技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了一種N型雙面太陽電池。它包括依次層疊設(shè)置的氮化硅層、氧化鋁層、硼擴(kuò)散層、N型硅基底、磷擴(kuò)散層以及氮化硅鈍化減反射膜，所述氮化硅層、氧化鋁層構(gòu)成疊層的氧化鋁/氮化硅鈍化層，所述氧化鋁/氮化硅鈍化層上刻蝕形成有用于對應(yīng)各副柵線電極的刻蝕槽，副柵線電極填充在所述刻蝕槽內(nèi)以形成歐姆接觸。

技術(shù)研發(fā)人員：張三洋;魏青竹;吳晨陽;劉曉瑞;陸俊宇;連維飛;倪志春
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中利騰暉光伏科技有限公司
文檔號碼：201621384993
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.16
技術(shù)公布日：2017.07.18