本申請要求于2015年11月18日提交至韓國知識產權局的第10-2015-0161726號韓國專利申請的優(yōu)先權及權益，該韓國專利申請的公開內容以其整體通過引用并入本文。

技術領域

一個或者多個實施方式涉及柔性顯示設備。

背景技術：

隨著電子技術的進步，已經開發(fā)了多種類型的顯示設備。具體地，諸如TV、PC、膝上型計算機、平板PC、移動電話和MP3播放器的顯示設備在多數家庭中被使用。為了滿足用戶的最新需求，已經嘗試開發(fā)了柔性顯示設備。由于柔性顯示設備的形狀可在用戶對柔性顯示設備施加力時改變，所以柔性顯示設備可用于多種目的。

然而，柔性顯示設備可能具有低機械耐久性并且可能容易被由用戶施加的力損壞。另外，當使用相對硬或者剛性的材料以提高柔性顯示設備的機械耐久性時，柔性顯示設備的柔性被降低或限制。因此，需要提供在不實質降低柔性顯示設備的柔性的情況下具有提高的機械耐久性的柔性顯示設備。

技術實現要素：

在傳統(tǒng)柔性顯示設備中，應力集中于布置在柔性顯示設備的彎曲區(qū)域處的布線中。

本發(fā)明構思的實施方式的一方面是包括具有較高柔性的彎曲區(qū)域的柔性顯示設備。然而，該方面是示例性的，并且本發(fā)明構思的范圍不限于此。

其它方面在下文的描述中將被部分地闡述，并且通過說明將部分地顯而易見，或可通過呈現的實施方式的實施而被習得。

根據一個或多個實施方式，柔性顯示設備包括：柔性襯底，包括彎曲區(qū)域和非彎曲區(qū)域；以及布線，延伸穿過彎曲區(qū)域。彎曲區(qū)域配置為沿彎曲軸線彎曲，并且布線的在彎曲區(qū)域處的部分包括在布線的寬度方向上凹陷的多個凹陷部。

彎曲軸線可在第一方向上延伸，并且布線可在與第一方向交叉的第二方向上延伸。

第一方向與第二方向可互相垂直。

布線可具有在第二方向上延伸的中心軸線，并且多個凹陷部可在布線的關于中心軸線的兩側。

多個凹陷部可包括在布線的關于中心軸線的一側的多個第一凹陷部和在布線的關于中心軸線的另一側的多個第二凹陷部。第一凹陷部和第二凹陷部可沿第二方向交替排列。

布線可具有第一寬度，并且多個凹陷部中的每個的凹陷深度可小于第一寬度的一半。

多個凹陷部中的每個的寬度可小于多個凹陷部中的每個的凹陷深度。

布線可具有在第二方向上延伸的中心軸線，多個凹陷部可在布線的關于中心軸線的兩側，并且多個凹陷部中的、位于布線的一側的凹陷部中的相鄰凹陷部之間的最小距離可大于多個凹陷部中的每個的凹陷深度的四倍。

布線可具有第一寬度和在第二方向上延伸的中心軸線，多個凹陷部可在布線的關于中心軸線的兩側，并且多個凹陷部中的、在布線的一側的凹陷部中的相鄰凹陷部之間的最小距離可大于第一寬度的兩倍。

多個凹陷部可具有多邊形形狀、橢圓形形狀、圓形形狀、部分多邊形形狀、部分橢圓形形狀、或者部分圓圓形形狀。

柔性顯示設備還可包括配置為感測外部觸摸的傳感器，并且布線可在與傳感器相同的層上。

布線可電連接至傳感器。

布線可位于傳感器的外部。

附圖說明

結合附圖，通過實施方式的以下說明，這些和/或其它方面將變得顯而易見并且更易于理解，在附圖中：

圖1是根據實施方式的柔性顯示設備的平面圖；

圖2是示出根據實施方式的圖1的部分II的放大圖；

圖3是示出根據另一實施方式的圖1的部分II的放大圖；

圖4是示出根據另一實施方式的圖1的部分II的放大圖；

圖5是圖1中示出的像素的剖視圖；

圖6是根據另一實施方式的柔性顯示設備的剖視圖；

圖7是在圖6中示出的觸摸板的平面圖；以及

圖8是示出圖7的部分VIII的放大圖。

具體實施方式

本發(fā)明構思可包括多種實施方式和修改，并且它們的示例性實施方式將在附圖中示出以及將在本文中詳細描述。結合附圖，通過示例性實施方式的以下描述，本發(fā)明構思的方面和特征以及伴隨的本發(fā)明構思的方面和特征的方法將變得顯而易見。然而，本發(fā)明構思不限于以下描述的示例性實施方式并且可以以多種形式實現。

