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半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)及其形成方法與流程

文檔序號(hào):11586937閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),包括邏輯區(qū)域和鄰近邏輯區(qū)域的存儲(chǔ)區(qū)域。存儲(chǔ)區(qū)域包括第N金屬層的第一第N金屬線、位于第一第N金屬線上方的磁性隧道結(jié)(MTJ)和第(N+1)金屬層的第一第(N+1)金屬通孔,第一第(N+1)金屬通孔設(shè)置在MTJ層上方。N為大于或等于1的整數(shù)。本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種用于制造半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的方法。

技術(shù)研發(fā)人員:莊學(xué)理;廖均恒
受保護(hù)的技術(shù)使用者:臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2016.11.18
技術(shù)公布日:2017.08.11
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