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OLED顯示器的制作方法

文檔序號:12614510閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種OLED顯示器,其特征在于,包括襯底基板(100)、設(shè)于所述襯底基板(100)上的TFT陣列層(200)、設(shè)于所述TFT陣列層(200)上的OLED層(300)、及設(shè)于所述TFT陣列層(200)及OLED層(300)上且覆蓋所述OLED層(300)的薄膜封裝層(400);

所述薄膜封裝層(400)包括無機鈍化層(401)、有機緩沖層(402)、及水氧淬滅層(403);所述薄膜封裝層(400)中,無機鈍化層(401)和有機緩沖層(402)交替層疊設(shè)置,且無機鈍化層(401)比有機緩沖層(402)在層數(shù)上多一層,所述無機鈍化層(401)和有機緩沖層(402)共同構(gòu)成層疊結(jié)構(gòu);

所述水氧淬滅層(403)為第一水氧淬滅層(4031)、第二水氧淬滅層(4032)、或兩者的組合,其中,所述第一水氧淬滅層(4031)設(shè)于所述OLED層(300)上,位于所述層疊結(jié)構(gòu)與OLED層(300)之間,所述第二水氧淬滅層(4032)設(shè)于所述層疊結(jié)構(gòu)之中,位于兩層無機鈍化層(401)之間。

2.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示器,其特征在于,具有位于中央的顯示區(qū)域、及位于顯示區(qū)域四周的非顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域具有數(shù)個陣列排布的子像素區(qū)域、及剩余的間隔區(qū)域;

所述第一水氧淬滅層(4031)包括環(huán)狀的外圍部、及位于環(huán)狀的外圍部內(nèi)的中心部,所述外圍部對應(yīng)所述非顯示區(qū)域設(shè)置,所述中心部分布于所述顯示區(qū)域內(nèi)的間隔區(qū)域,所述中心部為對應(yīng)所述間隔區(qū)域的呈網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的整體、或者為分布于間隔區(qū)域的數(shù)個淬滅個體的組合。

3.如權(quán)利要求2所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第一水氧淬滅層(4031)的材料為堿金屬、堿土金屬、或者兩者的合金。

4.如權(quán)利要求3所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第一水氧淬滅層(4031)的材料為Li、Na、K、Ru、Cs、Mg、Ca、及Ba中的一種或多種的合金。

5.如權(quán)利要求2所述的OLED顯示器,其特征在于,所述淬滅個體的形狀為圓形、矩形、或L字形;

每一淬滅個體對應(yīng)于一個、或者多個子像素區(qū)域,或者每一個子像素區(qū)域?qū)?yīng)于多個淬滅個體。

6.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示器,其特征在于,第一水氧淬滅層(4031)、及第二水氧淬滅層(4032)的厚度均為5nm-100nm。

7.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第二水氧淬滅層(4032)位于一層無機鈍化層(401)和一層有機緩沖層(402)之間,所述第二水氧淬滅層(4032)的上、下兩表面分別與該有機緩沖層(402)、及該無機鈍化層(401)相接觸;所述第二水氧淬滅層(4032)的材料為具有透光性、及吸濕性的物理吸附材料。

8.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第二水氧淬滅層(4032)位于一層無機鈍化層(401)和一層有機緩沖層(402)之間,所述第二水氧淬滅層(4032)的上、下兩表面分別與該無機鈍化層(401)、及該有機緩沖層(402)相接觸;所述第二水氧淬滅層(4032)的材料為具有透光性、及吸濕性的物理吸附材料。

9.如權(quán)利要求1所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第二水氧淬滅層(4032)為具有透光性、及吸濕性的物理吸附材料均勻分散于有機材料中所形成的膜層,所述第二水氧淬滅層(4032)同時作為有機緩沖層(402)。

10.如權(quán)利要求9所述的OLED顯示器,其特征在于,所述第二水氧淬滅層(4032)為顆粒狀的物理吸附材料均勻分散于有機材料中所形成的膜層。

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