本發(fā)明涉及晶體硅太陽能電池印刷裝置技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種硅片清潔裝置。

背景技術(shù)：

隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，電池效率的提高，成本的降低已成為整個光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展生存的根本。印刷工序作為傳統(tǒng)晶體硅太陽能電池制造中的一個重要環(huán)節(jié)，而目前隨著對效率及外觀的要求，印刷網(wǎng)版的質(zhì)量和制造成本越來越高，直接影響著電池片的成本。而在印刷過程中，網(wǎng)版經(jīng)常會被硅片上的顆粒及碎片頂破，這種情形，直接使電池片的制作成本增加。

現(xiàn)有技術(shù)中，清潔硅片裝置多將硅片水平設(shè)置，采用風(fēng)刀、毛刷等工具清潔硅片表面，這種水平清潔的方法會因摩擦力、吸附力等因素影響導(dǎo)致清潔不徹底，缺印、漏印、甚至網(wǎng)版崩裂時有發(fā)生，影響生產(chǎn)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是：為了克服現(xiàn)有技術(shù)中水平清潔硅片表面效果不佳的不足，本發(fā)明提供一種硅片清潔裝置。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所要采用的技術(shù)方案是：一種硅片清潔裝置，包括轉(zhuǎn)盤、傳送機構(gòu)、限位機構(gòu)、頂板機構(gòu)以及清潔機構(gòu)，所述轉(zhuǎn)盤上沿周向設(shè)有上料工位、印刷工位、下料工位和清潔工位，且每個工位上設(shè)有一個工作臺，四個所述工作臺沿所述轉(zhuǎn)盤周向均勻分布，所述工作臺邊長與所述硅片邊長相同，所述工作臺上設(shè)有多個吸氣孔；

所述限位機構(gòu)包括矩形限位框，所述限位框設(shè)于所述上料工位的工作臺上方，所述限位框下端面由內(nèi)框向外框方向逐漸向下傾斜，所述限位框內(nèi)框邊長小于所述工作臺邊長，所述限位框外框邊長大于所述工作臺邊長，所述限位框與所述上料工位的工作臺同軸，所述限位框上端設(shè)有用于控制所述限位框靠近或遠(yuǎn)離所述上料工位的工作臺的第一驅(qū)動裝置；

所述頂板機構(gòu)包括依次連接的彎管接頭和支撐塊，所述彎管接頭為具有四分之一圓的弧形管狀結(jié)構(gòu)，所述工作臺底部設(shè)有所述彎管接頭，所述彎管接頭一端與所述工作臺底端固定連接，所述彎管接頭另一端與所述支撐塊固定連接，所述支撐塊為外徑與所述彎管接頭外徑相同的四分之一圓形結(jié)構(gòu)，所述支撐塊圓心與所述轉(zhuǎn)盤底端鉸接，所述支撐塊上設(shè)有用于驅(qū)動所述支撐塊圍繞圓心轉(zhuǎn)動的第二驅(qū)動裝置；

所述清潔機構(gòu)包括風(fēng)刀、毛刷以及用于固定風(fēng)刀和毛刷的支架，所述支架豎直設(shè)于所述上料工位的工作臺上方且位于靠近所述轉(zhuǎn)盤軸心的一側(cè)，所述支架上設(shè)有驅(qū)動所述支架沿豎直方向上下移動的第三驅(qū)動裝置。

轉(zhuǎn)盤用于承載工作臺、限位機構(gòu)和頂板機構(gòu)，通過轉(zhuǎn)動使各個工作臺變換工位，進行生產(chǎn)，上料工位用于將硅片上料，印刷工位用于對硅片進行印刷，下料工位用于硅片下料，待清潔工位用于對工作臺進行清潔，吸氣孔用于吸住硅片，防止硅片在清潔或印刷過程中產(chǎn)生位移影響生產(chǎn)；

矩形限位框用于對上料工位工作臺上的硅片進行定位校準(zhǔn)，確保硅片在印刷時位置精準(zhǔn)，保證印刷質(zhì)量，限位框向上料工位工作臺方向移動時，限位框下端斜面對硅片進行引導(dǎo)，使硅片位置逐漸與工作臺位置重合，對硅片精準(zhǔn)定位；

支撐塊用于在第二驅(qū)動裝置的作用下驅(qū)動支撐塊圍繞圓心轉(zhuǎn)動將彎管接頭推出轉(zhuǎn)盤上表面，使工作臺在彎管接頭的推動下從水平設(shè)置變?yōu)樨Q直設(shè)置；

支架用于支撐風(fēng)刀和毛刷，風(fēng)刀和毛刷用于對處于豎直設(shè)置的硅片進行表面清理。

采用轉(zhuǎn)盤、傳送機構(gòu)、限位機構(gòu)、頂板機構(gòu)以及清潔機構(gòu)將硅片豎直設(shè)置并清潔硅片表面，提高清潔質(zhì)量，保證印刷質(zhì)量。