現在將詳細地參考實施方式，實施方式的示例在附圖中示出。在附圖中，相同的元件由相同的附圖標記表示，并且可不重復給出它們的說明。

將理解的是，雖然用語“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各種元件，但是這些元件不應被這些用語限制。這些用語僅用于將一個元件與另一個元件區(qū)分開。如本文中所使用的，除非上下文明確地另有指示，否則單數形式“一(a)”和“一(an)”旨在也包括復數形式。

還將理解的是，本文使用的用語“包括(includes)”、“包括有(including)”、“包括(comprises)”和/或“包括有(comprising)”指定所述特征或組件的存在，但是不排除一個或多個其他特征或組件的存在或添加。將理解的是，當層、區(qū)域或者元件被稱為在另一層、區(qū)域或元件“上”或“形成在”另一層、區(qū)域或元件“上”時，其可直接或者間接地在另一層、區(qū)域或者元件上。例如，也可存在介于中間的層、區(qū)域或者元件。

將理解的是，當元件或者層被稱為在另一元件或層“上”、“連接至”或者“聯接至”另一元件或層時，它可直接在另一元件或層上、連接至或者聯接至其它元件或層，或者也可存在一個或多個介于中間的元件或層。當元件被稱為“直接在”另一元件或層“上”、“直接連接至”或“直接聯接至”另一元件或層時，不存在介于中間的元件或層。例如，當第一元件描述為“聯接”或“連接”至第二元件時，第一元件可直接聯接或者連接至第二元件，或者第一元件可通過一個或多個介于中間的元件間接聯接或連接至第二元件。

此外，在描述本發(fā)明的實施方式時，“可”的使用涉及“本發(fā)明的一個或多個實施方式”。另外，用語“示例性的”旨在表示示例或圖例。如本文中所使用的，用語“使用(use)”、“使用(using)”和“使用的(used)”可被認為分別與用語“利用(utilize)”、“利用(utilizing)”和“利用的(utilized)”同義。

為了便于說明，元件的尺寸可能被夸大。換句話說，因為為了便于說明可能任意地示出附圖中的元件的尺寸和厚度，所以下文的實施方式不限于此。

在下文的示例中，x軸、y軸和z軸不限于直角坐標系的3個軸并且可在更寬泛的意義上理解。例如，x軸、y軸和z軸可互相垂直或者可表示不互相垂直的不同方向。

當某一實施方式可不同地實施時，具體的過程順序可不同于描述的順序。例如，兩個連續(xù)描述的過程可基本上同時(例如，并發(fā)地)執(zhí)行或者可以以與描述的順序相反的順序執(zhí)行。

如本文中所使用的，用語“和/或”包括相關所列項中的一個或多個的任意和全部組合。當諸如“…中的至少一個”的表述在一列元件之后時，修飾整列元件而不修飾該列中的單獨元件。

圖1是根據實施方式的柔性顯示設備的平面圖。圖2是示出根據實施方式的圖1的部分II的放大圖。

參考圖1和圖2，根據實施方式的柔性顯示設備包括柔性襯底100、顯示器200以及布線300，其中，柔性襯底100包括彎曲區(qū)域BA和非彎曲區(qū)域NBA(例如，剛性區(qū)域)，顯示器200布置在柔性襯底100上，布線300包括位于彎曲區(qū)域BA處(例如，延伸進或穿過彎曲區(qū)域BA)的部分。

柔性襯底100可包括具有較高耐熱性和較高耐久性的材料(例如，可由具有較高耐熱性和較高耐久性的材料形成)。例如，柔性襯底100可包括聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PA)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚芳酯(PAR)、聚酰亞胺(PI)、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纖維素、乙酸丙酸纖維素(CAP)、聚(亞芳醚砜)、或它們的組合。然而，本發(fā)明構思不限于此，并且柔性襯底100可包括具有柔性性質的多種其它材料(例如，金屬或玻璃)中的任一種，或可由具有柔性性質的多種其它材料(例如，金屬或玻璃)中的任一種形成。

