本發(fā)明涉及一種基板處理裝置及基板處理裝置的控制方法，針對(duì)用于向半導(dǎo)體基板、液晶顯示用玻璃基板、光掩模用玻璃基板、光盤用基板等基板噴出光致抗蝕劑液等的噴嘴，使該噴嘴吸引溶劑等。

背景技術(shù)：

以往，作為基板處理裝置，存在用于向基板涂敷光致抗蝕劑等涂敷液的涂敷裝置。涂敷裝置具備：保持旋轉(zhuǎn)部，其保持基板并使其旋轉(zhuǎn)；多個(gè)涂敷液噴嘴，其噴出涂敷液；以及，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其使涂敷液噴嘴移動(dòng)到任意的位置。多個(gè)涂敷液噴嘴分別保持于待機(jī)容器，該待機(jī)容器在保持旋轉(zhuǎn)部的側(cè)方，而且該待機(jī)容器的數(shù)量與涂敷液噴嘴的數(shù)量相同(例如，參照專利文獻(xiàn)1～3)。噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)把持在待機(jī)容器中待機(jī)的多個(gè)涂敷液噴嘴中的一個(gè)。

如圖10所示，待機(jī)容器能夠進(jìn)行空分配，具備：噴嘴待機(jī)部131，其使涂敷液噴嘴待機(jī)；以及，溶劑吸引部135，其用于向涂敷液噴嘴的頂端內(nèi)部吸引溶劑。另外，如圖11所示，在涂敷裝置具備十個(gè)涂敷液噴嘴103的情況下，待機(jī)容器構(gòu)成為，一個(gè)噴嘴待機(jī)部131和一個(gè)溶劑吸引部135排列了十組的結(jié)構(gòu)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特許第5442232號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特許第2923044號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)3：日本特許第4606234號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明所要解決的問題

但是，以往的涂敷裝置存在如下問題。在圖11中，在向涂敷液噴嘴103a吸引溶劑的情況下，就向待機(jī)容器供給溶劑的動(dòng)作而言，不僅在溶劑吸引部135a進(jìn)行，還在不進(jìn)行吸引動(dòng)作的其他所有的溶劑吸引部135進(jìn)行。因此，存在溶劑使用量變多的問題。

另外，由于待機(jī)容器的結(jié)構(gòu)復(fù)雜，存在溶劑吸引部135的清掃和溶劑吸引部135的部件更換困難的問題。即，涂敷液噴嘴103是最靠近基板的部分，希望處于清潔的狀態(tài)。吸引動(dòng)作與涂敷液噴嘴的清洗同時(shí)進(jìn)行，涂敷液噴嘴與溶劑接觸。但是，當(dāng)長期間使用且多次進(jìn)行吸引動(dòng)作時(shí)，產(chǎn)生很難分辨是否已清洗的狀況。因此，希望定期地清掃溶劑吸引部135。

但是，如圖10、圖11所示，待機(jī)容器具有復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，溶劑吸引部135位于噴嘴待機(jī)部131的附近的復(fù)雜的部分。因此，很難清掃該位置的溶劑吸引部135。另外，由于噴嘴待機(jī)部131和溶劑吸引部135是一體的結(jié)構(gòu)，因此很難僅卸下溶劑吸引部135來更換部件。而且，由于待機(jī)容器的結(jié)構(gòu)復(fù)雜，因此存在成本變高的問題。

另外，在專利文獻(xiàn)2中公開了如下結(jié)構(gòu)，即，用于使清洗液流過噴嘴頂端部來清洗噴嘴頂端部的專用的清洗液用管，與噴嘴連接。另外，專利文獻(xiàn)3中公開了如下結(jié)構(gòu)，即，將多個(gè)處理液供給噴嘴和一個(gè)溶劑供給噴嘴一體地固定于共用的支撐部。針對(duì)用于向各個(gè)處理液供給噴嘴的頂端內(nèi)部吸引的各個(gè)溶劑貯存部，溶劑供給噴嘴依次移動(dòng)來噴出溶劑。因此，在溶劑的噴出和溶劑的吸引之間，需要進(jìn)行用于使處理液供給噴嘴水平移動(dòng)的動(dòng)作。

本發(fā)明是鑒于這樣的情況而提出的，其目的在于提供一種基板處理裝置及基板處理裝置的控制方法，能夠減少溶劑等的使用量，能夠容易進(jìn)行清掃和更換部件。

用于解決問題的手段

本發(fā)明是為了實(shí)現(xiàn)這樣的目的，采用如下的結(jié)構(gòu)。

即，本發(fā)明的一種基板處理裝置，其特征在于，具備：多個(gè)第一噴嘴，向基板噴出第一處理液；第二噴嘴，向基板噴出第二處理液；噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，把持多個(gè)上述第一噴嘴中的一個(gè)，使把持的上述第一噴嘴及上述第二噴嘴一體地移動(dòng)；吸引部，用于使把持的上述第一噴嘴吸引上述第二處理液；以及，控制部，利用上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少使上述第二噴嘴向上述吸引部移動(dòng)，使移動(dòng)后的上述第二噴嘴向上述吸引部噴出上述第二處理液，使滯留于被噴出有上述第二處理液的上述吸引部的上述第二處理液，被吸引至把持的上述第一噴嘴。

