技術(shù)特征：

1.一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，依次包括襯底、陽(yáng)極、空穴注入層、發(fā)光層、電子注入層和陰極，其特征在于：空穴注入層由CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)摻雜組成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，其特征在于，發(fā)光層由黃色發(fā)光層和藍(lán)色發(fā)光層構(gòu)成，其中，黃色發(fā)光層由CBP︰(t-bt)₂Ir(acac)摻雜組成，藍(lán)色發(fā)光層由CBP︰FIrpic摻雜組成。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，其特征在于，空穴注入層中(t-bt)₂I-r(acac)的摻雜重量比例為50％。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，其特征在于，黃色發(fā)光層中(t-bt)₂Ir(acac)的摻雜重量比例為10％，藍(lán)色發(fā)光層中Firpic的摻雜重量比例為8％。

5.根據(jù)權(quán)利要求4項(xiàng)所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，其特征在于，電子注入層為T(mén)PBi，陰極由Mg和Ag構(gòu)成。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件，其特征在于，空穴注入層的厚度為30nm，黃色發(fā)光層的厚度為15nm，藍(lán)色發(fā)光層的厚度為25nm，電子注入層的厚度為40nm。

7.一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟如下：

(1)清洗ITO玻璃襯底；

(2)制備空穴注入層：將步驟(1)處理后的ITO玻璃襯底放入真空腔里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客體摻雜作為空穴注入層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為50％；

(3)制備黃色發(fā)光層：將步驟(2)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客體摻雜作為發(fā)光層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為10％；

(4)制備藍(lán)色發(fā)光層：將步驟(3)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以CBP︰FIrpic的主客體摻雜作為發(fā)光層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為8％；

(5)制備電子注入層：將步驟(4)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以TPBi材料作為電子傳輸層進(jìn)行蒸鍍；

(6)制備金屬陰極。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟如下：

(1)清洗ITO玻璃襯底；

(2)制備空穴注入層：將步驟(1)處理后的ITO玻璃襯底放入真空腔里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客體摻雜作為空穴注入層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為50％，待蒸鍍室氣壓低于3×10^-4Pa，以的蒸鍍速率，待厚度達(dá)到30nm之后，結(jié)束蒸鍍；

(3)制備黃色發(fā)光層：將步驟(2)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以CBP︰(t-bt)₂I-r(acac)的主客體摻雜作為發(fā)光層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為10％，待蒸鍍室氣壓低于3×10^-4Pa，以的蒸鍍速率，待厚度達(dá)到15nm，結(jié)束蒸鍍；

(4)制備藍(lán)色發(fā)光層：將步驟(3)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以CBP︰FIrpic的主客體摻雜作為發(fā)光層材料進(jìn)行混合蒸鍍，摻雜比例為8％，待蒸鍍室氣壓低于3×10^-4Pa，以的蒸鍍速率，待厚度達(dá)到25nm，結(jié)束蒸鍍；

(5)制備電子注入層：將步驟(4)處理后的ITO玻璃襯底放入有機(jī)真空腔體里，以TPBi材料作為電子傳輸層，待蒸鍍室氣壓低于3×10^-4Pa，以的蒸鍍速率，待厚度達(dá)到40nm結(jié)束蒸鍍。

(6)制備金屬陰極：將步驟(5)處理后的ITO玻璃襯底放入金屬真空沉積腔，以Mg和Ag做為金屬陰極，待蒸鍍室氣壓低于1.8×10^-3Pa，以的蒸鍍速率得到厚度為200nm的金屬薄膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種直接空穴注入層的白光有機(jī)發(fā)光器件的制備方法，其特征在于，步驟(1)清洗ITO玻璃襯底的方法為：(a)設(shè)置好超聲儀參數(shù)：溫度30℃，時(shí)間15min，功率70w；(b)用無(wú)塵布沾上丙酮擦拭ITO玻璃襯底表面，直到肉眼觀察到無(wú)顆粒雜質(zhì)為止；(c)將擦洗干凈的ITO玻璃襯底放置在聚四氟乙烯基片架上，再放入裝洗滌劑的去離子水的燒杯中進(jìn)行第一步超聲清洗；(d)取出基片架，用丙酮沖洗后再放入裝有丙酮的燒杯中進(jìn)行第二步清洗；(e)用去離子水對(duì)ITO玻璃襯底進(jìn)行第三步超聲清洗，(f)取出基片架，用異丙醇沖洗后放入裝有異丙醇的燒杯進(jìn)行第四步清洗，(g)放入烘烤箱里20分鐘，(h)將烘干的ITO玻璃襯底取出，放入玻璃皿中，再放入U(xiǎn)V裝置中進(jìn)行UV照射15分鐘。