技術特征：

技術總結
一種外延用基材的制造方法，包括：于一基板上設置一緩沖層，該緩沖層為使用原子層沉積工藝形成多個層疊的氮化物層所構成。該緩沖層也可由疊置的至少一第一次緩沖層與至少一第二次緩沖層所構成，其中，第一次緩沖層為使用原子層沉積工藝形成多個層疊的第一氮化物層所構成，第二次緩沖層為使用原子層沉積工藝形成多個層疊的第二氮化物層。在制作緩沖層的步驟中，于形成每一層氮化物層、第一氮化物層或第二氮化物層后，后續(xù)進行離子轟擊。借此，基板及緩沖層形成外延用基材，且有效提升緩沖層的結晶程度。

技術研發(fā)人員：陳敏璋;莊詠荃;施奐宇;施英汝;徐文慶
受保護的技術使用者：環(huán)球晶圓股份有限公司;陳敏璋
技術研發(fā)日：2016.10.13
技術公布日：2017.08.11