本發(fā)明涉及半導(dǎo)體裝置。
背景技術(shù):
以往,已知有將載置有半導(dǎo)體芯片等的絕緣基板組裝于由樹脂等形成的殼體部而成的半導(dǎo)體裝置(例如,參照專利文獻(xiàn)1~3)。絕緣基板嵌入并粘接到設(shè)置于殼體部的背面的孔部。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2013-258321號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2004-6905號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本特開2000-133769號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
技術(shù)問題
在半導(dǎo)體裝置中,優(yōu)選絕緣基板與殼體部的粘接可靠性高。
技術(shù)方案
在本發(fā)明的第一方式中,提供一種半導(dǎo)體裝置,具備:絕緣基板,其載置半導(dǎo)體芯片;和殼體部,其粘接于絕緣基板。殼體部可以具有凹部,所述凹部設(shè)置有粘接劑,且供絕緣基板的正面?zhèn)炔迦?。絕緣基板在沿著厚度方向的側(cè)面中,可以具有形成于正面?zhèn)鹊恼齻?cè)切口部和形成于背面?zhèn)鹊谋硞?cè)切口部。正側(cè)切口部與背側(cè)切口部之間的頂點(diǎn)與絕緣基板的正面的在厚度方向的長(zhǎng)度可以為殼體部的凹部的在厚度方向的長(zhǎng)度的30%以上且70%以下。
在厚度方向上,正側(cè)切口部可以比背側(cè)切口部短。正側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度可以與背側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度相同。正側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度可以比背側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度小。
正側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度可以為15度以上且30度以下。背側(cè)切口部相對(duì)于厚度方向的角度可以為20度以上且50度以下。
正側(cè)切口部的在正面的端部與背側(cè)切口部的在背面的端部相比,可以設(shè)置在絕緣基板中更靠近外側(cè)的位置。正側(cè)切口部的在正面的寬度可以為背側(cè)切口部的在背面的寬度的一半以下。
半導(dǎo)體裝置可以進(jìn)一步具備設(shè)置于絕緣基板的正面的導(dǎo)電圖案。正側(cè)切口部的在正面的寬度可以比正側(cè)切口部的在正面的端部與導(dǎo)電圖案的距離小。正側(cè)切口部的在正面的寬度可以為正側(cè)切口部的在正面的端部與導(dǎo)電圖案的距離的1/10以下。
在凹部中,與絕緣基板的側(cè)面對(duì)置的側(cè)壁相對(duì)于厚度方向,可以與正側(cè)切口部朝著相同的一側(cè)傾斜。凹部的側(cè)壁可以與正側(cè)切口部大致平行。
應(yīng)予說明,上述的發(fā)明內(nèi)容未列舉本發(fā)明的所有特征。另外,這些特征群的再組合也可作為本發(fā)明。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置100的概要的立體圖。
圖2是表示圖1中示出的a-a截面的一個(gè)例子的圖。
圖3是將第一實(shí)施例的半導(dǎo)體裝置100的截面中的絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。
圖4是將絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。
圖5是將第二實(shí)施例的半導(dǎo)體裝置100的截面中的絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。
圖6是表示絕緣基板30的加工方法的一個(gè)例子的圖。
圖7是表示絕緣基板30的正面的另一例的圖。
圖8是表示第一比較例的圖。
圖9是表示第二比較例的圖。
符號(hào)說明