根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)選擇性地把持多個(gè)第一噴嘴中的一個(gè)，使把持的第一噴嘴及第二噴嘴一體地移動(dòng)，至少使第二噴嘴向吸引部移動(dòng)。然后，使移動(dòng)后的第二噴嘴向吸引部噴出第二處理液，使滯留于被噴出有第二處理液的同一吸引部的第二處理液，被吸引到把持的第一噴嘴。因此，由于用同一吸引部進(jìn)行第二處理液的噴出和吸引，因此能夠抑制第二處理液的使用量。另外，吸引部也可以不設(shè)置供給第二處理液的供給系統(tǒng)。因此，能夠使吸引部的結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，在上述的基板處理裝置中，優(yōu)選上述吸引部設(shè)置有比多個(gè)上述第一噴嘴的數(shù)量少的數(shù)量，上述控制部利用上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少使上述第二噴嘴向一個(gè)上述吸引部移動(dòng)。即，吸引部構(gòu)成為，由多個(gè)第一噴嘴共用的結(jié)構(gòu)。由于不設(shè)置與多個(gè)第一噴嘴相同數(shù)量的吸引部，因此使吸引部的結(jié)構(gòu)變得更簡(jiǎn)單。因此，能夠抑制成本。另外，由于不設(shè)置與多個(gè)第一噴嘴相同數(shù)量的吸引部，因此能夠容易清掃吸引部。

另外，在上述的基板處理裝置中，優(yōu)選還具備噴嘴待機(jī)部，該噴嘴待機(jī)部用于使上述第一噴嘴待機(jī)；上述吸引部與上述噴嘴待機(jī)部分離設(shè)置。由于吸引部與復(fù)雜的噴嘴待機(jī)部分離設(shè)置，因此能夠容易地清掃吸引部。另外，能夠在安裝噴嘴待機(jī)部的狀態(tài)下，為了清掃等而卸下吸引部，因此容易地更換部件。另外，如上所述，從第二噴嘴向吸引部供給第二處理液，因此吸引部可以不設(shè)置用于供給第二處理液的供給系統(tǒng)。因此，能夠省略在更換部件時(shí)卸下供給系統(tǒng)的配管的作業(yè)，因此能夠容易地更換部件。另外，相對(duì)于一體的復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，能夠使噴嘴待機(jī)部及吸引部的各個(gè)結(jié)構(gòu)變得更簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，在上述的基板處理裝置的一例中，還具備多個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部，上述保持旋轉(zhuǎn)部保持基板，來使該基板旋轉(zhuǎn)；上述吸引部設(shè)置于多個(gè)上述保持旋轉(zhuǎn)部中的相鄰的兩個(gè)上述保持旋轉(zhuǎn)部之間。具有容易接近吸引部的效果。例如，利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使基板處理中使用中的第一噴嘴從一方的基板(保持旋轉(zhuǎn)部)向另一方的基板(保持旋轉(zhuǎn)部)移動(dòng)。此時(shí)，能夠高效地進(jìn)行待機(jī)中的其他第一噴嘴的吸引動(dòng)作。

另外，在上述的基板處理裝置的一例中，上述控制部利用上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使上述第一噴嘴及上述第二噴嘴向上述吸引部移動(dòng)，在進(jìn)行該移動(dòng)之后，在固定了把持的上述第一噴嘴、上述第二噴嘴及上述吸引部的位置的狀態(tài)下，使上述第二噴嘴向上述吸引部噴出上述第二處理液，使滯留于被噴出有上述第二處理液的上述吸引部的上述第二處理液，被吸引至把持的上述第一噴嘴。由此，在固定了把持的第一噴嘴、第二噴嘴及吸引部的位置的狀態(tài)下，進(jìn)行第二處理液的噴出和吸引，因此能夠高效地進(jìn)行吸引動(dòng)作。

另外，在上述的基板處理裝置中，優(yōu)選上述吸引部具有：接收容器，接收從上述第二噴嘴噴出的第二處理液，以及，滯留容器，與上述接收容器分開單獨(dú)地設(shè)置，與上述接收容器連通；上述控制部使上述第二噴嘴向上述接收容器噴出上述第二處理液，使滯留于上述滯留容器的上述第二處理液，被吸引至把持的上述第一噴嘴。將從第二噴嘴接收第二處理液的接收容器、和向第一噴嘴吸引第二處理液的滯留容器設(shè)置成不同的獨(dú)立的容器。由此，能夠防止：在從第二噴嘴噴出第二處理液時(shí)，濺起的第二處理液附著于第一噴嘴的情況。另外，能夠縮短滯留容器中蓄積充足量的第二處理液的時(shí)間，從而能夠抑制第二處理液的使用量。另外，若濺起的第二處理液附著于第一噴嘴，則存在附著的第二處理液的液滴落至基板上的擔(dān)憂。

另外，在上述的基板處理裝置的一例中，上述控制部利用上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使上述第二噴嘴向上述吸引部移動(dòng)，使移動(dòng)后的上述第二噴嘴向上述吸引部噴出上述第二處理液；上述控制部利用上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，使把持的上述第一噴嘴向噴出有上述第二處理液的上述吸引部至少進(jìn)行水平移動(dòng)，在進(jìn)行這樣的上述第一噴嘴的移動(dòng)之后，使滯留于上述吸引部的上述第二處理液，被吸引至把持的上述第一噴嘴。由此，例如能夠使吸引部變得更小，能夠使吸引部的結(jié)構(gòu)變得更簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，在上述的基板處理裝置中，上述第一處理液的一例是用于在基板上形成涂膜的涂敷液。由此，能夠減少被吸引到噴出涂敷液的第一噴嘴的第二處理液的使用量。另外，在上述的基板處理裝置中，上述第二處理液的一例是溶劑。由此，能夠減少被吸引的溶劑的使用量。