柔性襯底100可包括彎曲區(qū)域BA和非彎曲區(qū)域NBA。柔性襯底100的彎曲區(qū)域BA可沿彎曲軸線A-A彎曲。雖然在本實施方式中彎曲軸線A-A沿x軸延伸為橫穿顯示器200，但是彎曲軸線(多個彎曲軸線)A-A的位置和數量不限于此，并且可以以多種方式修改柔性襯底100。

柔性襯底100可包括顯示區(qū)域DA和周邊區(qū)域PA，其中，在顯示區(qū)域DA處顯示圖像，周邊區(qū)域PA包圍顯示區(qū)域DA(例如，包圍顯示區(qū)域DA的周邊)。顯示器200可在柔性襯底100的顯示區(qū)域DA處。例如，顯示器200可為液晶顯示器(LCD)或有機發(fā)光顯示器。顯示器200可包括像素PX和向像素PX施加電信號的薄膜晶體管(TFT)。顯示器200的結構將在下文參考圖5進一步地詳細解釋。

布線300可布置在柔性襯底100上以將電信號施加至顯示器200的像素PX或需要電信號的其它組件。因為如上所述柔性襯底100包括可沿彎曲軸線A-A彎曲的彎曲區(qū)域BA，所以布線300可包括位于彎曲區(qū)域BA處(例如，可延伸進或穿過彎曲區(qū)域BA)的部分。例如，圖1的部分II對應于布線300的位于彎曲區(qū)域BA處的部分。另外，雖然在圖1中布線300被設置為向像素PX施加電信號，但是本發(fā)明構思不限于此。布線300可布置在顯示區(qū)域DA的外部的周邊區(qū)域PA處或者可位于用于感測外部觸摸的觸摸板400(參見圖6)上，而不在顯示器200上或顯示器200中。

在當前描述的實施方式中，彎曲區(qū)域BA的彎曲軸線A-A可在第一方向(例如，x軸)上延伸，并且布線300可在第二方向(例如，y軸)上延伸，其中，第二方向與第一方向交叉(例如，相交)。在一個實施方式中，第一方向和第二方向可互相垂直。

當彎曲軸線A-A延伸的方向與布線300延伸的方向互相垂直時，位于彎曲區(qū)域BA處的布線300(例如，布線300的在彎曲區(qū)域BA處的部分)最易受應力損壞。已經進行了很多嘗試以減少施加至位于彎曲區(qū)域BA處的布線300的應力。當增加布線300的寬度以試圖減少施加于其上的應力時，在布線300設置在顯示區(qū)域DA中時開口率可能降低，或者在布線300設置在周邊區(qū)域PA中時邊框的尺寸可能增大。另外，當增加布線300的長度而不時增加布線300的寬度以減少施加于其上的應力時，布線300的電阻增加(例如不可避免地增加)。

因此，在根據實施方式的柔性顯示設備中，位于彎曲區(qū)域BA處的布線300可包括多個凹陷部。因此，位于彎曲區(qū)域BA處的布線300(例如，布線300的一部分)可在不增加邊框的尺寸的同時具有提高的柔性，顯示區(qū)域DA的足夠的開口率被保證，并且布線300的電阻被最小化或不實質增加。

圖2是示出圖1中示出的布線300的位于彎曲區(qū)域BA處的部分的放大圖。參考圖2，位于彎曲區(qū)域BA處的布線300可包括在布線300的寬度方向上凹陷的多個凹陷部。雖然圖2中示出的多個凹陷部具有矩形形狀，但是本發(fā)明構思不限于此。多個凹陷部可具有諸如多邊形、圓形、橢圓形、部分多邊形、部分橢圓形、或者部分圓形的多種形狀。

在布線300所延伸的第二方向上，多個凹陷部可位于布線300的兩側。例如，布線300可具有在第二方向上延伸的中心軸線B-B，并且多個凹陷部可位于布線300的關于中心軸線B-B的兩側。布線300的中心軸線B-B也可與第一方向交叉(例如，相交)。

在當前描述的實施方式中，多個凹陷部可包括第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1。第一凹陷部300a1可位于布線300的、關于沿第二方向延伸的布線300的中心軸線B-B的第一側300a上；以及第二凹陷部300b1可位于布線300的關于中心軸線B-B與第一側300a相對的第二側300b上。第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1可沿第二方向交替設置。例如，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1可例如以之字形圖案沿第二方向交替排列。