10:殼體部
11:內(nèi)部空間
12:蓋部
13:對(duì)置面
14:主端子
16:副端子
18:封裝材料
20:凹部
22:半導(dǎo)體芯片
24:粘接劑
26:側(cè)壁
30:絕緣基板
31:端部
32:金屬板
33:端部
34:絕緣層
36:導(dǎo)電圖案
38:頂點(diǎn)
40:背側(cè)切口部
42:正側(cè)切口部
44:中間部
50:正面
52:背面
54:貫通部
56:殘留部
100:半導(dǎo)體裝置
110:殼體部
120:凹部
124:粘接劑
130:絕緣基板
132:金屬板
134:絕緣層
136:導(dǎo)電圖案
138:頂點(diǎn)
140:背側(cè)切口部
142:正側(cè)切口部
具體實(shí)施方式
以下,通過發(fā)明的實(shí)施方式說明本發(fā)明,但以下的實(shí)施方式不限定與權(quán)利要求相關(guān)的發(fā)明。另外,實(shí)施方式中說明的特征的所有組合并不限定為解決本發(fā)明的技術(shù)問題所必需的。
圖1是表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的半導(dǎo)體裝置100的概要的立體圖。半導(dǎo)體裝置100具備殼體部10和蓋部12。殼體部10在內(nèi)部收容半導(dǎo)體芯片等電子部件。殼體部10可以具有由樹脂等形成的框結(jié)構(gòu)。在殼體部10所包圍的空間內(nèi)填充有凝膠等封裝材料。蓋部12被設(shè)置為覆蓋殼體部10所包圍的空間的上部。蓋部12可以用粘接劑固定于殼體部10。
在殼體部10的上表面設(shè)有與殼體部10所收容的電子部件連接的多個(gè)主端子14和多個(gè)副端子16。電子部件包括igbt(insulatedgatebipolartransistor:絕緣柵雙極型晶體管)等功率設(shè)備。主端子14例如像igbt的發(fā)射極端子或集電極端子那樣,與有大電流流通的端子連接。另外,副端子16例如像igbt的柵極端子那樣,與不流通大電流的控制端子連接。
圖2是表示圖1中示出的a-a截面的一個(gè)例子的圖。在圖2中,示意地示出各部件,圖2中的各部件的比例尺與圖1中示出的各部件的比例尺不一致。另外,在圖2中,示出半導(dǎo)體裝置100的背面附近的截面,省略蓋部12、主端子14和副端子16。
半導(dǎo)體裝置100還具備粘接于殼體部10的絕緣基板30。絕緣基板30的正面?zhèn)炔迦氲皆O(shè)置于殼體部10的背面的凹部20的內(nèi)部。應(yīng)予說明,在本說明書中,將蓋部12側(cè)的半導(dǎo)體裝置100的面稱為正面,將絕緣基板30側(cè)的面稱為背面。另外,在絕緣基板30等各部件中,也將蓋部12側(cè)的面稱為正面,將相反側(cè)的面稱為背面。
凹部20與殼體部10的內(nèi)部空間11連續(xù)形成。使插入到凹部20中的絕緣基板30的正面的至少一部分從內(nèi)部空間11露出。在露出于內(nèi)部空間11的絕緣基板30的正面載置有半導(dǎo)體芯片22等電子部件。殼體部10的內(nèi)部空間11用凝膠等封裝材料18密封。
絕緣基板30具有金屬板32和以覆蓋金屬板32的正面的方式設(shè)置的絕緣層34。金屬板32由鋁或銅等金屬形成。金屬板32對(duì)由收容于殼體部10的內(nèi)部的半導(dǎo)體芯片22等產(chǎn)生的熱進(jìn)行散熱。絕緣層34由加入了導(dǎo)電性填料的有機(jī)絕緣材料和/或氧化鋁等陶瓷形成,對(duì)金屬板32的正面進(jìn)行絕緣。
在絕緣層34的正面形成有導(dǎo)電圖案36。導(dǎo)電圖案36由銅等金屬形成,具有規(guī)定的布線圖案。在導(dǎo)電圖案36的正面載置有半導(dǎo)體芯片22等電子部件。導(dǎo)電圖案36和電子部件可以具有與圖1中示出的主端子14和副端子16連接的端子。
插入于凹部20的絕緣基板30通過粘接劑24粘接于殼體部10。將本例的粘接劑24在插入絕緣基板30之前預(yù)先設(shè)置到凹部20,在絕緣基板30插入到凹部20之后,通過加熱等進(jìn)行固化。
絕緣基板30具有沿著厚度方向的側(cè)面。該側(cè)面是指絕緣基板30中的正面與背面之間的面。在絕緣基板30的側(cè)面設(shè)有形成于絕緣基板30的正面?zhèn)鹊恼齻?cè)切口部42和形成于絕緣基板30的背面?zhèn)鹊谋硞?cè)切口部40。