另外，本發(fā)明的基板處理裝置的控制方法，該基板處理裝置具備：多個(gè)第一噴嘴，向基板噴出第一處理液，以及，第二噴嘴，向基板噴出第二處理液，該基板處理裝置的控制方法的特征在于，包括：利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)，至少使上述第二噴嘴向吸引部移動(dòng)的工序，其中，上述噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)把持多個(gè)上述第一噴嘴中的一個(gè)，使把持的上述第一噴嘴及上述第二噴嘴一體地移動(dòng)；使移動(dòng)后的上述第二噴嘴向上述吸引部噴出上述第二處理液的工序；以及，使滯留于被噴出有上述第二處理液的上述吸引部的上述第二處理液，被吸引至把持的上述第一噴嘴的工序。

根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置的控制方法，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)選擇性地把持多個(gè)第一噴嘴中的一個(gè)，使把持的第一噴嘴及第二噴嘴一體地移動(dòng)，至少使第二噴嘴向吸引部移動(dòng)。然后，使移動(dòng)后的第二噴嘴向吸引部噴出第二處理液，使滯留于被噴出有第二處理液的同一吸引部的第二處理液，被吸引到把持的第一噴嘴。因此，用同一吸引部進(jìn)行第二處理液的噴出和吸引，因此能夠抑制第二處理液的使用量。另外，吸引部也可以不設(shè)置用于供給第二處理液的供給系統(tǒng)。因此，能夠使吸引部的結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明的基板處理裝置及其控制方法，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)選擇性地把持多個(gè)第一噴嘴中的一個(gè)，使把持的第一噴嘴及第二噴嘴一體地移動(dòng)，至少使第二噴嘴向吸引部移動(dòng)。然后，使移動(dòng)后的第二噴嘴向吸引部噴出第二處理液，使滯留于被噴出有第二處理液的同一吸引部的第二處理液，被吸引到把持的第一噴嘴。因此，用同一吸引部進(jìn)行第二處理液的噴出和吸引，因此能夠抑制第二處理液的使用量。另外，吸引部也可以不設(shè)置用于供給第二處理液的供給系統(tǒng)。因此，能夠使吸引部的結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

附圖說明

圖1是實(shí)施例的涂敷裝置的框圖。

圖2是實(shí)施例的涂敷裝置的俯視圖。

圖3中的(a)是用于說明涂敷液噴嘴、溶劑噴嘴、以縱向截面表示的溶劑吸引部之間的關(guān)系的圖，圖3中的(b)是溶劑吸引部的俯視圖。

圖4中的(a)～圖4中的(c)是用于說明噴出吸引動(dòng)作的圖。

圖5是表示變形例的溶劑吸引部的俯視圖。

圖6是表示變形例的三個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部和兩個(gè)溶劑吸引部的俯視圖。

圖7是表示變形例的待機(jī)容器和溶劑吸引部的俯視圖。

圖8中的(a)是表示變形例的溶劑的噴出動(dòng)作的圖，圖8中的(b)是表示變形例的溶劑的吸引動(dòng)作的圖。

圖9中的(a)是表示變形例的溶劑的噴出動(dòng)作的圖，圖9中的(b)是表示變形例的溶劑的吸引動(dòng)作的圖。

圖10是用于說明以往的涂敷噴嘴和以縱向截面表示的待機(jī)容器之間的關(guān)系的圖。

圖11是表示以往的待機(jī)容器的俯視圖。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖，說明本發(fā)明的實(shí)施例。圖1是實(shí)施例的涂敷裝置的框圖，圖2是實(shí)施例的涂敷裝置的俯視圖。圖3中的(a)是用于說明涂敷液噴嘴、溶劑噴嘴、以縱向截面表示的溶劑吸引部之間的關(guān)系的圖，圖3中的(b)是溶劑吸引部的俯視圖。

參照?qǐng)D1、圖2。涂敷裝置1具備保持旋轉(zhuǎn)部2，該保持旋轉(zhuǎn)部2將基板w保持為大致水平姿勢(shì)，并使該基板w旋轉(zhuǎn)。另外，涂敷裝置1具備：涂敷液噴嘴3，其向基板w噴出涂敷液；溶劑噴嘴4，其向基板w噴出溶劑；以及，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，其使涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4一體地移動(dòng)。

涂敷液用于在基板w上形成涂膜。涂敷液可以使用光致抗蝕劑液、sog(spinonglasscoating：旋涂玻璃)液、sod(spinondielectriccoating：旋涂電介質(zhì))液、聚酰亞胺樹脂液等。溶劑例如可以使用稀釋劑(thinner)。另外，涂敷液噴嘴3相當(dāng)于本發(fā)明的第一噴嘴，溶劑噴嘴4相當(dāng)于本發(fā)明的第二噴嘴。涂敷液相當(dāng)于本發(fā)明的第一處理液，溶劑相當(dāng)于本發(fā)明的第二處理液。