因為布線300的在第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個處的寬度減小，所以布線300的在第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個處的電阻可能增大。如果第一凹陷部和第二凹陷部互相對準(例如，形成為在布線的第一側和第二側處互相面對)，則可能進一步減小布線的寬度并且可能進一步增大布線的電阻。因此，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1沿第二方向交替地設置或排列。

另外，圖2示出了布線300的布局。參考圖2，布線300可具有第一寬度w。布線300的寬度可根據布線300的位置和功能而改變。例如，當布線300直接連接至像素PX時，考慮到顯示區(qū)域DA的開口率，布線300可具有較小的寬度，以及當布線300用作位于顯示區(qū)域DA的外部的電極供電線時，布線300可具有較大寬度。

布線300可具有第一寬度w，并且第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a可小于布線300的第一寬度w。在另一實施方式中，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a可小于布線300的第一寬度w的一半。例如，當假設中心軸線B-B位于布線300的中心處時，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a可不穿過(例如，可不延伸穿過)布線300的中心軸線B-B并且可不大于第一寬度w的一半。照此，可不增大或者不過度增大布線300的在第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個處的電阻。

另外，在當前描述的實施方式中，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的寬度b盡可能小以避免或者最小化布線300的電阻的增大。在本實施方式中，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的寬度b小于第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a。因此，當第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個具有如圖2所示的四邊形形狀時，第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1中的每個可具有這樣的四邊形形狀，即，該四邊形形狀具有大于寬度b的凹陷深度a。

另外，在當前描述的實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a1中的相鄰第一凹陷部300a1之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a1中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a1中的相鄰第一凹陷部300a1之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a1中的每個的凹陷深度a的四倍。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a1中的相鄰第一凹陷部300a1之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。

第二凹陷部300b1可以以與上文針對第一凹陷部300a1描述的方式相同或基本上相同的方式形成。

例如，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b1中的相鄰第二凹陷部300b1之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b1中的相鄰第二凹陷部300b1之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b1中的每個的凹陷深度a的四倍。另外，在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b1中的相鄰第二凹陷部300b1之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。照此，可不增大或者不過度增大包括第一凹陷部300a1和第二凹陷部300b1的布線300的電阻。

圖3是示出根據另一實施方式的圖1的部分II的放大圖。圖4是示出根據另一實施方式的圖1的部分II的放大圖。

參考圖1和圖3，布線300可包括在布線300的寬度方向上凹陷的多個凹陷部。雖然在圖3中多個凹陷部具有圓形形狀或橢圓形形狀、或者部分圓形形狀或部分橢圓形形狀，但是本發(fā)明構思不限于此。在其它實施方式中，多個凹陷部可具有多種適合的形狀。

多個凹陷部可在布線300延伸的第二方向上位于布線300的兩側。例如，布線300可具有在第二方向上延伸的中心軸線B-B，并且多個凹陷部可位于布線300的關于中心軸線B-B的兩側。布線300的中心軸線B-B也可如上所述地與第一方向交叉(例如，相交)。

在當前描述的實施方式中，多個凹陷部可包括第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2。第一凹陷部300a2可位于布線300的關于在第二方向上延伸的布線300的中心軸線B-B的第一側300a上，并且第二凹陷部300b2可位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上。第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2可沿第二方向交替設置。例如，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2可例如以之字形圖案交替排列。

因為布線300的在第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個處的寬度減小，所以布線300的在第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個處的電阻可能增大。如果第一凹陷部和第二凹陷部互相對準，那么布線的寬度可能進一步減小并且布線的電阻可能進一步增大。為了減少或者最小化電阻的增加，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2沿第二方向交替地設置或排列。

另外，圖3示出了布線300的布局。參考圖3，布線300可具有第一寬度w。布線300的寬度可根據布線300的位置和功能而改變(例如，自由改變)。例如，當布線300直接連接至像素PX時，考慮到顯示區(qū)域DA的開口率，布線300可具有較小的寬度，并且當布線300用作位于顯示區(qū)域DA外部的電極供電線時，布線300可具有較大寬度。

布線300可具有第一寬度w，并且第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a可小于第一寬度w。在另一實施方式中，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a可小于布線300的第一寬度w的一半。例如，當假設中心軸線B-B位于布線300的中心處時，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a可不穿過(例如，可不延伸穿過或超過)布線300的中心軸線B-B并且可不大于第一寬度w的一半。照此，可減小或防止布線300的在第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個處的電阻過度增加。

