本發(fā)明涉及用于OLED顯示器的封裝結(jié)構(gòu)體，其中所述結(jié)構(gòu)體對氧氣和濕氣提供充足的阻擋性能以及提供抗反射性能。所述結(jié)構(gòu)體包括含光對準物質(zhì)的層，所述光對準物質(zhì)以協(xié)同方式控制阻擋和抗反射這兩種性能。發(fā)明背景市場上已經(jīng)確立了有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器作為尤其用于移動應(yīng)用例如智能手機的仍然占主導的液晶顯示器(LCDs)的替代品。LCDs的缺點是從背光單元中發(fā)出的約2/3的光被濾光器陣列中的紅、綠和藍色區(qū)域吸收。由于在OLED顯示器內(nèi)所需的紅、綠和藍光可在相應(yīng)的亞像素內(nèi)直接生成，因此，不必濾掉任何光以微調(diào)光譜的發(fā)射曲線。與連續(xù)改進有源OLED材料的發(fā)光效率一起，OLED顯示器最終可比LCDs亮，這可能是一個決定性的優(yōu)點，尤其對于戶外應(yīng)用來說，其中從顯示器中發(fā)出的光必須與明亮的太陽光競爭。遺憾的是，在OLED顯示器的金屬陽極層處環(huán)境光線的反射會降低對比度和因此可讀性。為了減少光反射，OLED顯示器配有圓形偏振片，圓形偏振片將入射的環(huán)境光線轉(zhuǎn)化成圓形偏振光，一旦在金屬陽極層處反射，則它被圓形偏振片吸收。典型地，圓形偏振片包括線性偏振片和四分之一波片，其中四分之一波片的慢軸相對于線性偏振片的吸收軸呈45°。其中四分之一波延遲片箔被層壓在偏振片箔上的圓形偏振片多年來是可商購的。這種圓形偏振片可施加在OLED器件之上。由于有源OLED材料對濕氣和氧氣高度敏感，因此OLED器件必須合適地封裝。玻璃封裝非常有效，但發(fā)脆、增加重量與厚度，且沒有提供高的機械撓性。因此，期望包括含一層或多層阻擋層的阻擋層疊件的薄膜封裝。典型地，阻擋層疊件包括至少一層有機層和一層無機層。US'2013/0032830A1公開了一種偏振箔，其包括波片、線性偏振板和一個或兩個阻擋層疊件。通過在偏振箔和OLED基底之間插入粘合劑層，將引入圓形偏振和阻擋功能的箔固定到含OLED基體的基底上。由于具有所需的光學功能，因此，四分之一波片必須在OLED器件和線性偏振板之間。阻擋層疊件可以是在OLED基底和四分之一波片之間或者相對于四分之一波片在線性偏振板的對側(cè)上。該箔也可包括兩個阻擋層疊件，其中之一位于OLED基底和四分之一波片之間，及另一個位于四分之一波片和線性偏振板之間。偏振板是在兩個TAC(三乙酰基纖維素)膜之間含PVA層的標準PVA偏振器片材。四分之一波片是與卷對卷制造工藝相容的撓性箔。在偏振片和四分之一波延遲片膜的標準卷對卷制造工藝中，偏振片的吸收軸和延遲片膜的慢軸二者與網(wǎng)幅移動方向呈縱向或者橫向。因此，在慢軸和偏振軸的方向之間要求45°角的圓形偏振片的制造并不允許在簡單的卷對卷工藝中層壓這兩種膜，而是要求額外的切割和對準步驟。也可通過在具有能取向液晶的表面的基底上涂布液晶單體層，實現(xiàn)光延遲片膜。在液晶單體被取向之后，它們可以聚合或交聯(lián)，以便硬化該材料。這種層也稱為液晶聚合物(LCP)層。US'6717'644公開了通過在基底上光對準材料的薄層而取向的可交聯(lián)的液晶。由于需要薄而輕質(zhì)的移動器件以及高的生產(chǎn)量，因此需要用于OLED顯示器的封裝結(jié)構(gòu)體，其具有抗反射性能，但與從現(xiàn)有技術(shù)中獲得的封裝結(jié)構(gòu)體相比，它比較薄且生產(chǎn)不那么復雜。