層污染，降低其疏液能力。其次，墨水會在像素內(nèi)攀爬到像素界定層上，也能夠增加墨水溢流的風險，導致墨水溢流到相鄰的像素區(qū)內(nèi)。

因此，如何設計出一種能夠有效防止墨水溢流的制作方法成為本領域亟待解決的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提出了一種顯示基板的制作方法、一種顯示基板和一種包括該顯示基板的顯示裝置。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的第一方面，提供了一種顯示基板的制作方法，所述方法包括：

提供襯底基板；

形成第一像素界定層，所述像素界定層將所述襯底基板劃分為多個像素單元；

形成第一發(fā)光元件層；

依次形成多層第二發(fā)光元件層，其中，所述方法還包括在形成所述第一發(fā)光元件層以及形成最后一層所述第二發(fā)光元件層之間進行的至少一步：

形成第二像素界定層，所述第二像素界定層在所述第一像素界定層的正投影落在所述第一像素界定層內(nèi)，且所述第二像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形與所述第一像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形一致；

其中，同一個所述像素單元中，所述第一發(fā)光元件層和多個所述第二發(fā)光元件層形成為同一個有機發(fā)光二極管的一部分。

優(yōu)選地，所述第一發(fā)光元件層為空穴注入層，多層所述第二發(fā)光元件層分別包括空穴傳輸層和發(fā)光層，所述依次形成多層第二發(fā)光元件層的步驟包括：

在所述第一像素界定層的背離所述襯底基板的表面形成第二像素界定層；

以空穴傳輸材料為噴墨打印介質(zhì)，打印形成空穴傳輸層；

在所述第二像素界定層的背離所述第一像素界定層的表面形成第三像素界定層；

以發(fā)光材料為噴墨打印介質(zhì)，打印形成發(fā)光層。

優(yōu)選地，所述第二像素界定層和/或所述第三像素界定層的厚度為5-100nm。

優(yōu)選地，所述第二像素界定層和/或所述第三像素界定層的厚度為10-50nm。

優(yōu)選地，所述在所述第一像素界定層的背離所述襯底基板的表面形成第二像素界定層，以及在所述第二像素界定層的背離所述第一像素界定層的表面形成第三像素界定層的步驟包括：

利用熱轉(zhuǎn)印方法將第二像素界定層轉(zhuǎn)印到第一像素界定層的表面；

利用熱轉(zhuǎn)印方法將第三像素界定層轉(zhuǎn)印到第二像素界定層的表面。

優(yōu)選地，所述第二像素界定層和/或所述第三像素界定層的材料包括氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料。

本發(fā)明的第二方面，提供了一種顯示基板，所述顯示基板包括襯底基板，形成在所述襯底基板上的第一像素界定層，所述像素界定層將所述襯底基板劃分為多個像素單元；

形成在所述襯底基板上的第一發(fā)光元件層；

依次形成在所述第一發(fā)光元件層上方的多層第二發(fā)光元件層；

其中，所述第一發(fā)光元件層以及最后一層所述第二發(fā)光元件層之間還形成有第二像素界定層，所述第二像素界定層在所述第一像素界定層的正投影落在所述第一像素界定層內(nèi)，且所述第二像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形與所述第一像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形一致；

其中，同一個所述像素單元中，所述第一發(fā)光元件層和多個所述第二發(fā)光元件層形成為同一個有機發(fā)光二極管的一部分。

優(yōu)選地，所述第一發(fā)光元件層為空穴注入層，多層所述第二發(fā)光元件層分別包括空穴傳輸層和發(fā)光層，其中，所述空穴傳輸層位于所述空穴注入層和所述發(fā)光層之間。

優(yōu)選地，所述第二像素界定層由氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料制成。

本發(fā)明的第三方面，提供了一種顯示裝置，所述顯示裝置包括顯示基板，所述顯示基板包括前文所述的顯示基板

本發(fā)明的顯示基板的制作方法，形成多層第二發(fā)光元件層的步驟中包括在形成第一發(fā)光元件層以及形成最后一層第二發(fā)光元件層之間進行的至少一步，形成第二像素界定層，該第二像素界定層在所述第一像素界定層的正投影落在所述第一像素界定層內(nèi)，且所述第二像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形與所述第一像素界定層的遠離所述襯底基板的表面圖形一致。因此，本發(fā)明的顯示基板的制作方法，利用噴墨打印形成多層第二發(fā)光元件層時，即便存在墨滴未豎直下落，打印到第一像素界定層上面，將該疏液的第一像素界定層污染，降低該第一像素界定層的疏液能力，或者，噴墨打印介質(zhì)在像素單元內(nèi)攀爬到第一像素界定層表面，導致噴墨打印介質(zhì)溢流到相鄰的像素單元內(nèi)，由于該制作方法還形成有第二像素界定層，因此，所形成的第二像素界定層可以充當?shù)谝幌袼亟缍▽拥墓δ?，能夠有效降低噴墨打印介質(zhì)溢流的風險。