正側(cè)切口部42在絕緣基板30的側(cè)面中具有從正面切割了規(guī)定的范圍而成的形狀。絕緣基板30在正側(cè)切口部42的側(cè)面相對(duì)于絕緣基板30的厚度方向傾斜地形成。該斜面以越接近絕緣基板30的正面,越切入到絕緣基板30的內(nèi)側(cè)的方式設(shè)置。本例的正側(cè)切口部42以遍及整個(gè)絕緣層34和金屬板32的正面?zhèn)鹊囊徊糠值膮^(qū)域的方式形成。
背側(cè)切口部40在絕緣基板30的側(cè)面中具有從背面切割了規(guī)定的范圍而成的形狀。絕緣基板30在背側(cè)切口部40的側(cè)面相對(duì)于絕緣基板30的厚度方向傾斜地形成。該斜面以越接近絕緣基板30的背面,越切入到絕緣基板30的內(nèi)側(cè)的方式設(shè)置。
在絕緣基板30的側(cè)面,在正側(cè)切口部42與背側(cè)切口部40之間形成有頂點(diǎn)38。頂點(diǎn)38例如是指在側(cè)面中外側(cè)最突出的點(diǎn)。另外,頂點(diǎn)38還可以稱為正側(cè)切口部42和背側(cè)切口部40交叉的點(diǎn)。
正側(cè)切口部42的在絕緣基板30的正面的端部設(shè)置在比頂點(diǎn)38更靠近絕緣基板30的內(nèi)側(cè)的位置。同樣地,背側(cè)切口部40的在絕緣基板30的背面的端部設(shè)置在比頂點(diǎn)38更靠近絕緣基板30的內(nèi)側(cè)的位置。
通過絕緣基板30具有背側(cè)切口部40,從而能夠在頂點(diǎn)38的下側(cè)擴(kuò)展絕緣基板30與殼體部10之間的空間。另外,通過絕緣基板30具有正側(cè)切口部42,從而能夠在頂點(diǎn)38的上側(cè)擴(kuò)展絕緣基板30與殼體部10之間的空間。
因此,能夠在絕緣基板30與殼體部10之間較多地設(shè)置粘接劑24,能夠提高絕緣基板30與殼體部10之間的粘接可靠性。換言之,由于絕緣基板30與殼體部10的粘接面積增大,所以即使在反復(fù)施加熱應(yīng)力的情況下,也能夠抑制在粘接劑24產(chǎn)生裂紋。特別是,能夠提高對(duì)于在絕緣基板30的厚度方向上的熱收縮應(yīng)力的耐力。另外,由于在頂點(diǎn)38的上下方向形成粘接劑24來支撐絕緣基板30,所以能夠抑制絕緣基板30從凹部20脫落。
(第一實(shí)施例)
圖3是將第一實(shí)施例的半導(dǎo)體裝置100的截面中的絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。在圖3中,省略粘接劑24和封裝材料18。在本例中,將用最短距離連接絕緣基板30的正面和背面的方向稱為厚度方向。
在厚度方向上,將頂點(diǎn)38與絕緣基板30的正面之間的長(zhǎng)度記為h1,將頂點(diǎn)38與絕緣基板30的背面之間的長(zhǎng)度記為h2,將凹部20的長(zhǎng)度記為h3。凹部20具有與絕緣基板30的正面對(duì)置的對(duì)置面13。凹部20的長(zhǎng)度可以是從殼體部10的背面到對(duì)置面13的長(zhǎng)度。優(yōu)選h1為h3的30%以上且70%以下。h1可以為h3的40%以上且60%以下。
應(yīng)予說明,絕緣基板30的正面與殼體部10之間的粘接劑24的厚度與h1和h3相比足夠小。因此,在h1為h3的30%以上且70%以下的情況下,頂點(diǎn)38位于凹部20在厚度方向上的中央附近。通過這樣的構(gòu)成,能夠在頂點(diǎn)38的上側(cè)和下側(cè)這兩側(cè)配置足夠的粘接劑24。
另外,在厚度方向上,正側(cè)切口部42可以比背側(cè)切口部40短。在圖3的例子中,正側(cè)切口部42的長(zhǎng)度與h1相等,背側(cè)切口部40的長(zhǎng)度與h2相等。由此,可以在使絕緣基板30的背面?zhèn)葟臍んw部10突出的同時(shí),使頂點(diǎn)38配置于凹部20的中央附近。通過使絕緣基板30的背面?zhèn)韧怀?,能夠使絕緣基板30的背面與散熱片等容易地接觸。
另外,優(yōu)選背側(cè)切口部40的一半以上插入到凹部20的內(nèi)部。換言之,優(yōu)選h3-h1≥h2/2。由此,能夠確保背側(cè)切口部40與凹部20之間的空間。