發(fā)明概述因此，本發(fā)明涉及用于OLED顯示器的封裝結(jié)構(gòu)體，它滿足以上提及的需求，以及涉及這種封裝結(jié)構(gòu)體的制造方法。該方法涉及使用專門設(shè)計的材料。本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu)體包括線性偏振層、無機層、含光對準物質(zhì)的層和LCP層，其中由于與光對準物質(zhì)接觸導致在LCP層內(nèi)產(chǎn)生液晶取向。在現(xiàn)有技術(shù)中使用的術(shù)語“阻擋層疊件”的含義中，含光取向物質(zhì)的層和無機層是阻擋層疊件的一部分。含光對準物質(zhì)的層可包括一種或多種額外的物質(zhì)，這些額外的物質(zhì)可以是可光對準的。優(yōu)選地，含光對準物質(zhì)的層包括不可光對準的一種或多種物質(zhì)。在通常的意義上，這些物質(zhì)不應(yīng)當是溶劑。優(yōu)選地，不可光對準物質(zhì)的重量與不可光對準物質(zhì)加上可光對準物質(zhì)的重量之和的比為高于10％，更優(yōu)選高于30％和最優(yōu)選高于70％。一種或多種物質(zhì)優(yōu)選是支持封裝結(jié)構(gòu)體的阻擋性能的有機材料。為了改進阻擋性能，含光對準物質(zhì)的層可以是數(shù)微米厚。它的優(yōu)點是，下面的層的缺陷可以被完全覆蓋，和因此缺陷不會轉(zhuǎn)移到含光對準物質(zhì)的層的上側(cè)上。因此，含光對準物質(zhì)的較厚層可以在基底或額外的層(例如無機層)之上用作偏振層。當然，也可通過增加LCP層的厚度來改進本發(fā)明的層疊件的阻擋性能。然而，LCP層的厚度改變光學性能，尤其是延遲性能，所述延遲性能典型地必須設(shè)定為某一數(shù)值。因此，幾乎不可能使用LCP的厚度來優(yōu)化阻擋性能。由于光對準物質(zhì)的主要目的是將對準信息轉(zhuǎn)移到LCP層上，因此不要求光對準物質(zhì)沿著該層的厚度方向均勻地分布。因此，光對準物質(zhì)的用量與其他化合物的用量之比優(yōu)選沿著該層的厚度方向變化，這意味著沿著厚度方向存在光對準物質(zhì)的濃度梯度。優(yōu)選地，在與LCP層接觸的一面處光對準物質(zhì)的濃度高于該層的中間處。若合適地選擇材料，則由含光對準物質(zhì)的層、LCP層和無機層組成的阻擋層疊件可對濕氣和氧氣具有充足的阻擋性能。在這一情況下，可以不要求改進阻擋性能的進一步的層。然而，取決于待封裝的OLED顯示器的技術(shù)規(guī)格，可能需要添加額外的無機和/或有機層以實現(xiàn)所要求的阻擋性能。線性偏振層可以是偏振箔，所述偏振箔可用作封裝結(jié)構(gòu)體的基底或者可與含具有光對準物質(zhì)的層和LCP層的層疊件一起層壓。也可在額外的工藝步驟中，例如通過涂布并對準具有偏振性能的材料，例如含各向異性吸收分子的材料，從而生成偏振層。優(yōu)選地，各向異性吸收分子是包埋在液晶基體內(nèi)的二色性染料。本發(fā)明還涉及制造引入抗反射性能的封裝OLED顯示器的方法，其中施加本發(fā)明的結(jié)構(gòu)體到OLED顯示器器件上。附圖簡述通過附圖進一步闡述本發(fā)明。要強調(diào)的是，各種特征并不必然按照比例畫出。圖1描繪了在基底上的封裝結(jié)構(gòu)體，其中在圖1a至1d中，在不同位置處排列無機層3。圖1e和1f是圖1a結(jié)構(gòu)體的優(yōu)選實施方案，其在圖1e中在偏振層以下具有額外的粘合劑層和在圖1f中在的偏振層以下具有對準層。圖2描繪了一種封裝結(jié)構(gòu)體，其中偏振膜6用作基底。