保持旋轉(zhuǎn)部2具備：旋轉(zhuǎn)夾具7，其例如通過真空吸附保持基板w的背面；以及，旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)部9，其由用于使旋轉(zhuǎn)夾具7以大致垂直方向的旋轉(zhuǎn)軸ax為中心旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)等構(gòu)成。在保持旋轉(zhuǎn)部2的周圍，以包圍基板w的側(cè)方的方式設(shè)置有能夠上下移動(dòng)的罩11。

從涂敷液供給源13經(jīng)由涂敷液配管15向涂敷液噴嘴3供給涂敷液。在涂敷液配管15安裝有回吸閥sv、開閉閥v1及泵p1。就開閉閥v1而言，供給涂敷液和停止供給涂敷液；就回吸閥sv而言，與開閉閥v1的動(dòng)作組合地，吸引涂敷液噴嘴3內(nèi)的涂敷液等，另外，推送吸引的涂敷液等。泵p1向涂敷液噴嘴3送出涂敷液。另外，涂敷液噴嘴3可裝卸地支撐于支撐塊17。另外，在具有多個(gè)涂敷液噴嘴3的情況下，各個(gè)涂敷液噴嘴3具備涂敷液供給源13、涂敷液配管15、開閉閥v1、回吸閥sv及泵p1等供給系統(tǒng)。

從溶劑供給源19經(jīng)由溶劑配管21向溶劑噴嘴4供給溶劑。在溶劑配管21安裝有開閉閥v2和泵p2。開閉閥v2用于供給溶劑和停止供給溶劑，泵p2向溶劑噴嘴4送出溶劑。溶劑例如用于預(yù)濕(pre-wet)處理。即，預(yù)濕處理由溶劑噴嘴4向基板w噴出溶劑，通過基板w的旋轉(zhuǎn)，使噴出并到達(dá)基板w上的溶劑在基板w的大致整個(gè)面擴(kuò)散。之后，由涂敷液噴嘴3向基板w噴出光致抗蝕劑。由此，能夠快速均勻地涂敷光致抗蝕劑的膜。

另外，溶劑噴嘴4安裝于噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5(進(jìn)行固定)。例如，如圖1～圖3所述，單一的溶劑噴嘴4安裝于后述的把持部23。另外，也可以使多個(gè)溶劑噴嘴4以排成一列的方式安裝。

如圖2所示，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5具備：把持部(夾持機(jī)構(gòu))23，其把持涂敷液噴嘴3；以及，第一水平移動(dòng)部25，其使把持部23沿著第一方向(x方向)水平移動(dòng)。另外，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5具備：第二水平移動(dòng)部27，其使把持部23沿著與第一方向大致垂直的第二方向(y方向)水平移動(dòng)；以及，上下移動(dòng)部29，其使把持部23沿著上下方向(z方向)移動(dòng)。

例如，把持部23由第一水平移動(dòng)部25支撐為能夠沿著第一方向移動(dòng)。第一水平移動(dòng)部25由上下移動(dòng)部29支撐為能夠沿著上下方向移動(dòng)。上下移動(dòng)部29由第二水平移動(dòng)部27支撐為能夠沿著第二方向移動(dòng)。把持部23、第一水平移動(dòng)部25、第二水平移動(dòng)部27及上下移動(dòng)部29被馬達(dá)或氣缸等驅(qū)動(dòng)。另外，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5也可以具備水平多關(guān)節(jié)臂，來代替第一水平移動(dòng)部25及第二水平移動(dòng)部27中的一個(gè)。

涂敷液噴嘴3例如設(shè)置有十個(gè)(多個(gè))。在向基板w涂敷涂敷液的情況下，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5選擇性地把持十個(gè)涂敷液噴嘴3中的一個(gè)，使把持的一個(gè)涂敷液噴嘴3與溶劑噴嘴4一起向基板w的上方移動(dòng)。另外，在不向基板w涂敷涂敷液的情況下，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5通常使涂敷液噴嘴3移動(dòng)到待機(jī)容器31。

待機(jī)容器31是用于使涂敷液噴嘴3待機(jī)的部分，能夠容納涂敷液噴嘴3。待機(jī)容器31針對(duì)多個(gè)涂敷液噴嘴3分別設(shè)置。例如，在涂敷裝置1具備十個(gè)涂敷液噴嘴3的情況下，設(shè)置十個(gè)待機(jī)容器31。在待機(jī)容器31內(nèi)，能夠從待機(jī)的涂敷液噴嘴3空分配(dummydispense)涂敷液，設(shè)置有未圖示的廢液回收部。

如圖2所示，保持旋轉(zhuǎn)部2例如設(shè)置有兩個(gè)(多個(gè))。另外，保持旋轉(zhuǎn)部2也可以由單個(gè)構(gòu)成。十個(gè)待機(jī)容器31構(gòu)成為，能夠由待機(jī)容器移動(dòng)機(jī)構(gòu)33沿著配置兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2的第一方向(x方向)一體地移動(dòng)。待機(jī)容器移動(dòng)機(jī)構(gòu)33例如以位于把持部23的附近的方式，基于把持部23的位置移動(dòng)。另外，待機(jī)容器移動(dòng)機(jī)構(gòu)33被馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)。