另外，在當前描述的實施方式中，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的寬度b盡可能小以減小或避免布線300的電阻的過度增大。在一個實施方式中，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的寬度b小于第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a，并且即使當如圖3所示的，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2形成為具有圓形或者半圓形形狀時，第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2中的每個的寬度b不超過凹陷深度a的兩倍。

另外，在當前描述的實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a2中的相鄰第一凹陷部300a2之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a2中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a2中的相鄰第一凹陷部300a2之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a2中的每個的凹陷深度a的四倍。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a2中的相鄰第一凹陷部300a2之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。

第二凹陷部300b2可以以與上文針對第一凹陷部300a2描述的方式相同或基本上相同的方式形成。例如，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b2中的相鄰第二凹陷部300b2之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b2中的相鄰第二凹陷部300b2之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b2中的每個的凹陷深度a的四倍。另外，在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b2中的相鄰第二凹陷部300b2之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。照此，可不增大或過度增大包括第一凹陷部300a2和第二凹陷部300b2的布線300的電阻。

參考圖1和圖4，位于彎曲區(qū)域BA處的布線300可包括在寬度方向上凹陷的多個凹陷部。雖然在圖4中多個凹陷部具有三角形形狀，但是本發(fā)明構思不限于此。多個凹陷部可具有多種形狀。

多個凹陷部可在布線300延伸的第二方向上位于布線300的兩側。例如，布線300可具有在第二方向上延伸的中心軸線B-B，并且多個凹陷部可位于布線300的關于中心軸線B-B的兩側。布線300的中心軸線B-B也可如上所述地與第一方向交叉(例如，相交)。

在當前描述的實施方式中，多個凹陷部可包括第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3。第一凹陷部300a3可位于布線300的關于在第二方向上延伸的布線300的中心軸線B-B的第一側300a上，并且第二凹陷部300b3可位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上。第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3可沿第二方向交替設置。例如，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3可例如以之字形圖案交替排列。

因為布線300的在第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個處的寬度減小，所以布線300的在第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個處的電阻可能增大。如果第一凹陷部和第二凹陷部互相對準，則可能進一步減小布線的寬度并且可能進一步增大布線的電阻。為了減小或防止布線300中的電阻的過度增大，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3沿第二方向交替設置。

另外，圖4示出了布線300的布局。參考圖4，布線300可具有第一寬度w。布線300的寬度可根據布線300的位置和功能而改變(例如，自由改變)。例如，當布線300直接連接至像素PX時，考慮到顯示區(qū)域DA的開口率，布線300可具有較小的寬度，并且當布線300用作位于顯示區(qū)域DA外部的電極供電線時，布線300可具有較大的寬度。

布線300可具有第一寬度w，并且第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a可小于布線300的第一寬度w。在另一實施方式中，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a可小于布線300的第一寬度w的一半。例如，當假設中心軸線B-B位于布線300的中心處時，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a可不穿過(例如，可不延伸通過或超過)布線300的中心軸線B-B并且可不大于第一寬度w的一半。照此，減小或防止布線300的在第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個處的電阻的過度增大。

另外，在當前描述的實施方式中，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的寬度b盡可能小，以減小布線300的電阻的增大。在一個實施方式中，第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的寬度b小于第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a。

另外，在當前描述的實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a3中的相鄰第一凹陷部300a3之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a3中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a3中的相鄰第一凹陷部300a3之間的最小距離d可大于第一凹陷部300a3中的每個的凹陷深度a的四倍。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第一側300a上的第一凹陷部300a3中的相鄰第一凹陷部300a3之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。

第二凹陷部300b3可以以與上文針對第一凹陷部300a3描述的方式相同或基本上相同的方式形成。例如，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b3中的相鄰第二凹陷部300b3之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b3中的相鄰第二凹陷部300b3之間的最小距離d可大于第二凹陷部300b3中的每個的凹陷深度a的四倍。另外，在另一實施方式中，位于布線300的關于中心軸線B-B的第二側300b上的第二凹陷部300b3中的相鄰第二凹陷部300b3之間的最小距離d可大于布線300的第一寬度w的兩倍。照此，可減小或避免包括第一凹陷部300a3和第二凹陷部300b3的布線300的電阻的增加。

圖5是圖1中示出的像素PX的剖視圖。

參考圖1和圖5，顯示器200可布置在柔性襯底100上并且可包括多個像素PX。顯示器200還可包括TFT和電連接至多個像素PX中的每個的電容器CAP。圖5是顯示器200中包括的像素PX中的一個的剖視圖。例如，顯示器200可為LCD顯示器或有機發(fā)光顯示器。在當前描述的實施方式中，顯示器200是有機發(fā)光顯示器。