在圖2a至2c中，無機層3在不同位置處排列。圖3示出了在OLED器件上的封裝結(jié)構(gòu)體的實施方案。在圖3a至3c中，無機層3在不同位置處排列。圖3d是圖3a結(jié)構(gòu)體的優(yōu)選實施方案，它在偏振層下方具有額外的對準層。圖4示出了包括在OLED器件上施加的額外基底的封裝結(jié)構(gòu)體的實施方案。在圖4a至4d中，無機層3在不同位置處排列。圖5描繪了在OLED基體上的封裝結(jié)構(gòu)體的實施方案，它可來自于施加圖2的封裝結(jié)構(gòu)體到OLED基體上。圖6示出了一個實施方案的實例，其中一層或多層被側(cè)面結(jié)構(gòu)體化，和整體結(jié)構(gòu)體被無機層覆蓋，以防止側(cè)漏。圖7示出了含81個鈣正方形的Ca-試驗基底的封裝結(jié)構(gòu)體的照片。圖8示出了在60℃和90％相對濕度下儲存885小時之后，在Ca-試驗基底上三種不同的封裝結(jié)構(gòu)體的照片。發(fā)明詳述根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供用于OLED顯示器的封裝結(jié)構(gòu)體，它對氧氣和濕氣提供充足的阻擋性能以及提供抗反射性能。本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu)體包括線性偏振層、無機層、含光對準物質(zhì)的層和LCP層，其中由于與含光對準物質(zhì)的層接觸導致在LCP層內(nèi)產(chǎn)生液晶取向。含光對準物質(zhì)的層在阻擋層疊件內(nèi)具有有機層的功能。例如，它可用作偏振層，該偏振層減少針孔的出現(xiàn)。優(yōu)選地，含光對準物質(zhì)的層的厚度大于100nm，更優(yōu)選大于500nm，和最優(yōu)選大于5μm。引入抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體的總厚度優(yōu)選小于50μm，更優(yōu)選小于20μm和最優(yōu)選小于10μm。優(yōu)選地，在本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu)體中，無機層、含光對準物質(zhì)的層和LCP層以及在這些層之間的任何層的總厚度小于60μm，更優(yōu)選小于40μm，和最優(yōu)選小于30μm?？梢砸箢~外的無機和/或有機層以實現(xiàn)充足的阻擋性能且不在以上提及的層之間，所述額外的無機和/或有機層在計算無機層、含光對準物質(zhì)的層和LCP層的總厚度中不予考慮。為避免疑問，具有抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體用于OLED顯示器和因此以上提及的層是用于OLED顯示器的封裝結(jié)構(gòu)體的一部分，不是有源OLED結(jié)構(gòu)體的一部分。特別地，封裝結(jié)構(gòu)體中的無機層不是OLED顯示器的電極，和在OLED電極之間的其他層應(yīng)當不被視為本發(fā)明封裝結(jié)構(gòu)體的層。同樣，玻璃基底不應(yīng)當被視為本發(fā)明封裝結(jié)構(gòu)體的無機層。在本申請的上下文中，“可光對準物質(zhì)”是其中一旦暴露于對準光下時可誘導各向異性性能的材料。類似地，“可光對準層”是其中一旦暴露于對準光下時可誘導各向異性性能的層。另外，使用術(shù)語“光對準物質(zhì)”和“光對準層”分別是指通過暴露于對準光下已對準的可光對準物質(zhì)和光對準層。