另外，待機(jī)容器31相當(dāng)于本發(fā)明的噴嘴待機(jī)部。另外，多個(gè)待機(jī)容器31的集合體也可以不移動(dòng)，而固定于預(yù)先設(shè)定的位置。另外，多個(gè)待機(jī)容器31相互分離，但是也可以互不分離而一體地設(shè)置。

就待機(jī)容器31中待機(jī)中的涂敷液噴嘴3而言，在規(guī)定期間不使用的情況下，為了防止涂敷液噴嘴3內(nèi)的涂敷液干燥固化，進(jìn)行空分配。但是，若空分配的次數(shù)多，則會(huì)浪費(fèi)涂敷液。因此，向涂敷液噴嘴3的頂端內(nèi)部吸引溶劑，來作為溶劑的蓋，從而減少空分配的次數(shù)。涂敷裝置1具備溶劑吸引部35，該溶劑吸引部35用于使由噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5把持的涂敷液噴嘴3吸引溶劑。

溶劑吸引部35并不像如圖10所示與待機(jī)容器31一體地設(shè)置，而是如圖2所示，與待機(jī)容器31分離地設(shè)置。另外，在相鄰的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2之間(具體地講，兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2和待機(jī)容器31之間)配置有一個(gè)溶劑吸引部35。即，針對(duì)十個(gè)(多個(gè))待機(jī)容器31設(shè)置有一個(gè)溶劑吸引部35。另外，溶劑吸引部35相當(dāng)于本發(fā)明的吸引部。

說明溶劑吸引部35的具體的結(jié)構(gòu)。如圖3中的(a)、圖3中的(b)所示，溶劑吸引部35具備：接收容器41，其接收從溶劑噴嘴4噴出的溶劑；以及，滯留容器43，其與接收容器41分開單獨(dú)地設(shè)置，與接收容器41連通。滯留容器43容納涂敷液噴嘴3，使溶劑滯留，來使涂敷液噴嘴3吸引溶劑。注入到接收容器41的溶劑，流入與接收容器41連通的滯留容器43。

接收容器41的底部和滯留容器43的底部用連通管45連結(jié)，因此溶劑自由地流動(dòng)。另外，連通管45還與排出口47連結(jié)。連通管45具備：接收容器41側(cè)的配管45a、滯留容器43側(cè)的配管45b、排出口47側(cè)的配管45c。為了使注入到接收容器41的溶劑暫時(shí)滯留于滯留容器43，并不設(shè)置開閉閥，將配管45c設(shè)置成，與配管45b相比更難以使溶劑流動(dòng)。由此，使溶劑向滯留容器43溢出，從而使溶劑比較平穩(wěn)地滯留于滯留容器43。通過滯留的溶劑，能夠向涂敷液噴嘴3內(nèi)吸引溶劑，并且能夠清洗涂敷液噴嘴3的內(nèi)外部分。

另外，從排出口47流出的溶劑，被設(shè)置于溶劑吸引部35的下部的廢液回收部49回收。另外，接收容器41的底部41a朝向連通管45相對(duì)于水平面傾斜。由此，能夠?qū)⑷軇└咝У剌斔偷竭B通管45，并且防止到達(dá)接收容器41的溶劑濺起。

返回圖1。涂敷裝置1具備：控制部51，其由中央運(yùn)算處理裝置(cpu)等構(gòu)成；以及，操作部53，其用于操作涂敷裝置1?？刂撇?1控制涂敷裝置1的各個(gè)結(jié)構(gòu)。操作部53具備：液晶顯示器等顯示部；rom(read-onlymemory：只讀存儲(chǔ)器)、ram(random-accessmemory：隨機(jī)存儲(chǔ)器)及硬盤等存儲(chǔ)部；鍵盤、鼠標(biāo)及各種按鍵等輸入部。存儲(chǔ)部存儲(chǔ)有涂敷處理的各種條件等。

例如，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使把持的涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35移動(dòng)。在進(jìn)行該移動(dòng)后，控制部51在固定把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的位置(至少水平位置)的狀態(tài)下，使溶劑從溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35的接收容器41噴出。然后，控制部51使滯留于被噴出有溶劑的溶劑吸引部35的滯留容器43的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。

接著，說明涂敷裝置1的一動(dòng)作例。在此，如圖2所示，例如在依次對(duì)兩張基板wa、wb連續(xù)地進(jìn)行涂敷處理時(shí)，在兩張基板wa、wb(或兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2a、2b)之間移動(dòng)。在該移動(dòng)的途中存在需要吸引動(dòng)作的待機(jī)中的第二涂敷液噴嘴3b的情況下，進(jìn)行向第二涂敷液噴嘴3b吸引溶劑的吸引動(dòng)作。例如在從涂敷液噴嘴3噴出涂敷液等之后、經(jīng)過規(guī)定時(shí)間的情況下，需要吸引動(dòng)作。

參照?qǐng)D2。在對(duì)由第一保持旋轉(zhuǎn)部2a保持的基板wa結(jié)束涂敷液的涂敷之后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使第一涂敷液噴嘴3a從基板wa的上方向第一待機(jī)容器31a的上方的規(guī)定位置移動(dòng)。然后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使第一涂敷液噴嘴3a下降，來解除由把持部23進(jìn)行的第一涂敷液噴嘴3a的把持。由此，第一涂敷液噴嘴3a待機(jī)于第一待機(jī)容器31a。

噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使把持部23上升，并水平移動(dòng)到需要吸引動(dòng)作的第二涂敷液噴嘴3b的上方的規(guī)定位置。然后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使把持部23下降，來使把持部23把持第二涂敷液噴嘴3b。另外，在需要對(duì)第二涂敷液噴嘴3b進(jìn)行空分配的情況下，在從第二待機(jī)容器31b移動(dòng)之前，噴出第二涂敷液噴嘴3b內(nèi)的涂敷液、之前吸引的溶劑。

在把持第二涂敷液噴嘴3b后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使由把持部23把持的第二涂敷液噴嘴3b上升，使第二涂敷液噴嘴3b移動(dòng)到溶劑吸引部35的上方的規(guī)定位置。噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使第二涂敷液噴嘴3b下降，如圖3中的(a)所示，使第二涂敷液噴嘴3b配置于規(guī)定高度。

圖4中的(a)～圖4中的(c)是用于說明噴出吸引動(dòng)作的圖。在本實(shí)施例中，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使把持的涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35移動(dòng)。在進(jìn)行該移動(dòng)之后，控制部51在固定了把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的位置(至少水平位置)的狀態(tài)下，使溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35的接收容器41噴出溶劑，使滯留于被噴出有溶劑的同一溶劑吸引部35的滯留容器43的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。

另外，就把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的水平位置的規(guī)定而言，也可以是大致固定。

在圖4中的(a)中，在溶劑吸引部35容納有涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4。另外，溶劑噴嘴4也可以不容納于溶劑吸引部35，而配置于溶劑吸引部35的上方。從溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35的接收容器41噴出溶劑。噴出至接收容器41的溶劑，經(jīng)由連通管45流入滯留容器43。配管45c與配管45b相比，更難以使溶劑流動(dòng)。因此，使溶劑向滯留容器43溢出，從而使溶劑比較平穩(wěn)地滯留于滯留容器43。由此，如圖4中的(b)所示，第二涂敷液噴嘴3b的頂端部分浸漬于溶劑中。因此，第二涂敷液噴嘴3b的外側(cè)面被溶劑清洗。

另外，如圖4中的(a)所示，在涂敷液噴嘴3的頂端內(nèi)部，形成有空氣等氣體層l2。在向基板w或待機(jī)容器31等噴出涂敷液之后，為了防止涂敷液的下落(液だれ)，利用回吸閥sv，將涂敷液噴嘴3的頂端內(nèi)部的涂敷液吸引到里面。由此，形成氣體層l2。

在圖4中的(b)的狀態(tài)下，進(jìn)行向第二涂敷液噴嘴3b的吸引動(dòng)作。即，通過驅(qū)動(dòng)回吸閥sv，將溶劑吸引至第二涂敷液噴嘴3b。由此，能夠使在第二涂敷液噴嘴3b的頂端內(nèi)部干燥的涂敷液溶解。另外，第二涂敷液噴嘴3b被溶劑蓋住，從而能夠防止涂敷液干燥。

在滯留容器43內(nèi)，暫時(shí)形成第二涂敷液噴嘴3b浸漬于溶劑中的狀態(tài)。但是，如圖4(c)所示，由于經(jīng)由排出口47排出溶劑，不久，所有的溶劑從排出口47排出。在第二涂敷液噴嘴3b，從噴出口55依次形成溶劑層l3、氣體層l2、涂敷液層l1。

在進(jìn)行向第二涂敷液噴嘴3b的吸引動(dòng)作之后，在圖2中，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使第二涂敷液噴嘴3b上升，來從溶劑吸引部35的上方水平移動(dòng)到第二待機(jī)容器31b的上方的規(guī)定位置。然后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使第二涂敷液噴嘴3b下降，來解除由把持部23進(jìn)行的第二涂敷液噴嘴3b的把持。由此，第二涂敷液噴嘴3b待機(jī)于第二待機(jī)容器31b。

在使第二涂敷液噴嘴3b待機(jī)于第二待機(jī)容器31b之后，重新開始對(duì)基板wb進(jìn)行涂敷處理。噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使把持部23上升，使把持部23從第二待機(jī)容器31b的上方移動(dòng)到第一待機(jī)容器31a的上方的規(guī)定位置。在移動(dòng)之后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使把持部23下降，來使把持部23把持第一涂敷液噴嘴3a。然后，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使由把持部23把持的第一涂敷液噴嘴3a上升，使第一涂敷液噴嘴3a從第一待機(jī)容器31a的上方移動(dòng)到基板wb的上方的規(guī)定位置，進(jìn)行涂敷處理。

根據(jù)本實(shí)施例，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5選擇性地把持多個(gè)涂敷液噴嘴3中的一個(gè)，使把持的涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4一體地移動(dòng)，使涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35移動(dòng)。然后，從移動(dòng)的溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35噴出溶劑，使滯留于被噴出有溶劑的同一溶劑吸引部35的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。因此，由于用同一溶劑吸引部35進(jìn)行溶劑的噴出和吸引，因此能夠抑制溶劑的使用量。另外，溶劑吸引部35也可以不設(shè)置用于供給溶劑的供給系統(tǒng)。因此，能夠使溶劑吸引部35的結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，溶劑吸引部35以單體方式設(shè)置。即，溶劑吸引部35構(gòu)成為由十個(gè)涂敷液噴嘴3共用。由于不用設(shè)置與十個(gè)涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的溶劑吸引部35，因此使溶劑吸引部35的結(jié)構(gòu)變得更簡(jiǎn)單。因此，能夠抑制成本。另外，由于不設(shè)置與十個(gè)涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的溶劑吸引部35，因此能夠容易地清掃溶劑吸引部35。