包括硅氧化物或硅氮化物(例如，由硅氧化物或硅氮化物形成)的緩沖層201可布置在柔性襯底100上，以使柔性襯底100的表面平坦和/或防止雜質滲進TFT的半導體層202，并且半導體層202可布置在緩沖層201上。

柵電極204布置在半導體層202之上，以及源電極206s和漏電極206d根據施加至柵電極204的信號互相電連通?？紤]到與相鄰層的粘合力、所堆疊的層的表面平坦度和可加工性，柵電極204可形成為具有單層或者可為多層結構，其中，多層結構包括例如鋁(Al)、鉑(Pt)、鈀(Pd)、銀(Ag)、鎂(Mg)、金(Au)、鎳(Ni)、釹(Nd)、銥(Ir)、鉻(Cr)、鋰(Li)、鈣(Ca)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、鎢(W)、和/或銅(Cu)。

包括硅氧化物和/或硅氮化物(例如，由硅氧化物和/或硅氮化物形成)的柵絕緣膜203可布置在半導體層202和柵電極204之間以使半導體層202與柵電極204絕緣。

層間絕緣膜205可布置在柵電極204上并且可形成為具有單層或者可為多層結構，其中，多層結構包括諸如硅氧化物或硅氮化物的材料。

源電極206s和漏電極206d布置在層間絕緣膜205上。源電極206s和漏電極206d通過形成在層間絕緣膜205和柵絕緣膜203中的接觸開口(例如接觸孔)電連接至半導體層202。考慮到導電性，源電極206s和漏電極206d可形成為具有單層或者可為多層結構，其中，多層結構包括例如Al、Pt、Pd、Ag、Mg、Au、Ni、Nd、Ir、Cr、Li、Ca、Mo、Ti、W和/或Cu。

保護膜可布置為覆蓋TFT。保護膜可包括諸如硅氧化物、硅氮化物或硅氮氧化物的無機材料(例如，可由諸如硅氧化物、硅氮化物或硅氮氧化物的無機材料形成)。

第一絕緣膜207可布置在柔性襯底100之上。第一絕緣膜207可為平坦化膜和/或保護膜。當有機發(fā)光器件布置在TFT上時，第一絕緣膜207可基本上使TFT的上表面平坦并且可保護TFT和其它多種器件。第一絕緣膜207可包括例如丙烯酸有機材料或者苯并環(huán)丁烯(BCB)(例如，可由丙烯酸有機材料或者苯并環(huán)丁烯(BCB)形成)。在本實施方式中，如圖5所示，緩沖層201、柵絕緣膜203、層間絕緣膜205和第一絕緣膜207可形成在柔性襯底100的整個表面之上。

第二絕緣膜208可布置在TFT之上。在本實施方式中，第二絕緣膜208可為像素限定膜。第二絕緣膜208可在第一絕緣膜207上并且可具有開口。第二絕緣膜208在柔性襯底100之上限定像素區(qū)域。

第二絕緣膜208可包括(例如，可以是)例如有機絕緣膜。有機絕緣膜可包括丙烯酸類聚合物，例如，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、具有苯酚基團的聚合物衍生物、基于酰亞胺的聚合物、基于芳基醚的聚合物、基于酰胺的聚合物、基于氟的聚合物、基于對二甲苯的聚合物、基于乙烯醇的聚合物，或者它們的混合物。

有機發(fā)光器件240可布置在第二絕緣膜208上。有機發(fā)光器件240可包括像素電極210、中間層220和對電極230，其中，中間層220包括發(fā)射層EML。

像素電極210可為(半)透明電極或反射電極。當像素電極210為(半)透明電極時，像素電極210可包括例如銦錫氧化物(indium tin oxide，ITO)、銦鋅氧化物(indium zinc oxide，IZO)、ZnO、In₂O₃、銦鎵氧化物(indium gallium oxide，IGO)或者鋁鋅氧化物(aluminum zinc oxide，AZO)(例如，可由ITO、IZO、ZnO、In₂O₃、IGO或者AZO形成)。當像素電極210為反射電極時，像素電極210可包括由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或者它們的化合物形成的反射膜，以及由ITO、IZO、ZnO、In₂O₃、IGO或者AZO形成的層。然而，本發(fā)明構思不限于此，并且像素電極210可由多種適合的材料中的任一種形成，并且可具有多種適合的結構中的任一種(例如，單層結構或多層結構)以及可為透明電極。

