本實(shí)用新型涉及一種精密儀器的跟蹤轉(zhuǎn)臺(tái)，特別是涉及一種用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系。

背景技術(shù)：

二維轉(zhuǎn)臺(tái)承擔(dān)著衛(wèi)星激光通信光終端光學(xué)子系統(tǒng)和機(jī)械子系統(tǒng)，使衛(wèi)星激光通信光終端能在各種環(huán)境下準(zhǔn)確穩(wěn)定可靠的完成對(duì)衛(wèi)星的瞄準(zhǔn)、捕獲與跟蹤，其要求軸系具有較高的回轉(zhuǎn)精度和運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)性。方位軸系作為二維精密轉(zhuǎn)臺(tái)的重要組成部分。

如圖1所示，傳統(tǒng)技術(shù)的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系采用一定的機(jī)械機(jī)構(gòu)把一對(duì)向心球軸承與一只推力球軸承組合起來使用來滿足回轉(zhuǎn)精度與運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)性。其中向心球軸承用于徑向定位，推力球軸承用于系統(tǒng)承載。但是，此方案不能夠抵抗外界傾覆力矩，需要額外添加防傾覆裝置。

因此，有必要提供一種新的用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系來克服上述問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種傾斜剛度和旋轉(zhuǎn)精度高的用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系。

本實(shí)用新型的目的是采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的：一種用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系，其包括具有收容空間的底座、安裝于所述底座上的軸承、安裝于所述軸承上的方位軸聯(lián)合組件，所述軸承包括收容于所述收容空間的基體、安裝所述基體上方的壓板及套設(shè)于所述基體上的外圈，所述壓板與所述外圈之間卡持若干第一滾珠，所述外圈與所述基體之間卡持若干第二滾珠。

具體的，所述基體包括圓柱型大端與自所述大端向上延伸的圓柱型小端，所述壓板安裝于所述小端的上表面，所述外圈固定于所述小端圓柱表面，所述第二滾珠卡接在所述外圈與所述大端之間。

具體的，所述底座具有貫穿其上下面的中心孔、位于其上表面且位于所述中心孔周圍的安裝臺(tái)及自其下表面向外延伸形成的固定臺(tái)，自所述安裝臺(tái)的外圍向上延伸形成一凸緣，所述安裝臺(tái)的內(nèi)邊緣安裝一電機(jī)，所述收容空間通過所述凸緣、所述電機(jī)表面與所述安裝臺(tái)共同圍設(shè)形成。

具體的，所述凸緣與所述外圈相固定，所述大端與所述安裝臺(tái)相固定，所述壓板與所述方位軸聯(lián)合組件相固定。

具體的，所述方位軸聯(lián)合組件包括方位軸及套設(shè)于所述方位軸外圍的方位軸轉(zhuǎn)接件，所述方位軸轉(zhuǎn)接件具有自其表面向外延伸的安裝緣，所述安裝緣與所述壓板相固定。

具體的，若干所述第一滾珠、所述第二滾珠分別上下層相互間隔的排列成一圈，所述第一滾珠、第二滾珠在軸承的徑向方向上并排的數(shù)量為兩個(gè)。

相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型提出的用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系采用特制軸承結(jié)構(gòu)，該軸承同時(shí)可以承擔(dān)徑向、軸向和傾覆力矩載荷，實(shí)現(xiàn)對(duì)二維轉(zhuǎn)臺(tái)的承載和定位。將軸承軸向圓柱滾子改為雙排球結(jié)構(gòu)，大大降低了軸承回轉(zhuǎn)摩擦系數(shù)，并控制軸向游隙為負(fù)游隙，大大提高了軸承的剛度和回轉(zhuǎn)精度，提高了軸承的性能。