本發(fā)明的顯示基板，采用上述顯示基板的制作方法制作形成，由于該顯示基板包括依次形成在第一發(fā)光元件層上方的多層第二發(fā)光元件層，且第一發(fā)光元件層以及最后一層第二發(fā)光元件層之間還形成有第二像素界定層，因此，在利用噴墨打印技術(shù)制作該結(jié)構(gòu)的顯示基板時，能夠有效避免噴墨介質(zhì)對像素界定層導致的污染，導致的噴墨介質(zhì)的溢流問題，提高該顯示基板的制作良率。

本發(fā)明的顯示裝置，具有上述結(jié)構(gòu)的顯示基板，該結(jié)構(gòu)的顯示基板可以經(jīng)過前文記載的顯示基板的制作方法制作形成，由于上述顯示基板包括依次形成在第一發(fā)光元件層上方的多層第二發(fā)光元件層，且第一發(fā)光元件層以及最后一層第二發(fā)光元件層之間還形成有第二像素界定層，因此，在利用噴墨打印技術(shù)制作該結(jié)構(gòu)的顯示基板時，能夠有效避免噴墨介質(zhì)對像素界定層導致的污染，導致的噴墨介質(zhì)的溢流問題，提高該顯示裝置的制作良率。

附圖說明

附圖是用來提供對本發(fā)明的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。在附圖中：

圖1為本發(fā)明第一實施例中顯示基板的工藝流程圖；

圖2a至圖2f為本發(fā)明第二實施例中制作顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明第三實施例中第一像素界定層與像素單元的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標記說明

100：顯示基板；

110：襯底基板；

120：第一像素界定層；

130：第一發(fā)光元件層；

140：第二發(fā)光元件層；

141：空穴傳輸層；

142：發(fā)光層；

150：第二像素界定層；

160：第三像素界定層；

170：陽極層；

180：像素單元。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。

參考圖1、圖2a至圖2f以及圖3。本發(fā)明的第一方面，涉及一種顯示基板100的制作方法s100。其中，該方法s100包括：

s110、提供襯底基板110。

具體地，如圖2a所示，該襯底基板110可以是透明的玻璃基板，該襯底基板110在形成下述的第一像素界定層120時，已經(jīng)形成了陽極層170，該陽極層170的材料通?？梢赃x擇氧化銦錫(ito)、銀(ag)、氧化鎳(nio)、鋁(al)或石墨烯等高功涵的透明或半透明導電材料，對于如何在襯底基板110上形成該陽極層170，與現(xiàn)有技術(shù)相同，在此不作贅述。

s120、形成第一像素界定層120，像素界定層120將襯底基板110劃分為多個像素單元180。

具體地，如圖2a所示，在形成了陽極層后形成該第一像素界定層120，該第一像素界定層120將襯底基板110劃分為多個像素單元180。

更具體地，形成該第一像素界定層120的制作工藝，例如，可以通過沉積的方式制作形成，在陽極層的表面沉積第一像素界定層薄膜和光刻膠，利用光刻膠為掩膜，刻蝕該第一像素界定層薄膜，以形成所需的第一像素界定層120。

需要說明的是，第一像素界定層120的材料應當為具有疏水性的材料，在噴墨打印過程中，具有疏水性的材料可以限制噴墨打印介質(zhì)溢流到相鄰的像素單元180內(nèi)。

s130、形成第一發(fā)光元件層130。

具體地，如圖2b所示，該第一發(fā)光元件層130可以為空穴注入層，即以空穴注入層為噴墨打印介質(zhì)，打印形成該第一發(fā)光元件層130。

依次形成多層第二發(fā)光元件層140。

其中，上述制作方法s100還包括：

在步驟s130和形成最后一層第二發(fā)光元件層140之間進行的至少一步：

形成第二像素界定層150，該第二像素界定層150在第一像素界定層120的正投影落在第一像素界定層120內(nèi)，且該第二像素界定層150的遠離襯底基板110的表面圖形與第一像素界定層120的遠離襯底基板110的表面圖形一致。

具體地，形成該第二像素界定層150的制作工藝可以與形成第一像素界定層120的制作工藝相同，即通過沉積第二像素界定層薄膜和光刻膠，利用光刻膠為掩膜，刻蝕該第二像素界定層薄膜，以形成所需的第二像素界定層150。當然，還可以通過其他的方式形成該第二像素界定層150。