中間層220可布置在由第二絕緣膜208限定的像素區(qū)域上。中間層220可包括響應于電信號而發(fā)光的發(fā)射層EML，并且還可包括布置在發(fā)射層EML和像素電極210之間的一個或多個空穴注入層(HIL)、空穴傳輸層(HTL)、布置在發(fā)射層EML和對電極230之間的電子傳輸層(ETL)、以及電子注入層(EIL)，其中，HIL、HTL、ETL和EIL可堆疊以形成多層結構。然而，中間層220不限于此并且可具有多種其它適合的結構中的任一種。

對電極230可在柔性襯底100的整個表面之上布置為覆蓋包括發(fā)射層EML的中間層220并且面對像素電極210。對電極230可為(半)透明電極或反射電極。

當對電極230是(半)透明電極時，對電極230可包括由具有低功函數的金屬(例如，Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或者它們的化合物)形成的層以及由ITO、IZO、ZnO或In₂O₃形成的(半)透明導電層。當對電極230是反射電極時，對電極230可包括由Li、Ca、LiF/Ca、LiF/Al、Al、Ag、Mg或者它們的化合物形成的層。然而，對電極230的配置和材料不限于此并且可以以多種適合的方式修改。

圖6是根據另一實施方式的柔性顯示設備的剖視圖。圖7是圖6中示出的觸摸板400的平面圖。

參考圖6，根據另一實施方式的柔性顯示設備包括柔性襯底100、布置在柔性襯底100上的顯示器200、以及布置在顯示器200上的觸摸板400。柔性襯底100和顯示器200與上文描述的相同或基本上相同，并且因此，可不給出它們的重復說明。

觸摸板400可布置在顯示器200上。雖然在圖6中觸摸板400直接布置在顯示器200上，但是諸如濾色器、極化層和/或封蓋層的多種構件或組件中的任一種可布置在顯示器200和觸摸板400之間。觸摸板400可形成為模塊并可布置在顯示器200上或可與顯示器200一體地形成。雖然在當前描述的實施方式中觸摸板400被示出為形成為模塊并且布置在顯示器200上，但是本發(fā)明構思不限于此。

參考圖7，觸摸板400可包括感測外部觸摸的傳感器420和電連接至傳感器420的布線430。傳感器420可位于觸摸板400的中心部分處以形成活動區(qū)。連接至傳感器420并傳送電信號的布線430可位于傳感器420的外部(例如，鄰近于傳感器420)的非活動區(qū)處。雖然在圖7中布線430位于觸摸板400的一側處，但是布線430可位于傳感器420的外部的非活動區(qū)的任意部分處。布線430可通過焊盤450電連接至諸如位置檢測電路的外部驅動電路。

觸摸板400可布置在柔性襯底100之上，并且為了提供柔性顯示設備，觸摸板400可包括彎曲區(qū)域BA和非彎曲區(qū)域NBA。彎曲區(qū)域BA可沿彎曲軸線A-A彎曲。雖然在當前描述的實施方式中彎曲軸線A-A沿x軸延伸以穿過傳感器420，但是彎曲軸線(多個彎曲軸線)A-A的位置和數量可變化或改變。布線430可包括位于彎曲區(qū)域BA處的部分。例如，圖7中的部分VIII與布線430的位于彎曲區(qū)域BA處的部分對應。

在當前描述的實施方式中，彎曲區(qū)域BA的彎曲軸線A-A可在第一方向(例如，x軸)上延伸，并且布線430可在與第一方向交叉(例如，相交)的第二方向(例如，y軸)上延伸。在一個實施方式中，第一方向和第二方向可互相垂直。

當彎曲軸線A-A延伸的方向與布線430延伸的方向互相垂直時，位于彎曲區(qū)域BA處的布線430最易受應力損壞。已經進行了很多嘗試以減少施加至在彎曲區(qū)域BA處的布線430的應力。如果增加布線430的寬度以減少施加至布線430的應力，則邊框尺寸可能增加。另外，如果增加布線430的長度而不是增加寬度來減少施加至布線430的應力，則布線430的電阻增大(例如，不可避免地增大)。

因此，在根據實施方式的柔性顯示設備中，位于彎曲區(qū)域BA處的布線430可包括多個凹陷部。因此，柔性顯示設備包括位于彎曲區(qū)域BA處具有提高的柔性的布線430，同時邊框尺寸的增加被抑制并且布線430的電阻的增大被減少或最小化。