上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的示意圖。

圖3是圖2所示用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的軸承的示意圖。

圖4是圖3所示用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的軸承剖視圖。

圖5是圖2所示用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的底座的示意圖。

圖6是圖2所示用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系的方位軸聯(lián)合組件。

具體實(shí)施方式

為了便于理解本實(shí)用新型，下面將參照相關(guān)附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。附圖中給出了本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式。但是，本實(shí)用新型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施方式。相反地，提供這些實(shí)施方式的目的是使對(duì)本實(shí)用新型的公開內(nèi)容理解的更加透徹全面。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實(shí)用新型的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實(shí)用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施方式的目的，不是旨在于限制本實(shí)用新型。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

請(qǐng)參閱圖2，圖2是本實(shí)用新型用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系100的示意圖。

用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系100包括底座10、安裝于底座10上的軸承20、安裝于軸承20上的方位軸聯(lián)合組件30。

如圖4所示，底座10為大致呈圓盤形，其具有貫穿其上下面的中心孔101、 位于其上表面且位于中心孔101周圍的安裝臺(tái)102及自其下表面向外延伸形成的固定臺(tái)103。自安裝臺(tái)102的外圍向上延伸形成一凸緣104，安裝臺(tái)102的內(nèi)邊緣具有安裝一電機(jī)105，凸緣104、電機(jī)105的表面與安裝臺(tái)102共同圍設(shè)形成收容軸承20的收容空間106。凸緣104、安裝臺(tái)102上設(shè)有自其上表面向下凹陷的固定孔1041。

如圖2至圖3所示，軸承20收容于收容空間106中。軸承20為非標(biāo)件，其包括基體201、位于基體201上方的壓板202及套設(shè)于基體201上的外圈203?；w201與壓板202通過緊固件固持在一起。具體的，基體201包括圓柱型大端2011與自大端2011向上延伸的圓柱型小端2012。壓板202安裝于小端2012的上表面，外圈203通過滾子固定于小端2012圓柱表面，大端2011、壓板202、外圈203分別具有貫穿其上下表面的固定孔206，外圈203上的固定孔206與凸緣104的固定孔1041對(duì)齊，通過緊固件(未圖示)將軸承20固定于安裝臺(tái)102上?；w201的大端2011的固定孔206與安裝臺(tái)102的固定孔1041通過緊固件(未圖示)相固定。

軸承20還包括夾持于壓板202與外圈203之間的若干第一滾珠204及夾持于大端2011與外圈203之間的若干第二滾珠205。若干第一滾珠204、第二滾珠205分別上下層相互間隔的排列成一圈，第一滾珠204、第二滾珠205在軸承20的同一徑向方向上并排的數(shù)量為兩個(gè)。

如圖5至圖6所示，方位軸聯(lián)合組件30包括方位軸31及套設(shè)于方位軸31外圍的方位軸轉(zhuǎn)接件32。方位軸轉(zhuǎn)接件32具有自其表面向外延伸的安裝緣321，安裝緣321上具有若干其表面貫穿孔321，一緊固件(未圖示)收容于安裝緣321的貫穿孔321與壓板202的固定孔206而固定方位軸轉(zhuǎn)接件方位軸聯(lián)合組件30與軸承20。

用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系100還包括安裝于底座10下方的基座40，基座40與底座10通過鎖固螺栓(未指示)連接，位于基座與底座10之間還加設(shè)調(diào)整塊50來調(diào)整基座40與底座10的平衡度(即方位軸系與水平面的垂直度)。

本實(shí)用新型用于衛(wèi)星終端的二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系100采用特制軸承20結(jié)構(gòu)，該軸承20同時(shí)可以承擔(dān)徑向、軸向和傾覆力矩載荷，實(shí)現(xiàn)對(duì)二維轉(zhuǎn)臺(tái)方位軸系100的承載和定位。將軸承設(shè)置為雙排球結(jié)構(gòu)，大大降低了軸承回轉(zhuǎn)摩擦系數(shù)，并控制軸向游隙為負(fù)游隙，大大提高了軸承的剛度和回轉(zhuǎn)精度，提高了軸承的性能。

以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此，本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。