本實用新型涉及電子設備技術領域，尤其涉及一種電抗器結構。

背景技術：

電抗器也叫電感器，一個導體通電時就會在其所占據(jù)的一定空間范圍產(chǎn)生磁場，所以所有能載流的電導體都有一般意義上的感性。然而通電長直導體的電感較小，所產(chǎn)生的磁場不強，因此實際的電抗器是導線繞成螺線管形式，稱空心電抗器；有時為了讓這只螺線管具有更大的電感，便在螺線管中插入鐵心，稱鐵心電抗器。電抗分為感抗和容抗，比較科學的歸類是感抗器(電感器)和容抗器(電容器)統(tǒng)稱為電抗器，然而由于過去先有了電感器，并且被稱為電抗器，所以現(xiàn)在人們所說的電容器就是容抗器，而電抗器專指電感器。

電抗器在使用過程中會產(chǎn)生比較大的噪音，影響使用環(huán)境，另外，飽和電抗器具有結構比較復雜，生產(chǎn)繁瑣及生產(chǎn)成本較高等特點。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型提供了一種電抗器結構，具有隔音效果較好、結構簡單、生產(chǎn)方便及生產(chǎn)成本較低等特點。

為了解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案為：

一種電抗器結構，包括電抗器主體機構，及設置在所述電抗器主體機構外側的隔聲罩機構，所述隔聲罩機構設置有上開口和下開口，所述上開口和所述下開口上設置有消聲器，所述消聲器內設置有十字縱隔板構成的4個排氣通道，每一所述排氣通道內壁上設置有吸聲層。

優(yōu)選地，所述吸聲層的厚度為30mm，且平均吸聲系數(shù)為0.5。

優(yōu)選地，所述十字縱隔板的厚度為20mm。

優(yōu)選地，設置在所述上開口的所述消聲器的外徑為1016mm，設置在所述下開口的所述消聲器的外徑為800mm。

優(yōu)選地，所述隔聲罩機構的外徑為2565mm、高度為5080mm

優(yōu)選地，所述電抗器主體機構具體包括上軛鐵、下軛鐵、設置在所述上軛鐵和所述下軛鐵之間的鐵芯，及纏繞在所述鐵芯周側的直流繞組和交流繞組。

本實用新型的一種電抗器結構，通過在所述電抗器主體機構外設置所述隔聲罩機構，通過在所述隔聲罩機構上設置所述上開口和所述下開口，再在所述上開口和所述下開口上設置所述消音器主體，使得本實用新型具有更好的消音功能，通過在所述消音器主體內設置所述排氣通道，在每一所述排氣通道內壁上設置所述吸引層，能達到全面平均消音的功能，從而使得本實用新型具有消音效果更好的特點。另外，本實用新型還具有結構簡單、生產(chǎn)方便及生產(chǎn)成本較低等特點。

附圖說明

圖1是本實用新型一種電抗器結構的結構示意圖。

圖2是本實用新型的隔聲罩機構的俯視圖。

圖3是本實用新型的消音器主體機構的剖面圖。

圖4是本實用新型的電抗器主體機構的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖，具體闡明本實用新型的實施方式，附圖僅供參考和說明使用，不構成對本實用新型專利保護范圍的限制。

請參考圖1至圖4，本實用新型一種電抗器結構，包括：電抗器主體機構1及設置在所述電抗器主體機構1外側的隔聲罩機構2。

具體地，所述電抗器主體機構1具體包括上軛鐵11、下軛鐵12、設置在所述上軛鐵11和所述下軛鐵12之間的鐵芯13，及纏繞在所述鐵芯周側的直流繞組和交流繞組，所述鐵芯周側均勻地設置有氣隙層14。通過在所述鐵芯13周側設置所述直流繞線組和所述交流繞線組，使得所述電抗器主體機構1能較好地達到飽和狀態(tài)。

所述隔聲罩機構2設置有上開口21和下開口22，所述上開口21和所述下開口22上設置有消聲器23，所述消聲器23內設置有十字縱隔板構成的4個排氣通道24，每一所述排氣通道24內壁上設置有吸聲層，所述吸聲層的厚度為30mm，且平均吸聲系數(shù)為0.5，所述十字縱隔板的厚度為20mm，設置在所述上開口21的所述消聲器23的外徑為1016mm，設置在所述下開口22的所述消聲器23的外徑為800mm，所述隔聲罩機構2的外徑為2565mm、高度為5080mm。需要說明的是，所述隔聲罩機構2的材質為玻璃鋼，通過開設所述上開口21和所述下開口22.，便于所述電抗器主體機構1進出線的連接，還有助于所述電抗器主體機構1的通風和散熱，所述隔聲罩機構2的側面上開設有小孔。

從以上描述可以看出，本實用新型的一種電抗器結構，通過在所述電抗器主體機構1外設置所述隔聲罩機構2，通過在所述隔聲罩機構2上設置所述上開口21和所述下開口22，再在所述上開口21和所述下開口22上設置所述消音器23，使得本實用新型具有更好的消音功能，通過在所述消音器23內設置所述排氣通道，在每一所述排氣通道24內壁上設置所述吸引層，能達到全面平均消音的功能，從而使得本實用新型具有消音效果更好的特點。另外，本實用新型還具有結構簡單、生產(chǎn)方便及生產(chǎn)成本較低等特點。

以上所揭露的僅為本實用新型的較佳實施例，不能以此來限定本實用新型的權利保護范圍，因此依本實用新型申請專利范圍所作的等同變化，仍屬本實用新型所涵蓋的范圍。