另外，涂敷裝置1具備用于使涂敷液噴嘴3待機(jī)的待機(jī)容器31，溶劑吸引部35與待機(jī)容器31分離設(shè)置。由于溶劑吸引部35與復(fù)雜的待機(jī)容器31分離設(shè)置，因此能夠容易地清掃溶劑吸引部35。另外，能夠在安裝有待機(jī)容器31的狀態(tài)下，為了清掃等而卸下溶劑吸引部35，因此容易地更換部件。另外，如上所述，從溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35供給溶劑，因此溶劑吸引部35也可以不設(shè)置用于供給溶劑的供給系統(tǒng)。因此，能夠省略在交換部件時(shí)卸下供給系統(tǒng)的配管的作業(yè)，因此能夠容易地更換部件。另外，相對(duì)于一體的復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，能夠使待機(jī)容器31和溶劑吸引部35各自的結(jié)構(gòu)更簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，涂敷裝置1具備用于保持基板w并使其旋轉(zhuǎn)的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2，溶劑吸引部35設(shè)置在兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2中的相鄰的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2之間。因此，具有容易接近溶劑吸引部35的效果。例如，利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使基板處理中使用中的第一涂敷液噴嘴3a從一方的基板wa(第一保持旋轉(zhuǎn)部2a)向另一方的基板wb(第二保持旋轉(zhuǎn)部2b)移動(dòng)。此時(shí)，能夠高效地進(jìn)行待機(jī)中的其他第二涂敷液噴嘴3b的吸引動(dòng)作。

另外，溶劑吸引部35具備：接收容器41，其接收從溶劑噴嘴4噴出的溶劑；以及，滯留容器43，其與接收容器41分開單獨(dú)地設(shè)置，與接收容器41連通。而且，控制部51使溶劑噴嘴4向接收容器41噴出溶劑，使滯留在滯留容器43的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。將從溶劑噴嘴4接收溶劑的接收容器41、和用于向涂敷液噴嘴3吸引溶劑的滯留容器43，設(shè)置成獨(dú)立的容器。由此，能夠防止：在從溶劑噴嘴4噴出溶劑時(shí)，濺起的溶劑附著于涂敷液噴嘴3的情況。另外，能夠使溶劑容易地蓄積于滯留容器43。因此，能夠縮短滯留容器43中蓄積充足量的溶劑的時(shí)間，從而能夠抑制溶劑的使用量。另外，若濺起的溶劑附著于涂敷液噴嘴3，則產(chǎn)生附著的溶劑的液滴落至基板w上的擔(dān)憂。

另外，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35移動(dòng)，在移動(dòng)之后，在固定了把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的位置的狀態(tài)下，從溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35噴出溶劑，使滯留于溶劑吸引部35的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。由此，在固定了把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的位置的狀態(tài)下，進(jìn)行溶劑的噴出和吸引，因此能夠高效地進(jìn)行吸引動(dòng)作。

本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，能夠進(jìn)行如下變形實(shí)施。

(1)在上述的實(shí)施例中，溶劑噴嘴4安裝于噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5。這方面，例如，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5也可以具備能夠把持溶劑噴嘴4的機(jī)構(gòu)，來將溶劑噴嘴4安裝于噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5。在該情況下，噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5用把持部23把持涂敷液噴嘴3，而且，用未圖示的把持部把持溶劑噴嘴4。

(2)在上述的實(shí)施例及變形例(1)中，如圖2所示，在相鄰的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2之間設(shè)置有一個(gè)溶劑吸引部35。這方面，例如，例如也可以設(shè)置與十個(gè)(多個(gè))涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的十個(gè)溶劑吸引部35。在具有多個(gè)溶劑吸引部35的情況下，如圖5所示，向溶劑吸引部35的各個(gè)滯留容器43供給的溶劑，不向其他滯留容器43供給。因此，選擇性地從溶劑噴嘴4向各個(gè)滯留容器43供給溶劑。

在該情況下，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使把持的涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4向十個(gè)溶劑吸引部35中的同一溶劑吸引部35移動(dòng)。就吸引動(dòng)作而言，在同一溶劑吸引部35進(jìn)行溶劑的噴出和吸引。

另外，溶劑吸引部35例如也可以設(shè)置有：比十個(gè)涂敷液噴嘴3的數(shù)量少的數(shù)量(多個(gè))。不設(shè)置與十個(gè)涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的溶劑吸引部35，因此使溶劑吸引部35的結(jié)構(gòu)變得簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。另外，不設(shè)置與十個(gè)涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的溶劑吸引部35，因此能夠容易地清掃溶劑吸引部35的滯留容器43。另外，優(yōu)選多個(gè)溶劑吸引部35分別分離地設(shè)置，但也可以是一體的結(jié)構(gòu)。

