1.可適應(yīng)不同尺寸單片硅片的清洗裝置，其特征在于：包括基座(1)，所述基座(1)的中心位置設(shè)置有進(jìn)水口(11)，所述基座(1)上設(shè)置有由進(jìn)水口(11)內(nèi)壁貫穿到基座(1)外表面的滑槽(12)，所述滑槽(12)至少具有三個(gè)，且在基座(1)上沿中心位于基座(1)的中心軸上的圓周均勻分布，所述滑槽(12)內(nèi)滑動(dòng)安裝有滑塊(2)，所述滑塊(2)的長(zhǎng)度大于基座(1)外表面到基座(1)的中心軸的最大距離，所述滑塊(2)的一端設(shè)置有定位凸臺(tái)(21)；所述定位凸臺(tái)(21)位于基座(1)的上表面上；所述基座(1)的外表面上在滑槽(12)的開(kāi)口處設(shè)置有向基座(1)外側(cè)延伸的U型槽(13)，所述滑塊位于U型槽(13)內(nèi)，所述U型槽(13)上設(shè)置有將滑塊(2)頂緊在U型槽(13)內(nèi)的鎖緊螺栓(3)。
2.如權(quán)利要求1所述的可適應(yīng)不同尺寸單片硅片的清洗裝置，其特征在于：所述定位凸臺(tái)(21)上設(shè)置有硅片夾緊階梯臺(tái)。
3.如權(quán)利要求1所述的可適應(yīng)不同尺寸單片硅片的清洗裝置，其特征在于：所述滑槽(12)為T(mén)型槽或燕尾槽。
4.如權(quán)利要求1所述的可適應(yīng)不同尺寸單片硅片的清洗裝置，其特征在于：所述基座(1)為圓盤(pán)。
5.如權(quán)利要求1所述的可適應(yīng)不同尺寸單片硅片的清洗裝置，其特征在于：所述滑槽(12)具有六個(gè)。