1.一種腔室部件，所述腔室部件包括：
主體，所述主體包括第一材料；
設(shè)置在所述第一材料上的第二材料，所述第二材料具有限定所述腔室部件的內(nèi)部表面的暴露的表面；以及
磨損表面，所述磨損表面設(shè)置在所述第二材料的所述暴露的表面之下的磨損深度處。
2.如權(quán)利要求1所述的部件，其中，所述磨損表面包括第三材料，所述第三材料具有不同于所述第一材料和所述第二材料組分的組分。
3.如權(quán)利要求2所述的部件，其中，所述主體包括等離子體腔室的部件。
4.如權(quán)利要求3所述的部件，其中，所述第三材料包括多個納米顆粒，所述納米顆粒是可檢測的以提供所述部件的正性光學的和/或化學的識別。
5.如權(quán)利要求2所述的部件，其中，所述磨損表面設(shè)置在所述第二材料內(nèi)。
6.如權(quán)利要求2所述的部件，其中，所述第三材料包括納米顆粒。
7.如權(quán)利要求6所述的部件，其中，所述納米顆粒被分散在大約1％至大約10％的所述磨損表面上。
8.如權(quán)利要求6所述的部件，其中，所述納米顆粒包含無機材料。
9.如權(quán)利要求2所述的部件，其中，所述第一材料和所述第二材料是相同的。
10.如權(quán)利要求2所述的部件，其中，所述第一材料和所述第二材料是不同的。
11.如權(quán)利要求1所述的部件，進一步包括：
多個磨損表面，所述多個磨損表面設(shè)置在所述第二材料的表面之下的相應(yīng)磨損深度處，其中，所述磨損表面各自包括不同于所述第一材料或所述第二材料的第三材料。
12.如權(quán)利要求11所述的部件，其中，所述第三材料包括納米顆粒層。
13.如權(quán)利要求12所述的部件，其中，用于每個所述磨損表面的所述納米顆粒層是相同的。
14.如權(quán)利要求12所述的部件，其中，用于每個所述磨損表面的所述納米顆粒層是不同的。
15.一種腔室部件，所述腔室部件包括：
主體，所述主體包括第一材料和設(shè)置在所述第一材料上的第二材料；以及
磨損表面，所述磨損表面設(shè)置在所述第二材料內(nèi)的磨損深度處，所述磨損表面包括多個納米顆粒，所述納米顆粒具有不同于所述第一材料和所述第二材料組分的組分。
16.如權(quán)利要求15所述的部件，其中，所述主體包括氣體分配板、支撐環(huán)、聚焦環(huán)、支撐主體、對準環(huán)或基板支撐件。
17.如權(quán)利要求15所述的部件，其中，所述納米顆粒的所述組分是可檢測的以提供所述部件的正性光學的和/或化學的識別。
18.如權(quán)利要求15所述的部件，其中，所述第一材料和所述第二材料是不同的。
19.如權(quán)利要求15所述的部件，其中，所述納米顆粒被分散在大約1％至大約10％的所述磨損表面上。
20.如權(quán)利要求15所述的部件，其中，所述納米顆粒包括無機材料。