進一步，為了實現(xiàn)硅片在上料工作臺與輸送帶之間的輸送，所述傳送機構(gòu)包括用于將硅片移至所述上料工位的工作臺上的吸盤。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明提供的一種硅片清潔裝置，采用轉(zhuǎn)盤、傳送機構(gòu)、限位機構(gòu)、頂板機構(gòu)以及清潔機構(gòu)將硅片豎直設(shè)置并清潔硅片表面，提高清潔質(zhì)量，保證印刷質(zhì)量。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明。

圖1是本發(fā)明最佳實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明最佳實施例的軸向剖示圖；

圖3是硅片位置校準(zhǔn)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是硅片清潔的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5是限位框的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6是工作臺的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中：1、轉(zhuǎn)盤，2、硅片，3、工作臺，3-1、吸氣孔，4、限位框，5、彎管接頭，6、支撐塊，7、印刷頭，8、支架，9、毛刷，10、風(fēng)刀，11、上料工位、12、印刷工位，13、下料工位，14、清潔工位。

具體實施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本發(fā)明作詳細(xì)的說明。此圖為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。

如圖1-6所示，本發(fā)明的一種硅片清潔裝置，包括轉(zhuǎn)盤1、傳送機構(gòu)、限位機構(gòu)、頂板機構(gòu)以及清潔機構(gòu)，所述轉(zhuǎn)盤1上沿周向設(shè)有上料工位11、印刷工位12、下料工位13和清潔工位14，且每個工位上設(shè)有一個工作臺3，四個所述工作臺3沿所述轉(zhuǎn)盤1周向均勻分布，所述工作臺3邊長與所述硅片2邊長相同，所述工作臺3上設(shè)有多個吸氣孔3-1；

所述限位機構(gòu)包括矩形限位框4，所述限位框4設(shè)于所述上料工位11工作臺3上方，所述限位框4下端面由內(nèi)框向外框方向逐漸向下傾斜，所述限位框4內(nèi)框邊長小于所述工作臺3邊長，所述限位框4外框邊長大于所述工作臺3邊長，所述限位框4與所述上料工位11工作臺3同軸，所述限位框4上端設(shè)有用于控制所述限位框4靠近或遠(yuǎn)離所述上料工位11工作臺3的第一驅(qū)動裝置；

所述頂板機構(gòu)包括依次連接的彎管接頭5和支撐塊6，所述彎管接頭5為具有四分之一圓的弧形管狀結(jié)構(gòu)，所述工作臺3底部均設(shè)有所述彎管接頭5，所述彎管接頭5一端與所述工作臺3底端固定連接，所述彎管接頭5另一端與所述支撐塊6固定連接，所述支撐塊6為外徑與所述彎管接頭5外徑相同的四分之一圓形結(jié)構(gòu)，所述支撐塊6圓心與所述轉(zhuǎn)盤1底端鉸接，所述支撐塊6上設(shè)有用于驅(qū)動所述支撐塊6圍繞圓心轉(zhuǎn)動的第二驅(qū)動裝置，所述第二驅(qū)動裝置為氣缸，所述氣缸輸出端與所述支撐塊6遠(yuǎn)離所述彎管接頭5的一側(cè)鉸接；

所述清潔機構(gòu)包括風(fēng)刀10、毛刷9以及用于固定風(fēng)刀10和毛刷9的支架8，所述支架8豎直設(shè)于所述上料工位11的工作臺3上方且位于靠近所述轉(zhuǎn)盤1軸心的一側(cè)，所述支架8上設(shè)有驅(qū)動所述支架8沿豎直方向上下移動的第三驅(qū)動裝置。

所述傳送機構(gòu)包括用于將硅片2移至所述上料工位11的工作臺3上的吸盤。

工作原理：

通過吸盤將輸送帶上的硅片2吸至上料工位11工作臺3上，第一驅(qū)動裝置驅(qū)動限位框4沿豎直方向上升將硅片2位置矯正，吸氣孔3-1吸氣將硅片2固定在工作臺3上，第二驅(qū)動裝置驅(qū)動支撐塊6將彎管接頭5頂出轉(zhuǎn)盤1上表面，使工作臺3和硅片2豎直設(shè)置，第三驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動支架8帶動毛刷9和風(fēng)刀10對硅片2表面進行清潔，清潔結(jié)束后，第二驅(qū)動裝置驅(qū)動驅(qū)動塊將彎管接頭5下拉，使工作臺3和硅片2水平設(shè)于轉(zhuǎn)盤1上，轉(zhuǎn)盤1轉(zhuǎn)動使工作臺3移至印刷工位12，印刷頭7開始工作進行印刷。

以上述依據(jù)本發(fā)明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)的工作人員完全可以在不偏離本發(fā)明的范圍內(nèi)，進行多樣的變更以及修改。本項發(fā)明的技術(shù)范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。