應當理解的是，上述形成第二像素界定層150的步驟，可以是每形成下一層第二發(fā)光元件層140之前均形成一層第二像素界定層150。也可以是在形成最后一層第二發(fā)光元件層140之前形成一層第二像素界定層150，當然，還可以是在形成第一層發(fā)光元件層140之前，也即形成第一發(fā)光元件層130之后形成一層第二像素界定層150。當然，還可以是其他的實施情況。

其中，同一個像素單元180中，第一發(fā)光元件層130和多個第二發(fā)光元件層140形成為同一個有機發(fā)光二極管的一部分。

本實施例的顯示基板的制作方法，形成多層第二發(fā)光元件層140的步驟中包括在形成第一發(fā)光元件層130以及形成最后一層第二發(fā)光元件層140之間進行的至少一步，形成第二像素界定層150。因此，本實施的顯示基板的制作方法，利用噴墨打印形成多層第二發(fā)光元件層140時，即便存在墨滴未豎直下落，打印到第一像素界定層120上面，將該疏液的第一像素界定層120污染，降低該第一像素界定層120的疏液能力，或者，噴墨打印介質(zhì)在像素單元內(nèi)攀爬到第一像素界定層表面，導致噴墨打印介質(zhì)溢流到相鄰的像素單元180內(nèi)，由于該制作方法還形成有第二像素界定層150，因此，所形成的第二像素界定層150可以充當?shù)谝幌袼亟缍▽?20的功能，能夠有效降低噴墨打印介質(zhì)溢流的風險。

優(yōu)選地，上述第一發(fā)光元件層130為空穴注入層，多層第二發(fā)光元件層140分別包括空穴傳輸層141和發(fā)光層142。上述依次形成多層第二發(fā)光元件層140的步驟包括：

s140、在第一像素界定層120的背離襯底基板110的表面形成第二像素界定層150。

也就是說，如圖2c所示，在第一像素界定層120的頂部形成該第二像素界定層150。具體地形成該第二像素界定層150的制作方法可以參考前文對于第一像素界定層120的記載，在此不作贅述。

s150、以空穴傳輸材料為噴墨打印介質(zhì)，打印形成空穴傳輸層141。

具體地，如圖2d所示，該空穴傳輸材料，例如，可以是聚對苯撐乙烯(ppv)類、聚噻吩類、聚硅烷類、三苯甲烷類、三芳胺類、腙類、吡唑啉類、嚼唑類、咔唑類、丁二烯類等。當然，也可以是其他種類的空穴傳輸材料，在此不作限定。

s160、在第二像素界定層150的背離第一像素界定層120的表面形成第三像素界定層160。

也就是說，如圖2e所示，在第二像素界定層150的頂部形成該第三像素界定層160。具體地形成該第三像素界定層160的制作方法可以參考前文對于第一像素界定層120的記載，在此不作贅述。

s170、以發(fā)光材料為噴墨打印介質(zhì)，打印形成發(fā)光層142，如圖2f所示。

本實施例的顯示基板的制作方法中，每形成一層第二發(fā)光元件層140之前，例如，空穴傳輸層141或發(fā)光層142，均先形成一層第二像素界定層150或第三像素界定層160，因此，能夠進一步的防止噴墨打印介質(zhì)溢流對相鄰像素單元造成的污染等現(xiàn)象的發(fā)生。

優(yōu)選地，上述第二像素界定層150和/或第三像素界定層160的厚度為5-100nm。

本實施例的顯示基板的制作方法，對第二像素界定層150和/或第三像素界定層160的厚度范圍進行限定，處于該厚度范圍的像素界定層，能夠有效防止噴墨打印介質(zhì)溢流，有效保證像素界定層的疏液能力。

優(yōu)選地，上述第二像素界定層150和/或第三像素界定層160的厚度為10-50nm。

本實施例的顯示基板的制作方法，對第二像素界定層150和第三像素界定層160的厚度范圍進行進一步的限定，處于該厚度范圍內(nèi)的像素界定層，能夠有效防止噴墨打印介質(zhì)溢流，有效保證像素界定層的疏液能力。

優(yōu)選地，上述步驟s140中形成第二像素界定層150的步驟以及步驟s160中形成第三像素界定層160的步驟包括：

利用熱轉(zhuǎn)印方法將第二像素界定層150轉(zhuǎn)印到第一像素界定層120的表面。

利用熱轉(zhuǎn)印方法將第三像素界定層160轉(zhuǎn)印到第二像素界定層150的表面。

具體地，可以利用激光熱轉(zhuǎn)印(laserinducedthermalimaging，liti)形成第二像素界定層150以及第三像素界定層160。具體地，該激光熱轉(zhuǎn)印的結(jié)構(gòu)可以包括基板、位于基板上的絕熱層和吸熱層，其中，需要轉(zhuǎn)印的材料(即本發(fā)明中形成第二像素界定層150和第三像素界定層160的材料)在吸熱層的表面形成有機薄膜，通過激光的定向加熱，使得吸熱層上面的有機薄膜剝離轉(zhuǎn)印到預定區(qū)域(也即第一像素界定層120的頂部和第二像素界定層150的頂部)。