(3)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，在圖2中，在相鄰的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2之間設(shè)置一個(gè)溶劑吸引部35。這方面，如圖6所示，例如在具有三個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2的情況下，也可以在第一保持旋轉(zhuǎn)部2a和第二保持旋轉(zhuǎn)部2b之間設(shè)置一個(gè)第一溶劑吸引部35a，而且，在第二保持旋轉(zhuǎn)部2b和第三保持旋轉(zhuǎn)部2c之間設(shè)置一個(gè)第二溶劑吸引部35b。即，溶劑吸引部35也可以分開設(shè)置于兩處(多處)。

另外，在各個(gè)位置，第一溶劑吸引部35a和第二溶劑吸引部35b也可以設(shè)置：與十個(gè)涂敷液噴嘴3相同數(shù)量的十個(gè)，或者，比十個(gè)涂敷液噴嘴3的數(shù)量少的數(shù)量(多個(gè))。另外，在具有四個(gè)以上的保持旋轉(zhuǎn)部2的情況下也相同。另外，圖6中，也可以對(duì)于三個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2a～2c，在一處設(shè)置溶劑吸引部35。

(4)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，在圖2中，溶劑吸引部35設(shè)置在相鄰的兩個(gè)保持旋轉(zhuǎn)部2之間。這方面，在圖7，溶劑吸引部35也可以與待機(jī)容器31相鄰設(shè)置，而且，利用待機(jī)容器移動(dòng)機(jī)構(gòu)33與多個(gè)待機(jī)容器31的集合體一體地移動(dòng)。另外，在該情況下，溶劑吸引部35也與待機(jī)容器31分離設(shè)置，因此能夠容易地更換部件。

(5)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，如圖3中的(a)、圖3中的(b)所示，溶劑吸引部35具備接收容器41和滯留容器43這樣的兩個(gè)容器。這方面，在幾乎沒有來自溶劑噴嘴4的溶劑濺起等影響的情況下，滯留容器也可以是兼作接收容器41和滯留容器43的一個(gè)容器。

(6)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，如圖4中的(a)～圖4中的(c)所示，在固定了把持的涂敷液噴嘴3、溶劑噴嘴4及溶劑吸引部35的位置(至少水平方向的位置)的狀態(tài)下，進(jìn)行了溶劑的吸引動(dòng)作。但是，根據(jù)需要，也可以不固定這些的位置而使其移動(dòng)。

即，如圖8中的(a)、圖8中的(b)所示，溶劑吸引部61也可以具備單一的滯留容器65，該單一的滯留容器65用于接收溶劑并使溶劑暫時(shí)滯留。如圖8中的(a)所示，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5使溶劑噴嘴4向溶劑吸引部35(滯留容器65)移動(dòng)，從移動(dòng)后的溶劑噴嘴4向溶劑吸引部61噴出溶劑。

如圖8中的(b)所示，控制部51利用噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5，使把持的涂敷液噴嘴3至少水平移動(dòng)(例如，水平移動(dòng)+上下移動(dòng))到噴出有溶劑的同一溶劑吸引部61。在進(jìn)行該涂敷液噴嘴3的移動(dòng)后，控制部51使滯留在溶劑吸引部61的溶劑，被吸引到把持的涂敷液噴嘴3。由此，能夠使溶劑吸引部61變得更小。因此，能夠使溶劑吸引部61的結(jié)構(gòu)變得更簡(jiǎn)單，從而能夠抑制成本。

另外，溶劑吸引部71也可以具備：如圖9中的(a)、圖9中的(b)所示那樣的接收容器73，其接收溶劑；以及，滯留容器75，其使溶劑暫時(shí)滯留。圖9中的(a)、圖9中的(b)的涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4，不能同時(shí)向接收容器73和滯留容器75移動(dòng)。因此，與圖8中的(a)、圖8中的(b)同樣地，在噴出溶劑和吸引溶劑的動(dòng)作之間，利用水平方向的噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)5進(jìn)行涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4的水平移動(dòng)。另外，圖8中的(a)、圖8中的(b)、圖9中的(a)及圖9中的(b)中，也可以使溶劑吸引部61、71相對(duì)于涂敷液噴嘴3和溶劑噴嘴4，向水平方向移動(dòng)。

(7)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，吸引了一次蓄積于滯留容器43的溶劑，但是，也可以進(jìn)一步將吸引到的溶劑噴出一部分或全部，來再次吸引。另外，也可以反復(fù)進(jìn)行該溶劑的吸引、噴出的動(dòng)作。由此，能夠噴出因涂敷液溶解而涂敷液的濃度高的溶劑，從而能夠吸引比較新鮮的溶劑。

(8)在上述的實(shí)施例和各個(gè)變形例中，舉出涂敷裝置1的例子來作為基板處理裝置，但是，例如也可以是顯影裝置。在該情況下，實(shí)施例的涂敷液噴嘴3可以噴出顯影液，實(shí)施例的溶劑噴嘴4可以噴出例如純水。

附圖標(biāo)記說明

1…涂敷裝置

2…旋轉(zhuǎn)保持部

3…涂敷液噴嘴

4…溶劑噴嘴

5…噴嘴移動(dòng)機(jī)構(gòu)

23…把持部

31…待機(jī)容器

35、61、71…溶劑吸引部

41、73…接收容器

43、65、75…滯留容器

45…連通管

45a～45c…配管

47…排出口

51…控制部

sv…回吸閥