1.等離子加工裝置，其特征在于，包括等離子噴射柱，所述等離子噴射柱的上端延伸有噴射嘴，且所述等離子噴射柱內(nèi)設(shè)有用于供等離子流動(dòng)的通道，所述通道一端與所述噴射嘴連通，所述通道的另外一端連接有管道。
2.如權(quán)利要求1所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述噴射嘴呈上小下大狀布置。
3.如權(quán)利要求1或2所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述等離子加工裝置還包括固定結(jié)構(gòu)，所述等離子噴射柱連接在所述固定結(jié)構(gòu)上。
4.如權(quán)利要求3所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述固定結(jié)構(gòu)包括第一安裝塊以及第二安裝塊，所述等離子噴射柱連接在所述第一安裝塊的側(cè)端，所述第一安裝塊的上端連接有所述第二安裝塊。
5.如權(quán)利要求4所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述第一安裝塊的側(cè)端連接有側(cè)環(huán)，所述側(cè)環(huán)與所述第二安裝塊之間形成有插槽，所述等離子噴射柱插設(shè)在所述插槽內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述側(cè)環(huán)呈半圓形狀布置。
7.如權(quán)利要求5所述的等離子加工裝置，其特征在于，所述第一安裝塊的下端連接有第三安裝塊，所述第三安裝塊通過(guò)連接桿與所述第二安裝塊連接。