圖8是圖7的部分VIII的放大圖。

參考圖8，位于彎曲區(qū)域BA處的布線430可包括在布線430的寬度方向上凹陷的多個凹陷部。雖然在圖8中多個凹陷部具有矩形形狀，但是本發(fā)明構思不限于此。多個凹陷部可具有諸如多邊形、圓形、橢圓形、部分多邊形、部分橢圓形或部分圓形的多種形狀中的任意一種。

多個凹陷部可在布線430延伸的第二方向上位于布線430的兩側。例如，布線430可具有在第二方向上延伸的中心軸線B-B，并且多個凹陷部可位于布線430的關于中心軸線B-B的兩側。如上所述，布線430的中心軸線B-B也可與第一方向交叉(例如，相交)。

在當前描述的實施方式中，多個凹陷部可包括第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1。第一凹陷部430a1可位于布線430的關于在第二方向上延伸的布線430的中心軸線B-B的第一側430a上，并且第二凹陷部430b1可位于第二側430b上，即，布線430的關于中心軸線B-B的另一側或者相對側。第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1可沿第二方向交替設置。例如，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1可例如以之字形圖案交替排列。

因為布線430的在第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個處的寬度減小，所以布線430的在第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個處的電阻可能增大。如果第一凹陷部和第二凹陷部互相對準，則可能進一步減少布線的寬度并且可能進一步增大布線的電阻。然而，為了防止過度減少布線430的寬度以及布線430的電阻的相應過度增大，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1沿第二方向交替設置。

另外，圖8示出了布線430的布局。參考圖8，布線430可具有第一寬度w。布線430的寬度可根據布線430的位置和功能改變。

布線430可具有第一寬度w，并且第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個可具有凹陷深度a，其中，凹陷深度a可小于布線430的第一寬度w。在另一實施方式中，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個的凹陷深度a可小于布線430的第一寬度w的一半。例如，當假設中心軸線B-B位于布線430的中心處時，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個的凹陷深度a可不穿過布線430的中心軸線B-B并且可不大于第一寬度w的一半。照此，可減少或防止由于減小布線430在布線430的第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個處的寬度而引起的電阻的過度增加。

另外，在當前描述的實施方式中，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個的寬度b盡可能小以減少或防止布線430的電阻的增加。在一個實施方式中，第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個的寬度b小于第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1中的每個的凹陷深度a。

另外，在當前描述的實施方式中，位于布線430的關于中心軸線B-B的第一側430a上的第一凹陷部430a1中的相鄰第一凹陷部430a1之間的最小距離d可大于第一凹陷部430a1中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線430的關于中心軸線B-B的第一側430a上的第一凹陷部430a1中的相鄰第一凹陷部430a1之間的最小距離d可大于第一凹陷部430a1中的每個的凹陷深度a的四倍。在另一實施方式中，位于布線430的關于中心軸線B-B的第一側430a上的第一凹陷部430a1中的相鄰第一凹陷部430a1之間的最小距離d可大于布線430的第一寬度w的兩倍。

第二凹陷部430b1可以以與上文針對第一凹陷部430a1描述的方式相同或基本上相同的方式形成。例如，位于布線430的關于中心軸線B-B的第二側430b上的第二凹陷部430b1中的相鄰第二凹陷部430b1之間的最小距離d可大于第二凹陷部430b1中的每個的凹陷深度a。在另一實施方式中，位于布線430的關于中心軸線B-B的第二側430b上的第二凹陷部430b1中的相鄰第二凹陷部430b1之間的最小距離d可大于第二凹陷部430b1中的每個的凹陷深度a的四倍。另外，在另一實施方式中，位于布線430的關于中心軸線B-B的第二側430b上的第二凹陷部430b1中的相鄰第二凹陷部430b1之間的最小距離d可大于布線430的第一寬度w的兩倍。照此，可減少或避免包括第一凹陷部430a1和第二凹陷部430b1的布線430的電阻的增大。

根據一個或多個實施方式，可提供包括高柔性彎曲區(qū)域的柔性顯示裝置。然而，本發(fā)明構思的范圍不由該方面限制或不限于該方面。

雖然已經參考附圖描述了一個或多個實施方式，但是本領域普通技術人員將理解，在不背離由所附權利要求及其等同限定的精神和范圍的情形下，可在形式和細節(jié)上對其做出多種改變。