另外,在厚度方向上,在正側(cè)切口部42比背側(cè)切口部40短的情況下,正側(cè)切口部42相對(duì)于厚度方向的角度θ1與背側(cè)切口部40相對(duì)于厚度方向的角度θ2可以相同。由此,可以使正側(cè)切口部42的在絕緣基板30的正面的寬度w1比背側(cè)切口部40的在絕緣基板30的背面的寬度w2小。由此,能夠提高絕緣基板30的粘接可靠性,并且能夠增大正側(cè)切口部42的在絕緣基板30的正面的端部與導(dǎo)電圖案36的端部的爬電距離w3。因此,能夠增大導(dǎo)電圖案36與金屬板32之間的耐壓。
另外,正側(cè)切口部42相對(duì)于厚度方向的角度θ1可以比背側(cè)切口部40相對(duì)于厚度方向的角度θ2小。此時(shí),可以進(jìn)一步使正側(cè)切口部42的寬度w1比背側(cè)切口部40的寬度w2小,進(jìn)一步增大爬電距離w3。
更具體而言,正側(cè)切口部42相對(duì)于厚度方向的角度θ1可以為15度以上且30度以下。另外,背側(cè)切口部40相對(duì)于厚度方向的角度θ2可以為20度以上且50度以下。然而,如上所述,優(yōu)選θ1小于等于θ2。
另外,正側(cè)切口部42的在正面的端部31與背側(cè)切口部40的在背面的端部33相比,設(shè)置在更靠近絕緣基板30的外側(cè)的位置。絕緣基板30的外側(cè)是指在與絕緣基板30的厚度方向垂直的面內(nèi),與絕緣基板30的中心的距離更大的一側(cè)。
應(yīng)予說明,正側(cè)切口部42的在絕緣基板30的正面的寬度w1可以為背側(cè)切口部40的在絕緣基板30的背面的寬度w2的一半以下。由此,能夠提高絕緣基板30與殼體部10的粘接可靠性,并且能夠增大爬電距離w3。
正側(cè)切口部42在正面的寬度w1比正側(cè)切口部42的在絕緣基板30的正面的端部31與導(dǎo)電圖案36的爬電距離w3足夠小。由此,能夠抑制由于設(shè)置正側(cè)切口部42而導(dǎo)致的爬電距離w3的減少。例如,優(yōu)選正側(cè)切口部在正面的寬度w1為上述的爬電距離w3的1/10以下。
圖4是將絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。本例的絕緣基板30在側(cè)面具有正側(cè)切口部42與背側(cè)切口部40之間的中間部44。中間部44的相對(duì)于絕緣基板30的厚度方向的角度與正側(cè)切口部42和背側(cè)切口部40中的任一個(gè)都不同。中間部44的至少一部分與絕緣基板30的厚度方向大致平行。
此時(shí),絕緣基板30的側(cè)面中的頂點(diǎn)38是指延長(zhǎng)正側(cè)切口部42而得的面與延長(zhǎng)背側(cè)切口部40而得的面交叉的點(diǎn)。應(yīng)予說明,絕緣基板30的在各個(gè)切口部中的側(cè)面具有平面形狀,但根據(jù)切口部的加工精度,也認(rèn)為存在在各個(gè)切口部的端部中,絕緣基板30的側(cè)面不形成為平面形狀的情況。此時(shí),在從絕緣基板30的正面50觀察正側(cè)切口部42的情況下,延長(zhǎng)正側(cè)切口部42時(shí)的傾斜可以使用最初檢測(cè)到的第一直線部分的傾斜。同樣地,在從絕緣基板30的背面52觀察背側(cè)切口部40的情況下,延長(zhǎng)背側(cè)切口部40時(shí)的傾斜可以使用最初檢測(cè)到的第二直線部分的傾斜。頂點(diǎn)38可以為第一直線部分與第二直線部分的交點(diǎn)。
在本例中,將絕緣基板30的厚度方向的正側(cè)切口部42的長(zhǎng)度記為ha,將中間部44的長(zhǎng)度記為hb,將背側(cè)切口部40的長(zhǎng)度記為hc。hc可以比ha大。hc可以比ha與hb的和大。ha可以與hb相等。
作為一個(gè)例子,絕緣基板30的厚度為1mm以上且2.2mm以下。絕緣層34的厚度為80μm以上且160μm以下。hc為0.6mm以上且1.4mm以下。ha和hb均為0.2mm以上且0.4mm以下。
(第二實(shí)施例)
圖5是將第二實(shí)施例的半導(dǎo)體裝置100的截面中的絕緣基板30的側(cè)面附近放大而得的圖。在第一實(shí)施例中,殼體部10的凹部20中的與絕緣基板30的側(cè)面對(duì)置的側(cè)壁被設(shè)置為與絕緣基板30的厚度方向平行。在第二實(shí)施例中,凹部20的側(cè)壁26相對(duì)于絕緣基板30的厚度方向,與正側(cè)切口部42朝著相同的一側(cè)傾斜。