本實施例的顯示基板的制作方法，采用熱轉(zhuǎn)印方法形成所需要的第二像素界定層150和第三像素界定層160的結(jié)構(gòu)，能夠進一步的提高噴墨打印精度，減少噴墨打印介質(zhì)的溢流。

優(yōu)選地，上述第二像素界定層150和/或第三像素界定層160的材料包括氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料。

本實施例的顯示基板的制作方法，是對上述第二像素界定層150和/或第三像素界定層160的具體制作材料進行的限定。其中，氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料該材料所制作形成的像素界定層，具有較好的疏液性能，能夠進一步的有效防止噴墨打印介質(zhì)溢流。

本發(fā)明的第二方面，涉及一種顯示基板100，如圖2a至圖2f以及圖3所示。其中，該顯示基板100包括襯底基板110，形成在襯底基板110上的第一像素界定層120，像素界定層120將襯底基板110劃分為多個像素單元180。

上述顯示基板100還包括形成在襯底基板110上的第一發(fā)光元件層130。

上述顯示基板100還包括依次形成在第一發(fā)光元件層130上方的多層第二發(fā)光元件層140。其中，第一發(fā)光元件層130以及最后一層第二發(fā)光元件層140之間還形成有第二像素界定層150，該第二像素界定層150在第一像素界定層120的正投影落在第一像素界定層120內(nèi)，且該第二像素界定層150的遠離襯底基板110的表面圖形與第一像素界定層120的遠離襯底基板110的表面圖形一致。其中，同一個像素單元中，第一發(fā)光元件層130和多個第二發(fā)光元件層140形成為同一個有機發(fā)光二極管的一部分。

應當理解的是，如本發(fā)明的第一個技術(shù)主題所記載的內(nèi)容一樣，該襯底基板110上還應當包括陽極層170，其余的發(fā)光元件層和像素界定層均在該陽極層170的表面所形成。

本實施例結(jié)構(gòu)的顯示基板100，可以采用前文記載的顯示基板的制作方法制作形成。由于本實施例結(jié)構(gòu)的顯示基板100包括依次形成在第一發(fā)光元件層130上方的多層第二發(fā)光元件層140，且第一發(fā)光元件層130以及最后一層第二發(fā)光元件層140之間還形成有第二像素界定層150，因此，在利用噴墨打印技術(shù)制作該結(jié)構(gòu)的顯示基板100時，能夠有效避免噴墨介質(zhì)對像素界定層導致的污染，導致的噴墨介質(zhì)的溢流問題，提高該顯示基板100的制作良率。

優(yōu)選地，上述第一發(fā)光元件層130為空穴注入層，多層第二發(fā)光元件層140分別包括空穴傳輸層141和發(fā)光層142，其中，空穴傳輸層141位于空穴注入層和發(fā)光層142之間。

本實施例結(jié)構(gòu)的顯示基板100，為oled顯示基板，在利用噴墨打印技術(shù)制作該結(jié)構(gòu)形式的oled顯示基板時，能夠有效防止空穴注入層材料、空穴傳輸層材料和發(fā)光層材料導致像素界定層的污染，因此，能夠有效避免噴墨打印介質(zhì)溢流對相鄰像素單元180造成污染等現(xiàn)象的發(fā)生，提高該顯示基板100的制作良率。

優(yōu)選地，上述第二像素界定層150由氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料制成。

本實施例的顯示基板，是對上述第二像素界定層150的具體制作材料進行的限定。其中，氟化聚酰亞胺或聚硅氧烷材料該材料所制作形成的像素界定層，具有較好的疏液性能，能夠進一步的有效防止噴墨打印介質(zhì)溢流。

本發(fā)明的第三方面，涉及一種顯示裝置(圖中并未示出)，顯示裝置包括顯示基板，顯示基板包括前文記載的顯示基板100。

本實施結(jié)構(gòu)的顯示裝置，具有上述結(jié)構(gòu)的顯示基板100，該結(jié)構(gòu)的顯示基板100可以經(jīng)過前文記載的顯示基板100的制作方法制作形成，由于上述顯示基板100包括依次形成在第一發(fā)光元件層130上方的多層第二發(fā)光元件層140，且第一發(fā)光元件層130以及最后一層第二發(fā)光元件層140之間還形成有第二像素界定層150，因此，在利用噴墨打印技術(shù)制作該結(jié)構(gòu)的顯示基板100時，能夠有效避免噴墨介質(zhì)對像素界定層導致的污染，導致的噴墨介質(zhì)的溢流問題，提高該顯示裝置的制作良率。

可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。