換言之,側(cè)壁26以隨著朝向殼體部10的背面?zhèn)龋疾?0的開口面積變大的方式傾斜。作為一個(gè)例子,凹部20的側(cè)壁與正側(cè)切口部42大致平行地傾斜。這里的大致平行是指傾斜之差在±10度以內(nèi)的狀態(tài)。
通過這樣的構(gòu)成,能夠?qū)⒔^緣基板30容易地插入到凹部20的規(guī)定的位置。另外,由于能夠在與背側(cè)切口部40對(duì)置的區(qū)域較多地配置粘接劑24,從而也能夠提高粘接可靠性。
圖6是表示絕緣基板30的加工方法的一個(gè)例子的圖。圖6的上部分表示絕緣基板30的截面,下部分表示絕緣基板30的正面。首先,準(zhǔn)備具有與多個(gè)絕緣基板30相應(yīng)的面積的基底基板。在圖6中,僅示出2個(gè)絕緣基板30,但也可以由1個(gè)基底基板制造更多的絕緣基板30。
基底基板具有金屬板和絕緣層。在基底基板的規(guī)定的位置形成導(dǎo)電圖案36。另外,以包圍與絕緣基板30對(duì)應(yīng)的區(qū)域的方式在基底基板的正面形成正側(cè)切口部42,在背面形成背側(cè)切口部40。
此時(shí),以正側(cè)切口部42和背側(cè)切口部40不貫通基底基板的方式在正側(cè)切口部42與背側(cè)切口部40之間設(shè)置殘留部56。殘留部56與圖4中示出的中間部44對(duì)應(yīng)。并且,通過沿著正側(cè)切口部42和背側(cè)切口部40分割基底基板而制造多個(gè)絕緣基板30。
圖7是表示絕緣基板30的正面的另一例的圖。本例的絕緣基板30具有矩形形狀。然而,絕緣基板30在矩形的邊緣部具有多個(gè)貫通部54。各個(gè)貫通部54以從正面至背面貫通絕緣基板30的邊緣部的方式成為切口。
通過設(shè)置貫通部54,從而在將絕緣基板30插入到殼體部10的凹部20的情況下,能夠使預(yù)先配置于凹部20的內(nèi)部的粘接劑24容易地蔓延到與背側(cè)切口部40對(duì)置的區(qū)域。由此,能夠進(jìn)一步提高絕緣基板30與殼體部10的粘接可靠性。
(第一比較例)
圖8是表示第一比較例的圖。第一比較例具有殼體部110和絕緣基板130。在殼體部110的背面設(shè)有凹部120。在凹部120的內(nèi)部設(shè)有粘接劑124。
絕緣基板130具有金屬板132和絕緣層134。在絕緣層134上形成有導(dǎo)電圖案136。應(yīng)予說明,本例的絕緣基板130的側(cè)面與絕緣基板130的厚度方向平行。因此,難以增加粘接劑124的量。
也考慮到通過使凹部120的開口面積比絕緣基板130的外形大,從而使粘接劑124的量增大的情況,但此時(shí),絕緣基板130在凹部120中的位置偏差增大。另外,由于絕緣基板130的側(cè)面不具有頂點(diǎn),所以絕緣基板130易于從凹部120脫落。
(第二比較例)
圖9是表示第二比較例的圖。在本例中,在絕緣基板130的側(cè)面具有正側(cè)切口部142、頂點(diǎn)138和背側(cè)切口部140。其中,頂點(diǎn)138位于凹部120的近下端。
在本例中,背側(cè)切口部140的大部分從凹部120突出。因此,難以在與背側(cè)切口部140對(duì)置的區(qū)域設(shè)置粘接劑124,絕緣基板130與殼體部110的粘接可靠性劣化。
另外,正側(cè)切口部142與背側(cè)切口部140的大小幾乎相同。因此,導(dǎo)電圖案136與金屬板132的爬電距離變小,耐壓劣化。
對(duì)于這些比較例,根據(jù)第一實(shí)施例和第二實(shí)施例的半導(dǎo)體裝置100,能夠提高絕緣基板30與殼體部10的粘接可靠性。另外,能夠抑制導(dǎo)電圖案36與金屬板32的爬電距離的減少。
以上,使用實(shí)施方式說明了本發(fā)明,但本發(fā)明的技術(shù)的范圍并不限于上述實(shí)施方式中記載的范圍。對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行各種變更或改良對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言也是顯而易見的。根據(jù)權(quán)利要求書的記載可知其進(jìn)行了各種變更或改良的方式也包括在本發(fā)明的技術(shù)方案內(nèi)。