對于本發(fā)明來說，誘導的各向異性必須使得它提供用于液晶材料的對準能力。術(shù)語“對準方向”應(yīng)當是指其中與光對準層接觸的液晶將被對準的方向。在本申請的上下文中，術(shù)語“對準光”應(yīng)當是指在可光對準物質(zhì)內(nèi)可誘導各向異性且至少部分線性或橢圓偏振和/或以傾斜的方向入射到可光對準物質(zhì)表面上的光。優(yōu)選地，對準光以大于5:1的偏振度線性偏振。取決于可對準物質(zhì)的光敏度，選擇對準光的波長，強度和能量。典型地，波長在UV-A、UV-B和/或UV-C范圍內(nèi)或者在可見光范圍內(nèi)。優(yōu)選地，對準光包括波長小于450nm的光。更優(yōu)選對準光包括波長小于420nm的光。若對準光線性偏振，則對準光的偏振面應(yīng)當是指由對準光的傳播方向和偏振方向定義的平面。在對準光橢圓偏振的情況下，偏振面應(yīng)當是指由該光的傳播方向和偏振橢圓的主軸定義的平面?？赏ㄟ^任何合適的方法施加含可光對準物質(zhì)的層。合適的涂布方法例如是旋涂，刮涂，刮刀式涂布，吻輥涂布，流延涂布，縫口涂布，壓延涂布，模壓涂布，浸漬，刷涂，用棒流延，輥涂，流涂，漆包線涂布，噴涂，浸涂，轉(zhuǎn)盤涂布，階式涂布，幕涂，氣刀式涂布，間隙涂布，旋轉(zhuǎn)篩，逆輥涂，照相凹版式涂布，Meyer棒涂布，狹縫模(擠出)涂布，熱熔涂布，輥涂，柔性板涂布。合適的印刷方法包括：絲網(wǎng)印刷，凸版印刷，例如柔性版印刷，噴墨印刷，凹版印刷，例如直接凹版印刷或凹版膠印，平版印刷，例如膠印，或鏤模印刷，例如絲網(wǎng)印刷。優(yōu)選地，含可光對準物質(zhì)的層包括吸氣劑材料。優(yōu)選地，吸氣劑材料是親水的且包括任何金屬，金屬氧化物，準金屬，準金屬氧化物，金屬碳化物，準金屬碳化物，金屬鹵化物，金屬鹽，金屬高氯酸鹽，金屬氮化物，準金屬氮化物，金屬氧氮化物，準金屬氧氮化物，金屬氧硼化物，或準金屬氧硼化物顆粒，沸石，硅膠，活性氧化鋁和活性炭。優(yōu)選地，吸氣劑材料包括氧化物顆粒，優(yōu)選堿土金屬氧化物顆粒，優(yōu)選氧化鈣(CaO)或氧化鋇(BaO)或氧化鎂(MgO)。優(yōu)選地，吸氣劑材料為納米顆粒形式。吸氣劑顆粒的尺寸可以是1-1000nm。然而，優(yōu)選的是平均粒徑小于300nm，和更優(yōu)選小于200nm。進一步優(yōu)選平均粒徑為10O-250nm，和最優(yōu)選150-200nm。在本申請上下文中所使用的液晶聚合物(LCP)材料應(yīng)當是指含液晶單體和/或液晶低聚物和/或液晶聚合物和/或交聯(lián)液晶的液晶材料。在液晶材料包括液晶單體的情況下，典型地因與光對準物質(zhì)接觸導致在LCP材料內(nèi)產(chǎn)生各向異性之后可聚合這種單體?？赏ㄟ^熱處理或者通過暴露于光化光(它優(yōu)選包括UV光)下，引發(fā)聚合。LCP-材料可由單一類型的液晶化合物組成，但也可包括額外的可聚合和/或不可聚合的化合物，其中并非所有化合物必須具有液晶性能。進一步地，LCP材料可含有添加劑，例如光引發(fā)劑或各向同性或各向異性熒光和/或非熒光染料。優(yōu)選地，LCP材料包括吸氣劑材料。優(yōu)選地，吸氣劑材料是親水的且包括任何金屬，金屬氧化物，準金屬，準金屬氧化物，金屬碳化物，準金屬碳化物，金屬鹵化物，金屬鹽，金屬高氯酸鹽，金屬氮化物，準金屬氮化物，金屬氧氮化物，準金屬氧氮化物，金屬氧硼化物或準金屬氧硼化物顆粒，沸石，硅膠，活性氧化鋁和活性炭。優(yōu)選地，吸氣劑材料包括氧化物顆粒，優(yōu)選堿土金屬氧化物顆粒，優(yōu)選氧化鈣(CaO)或氧化鋇(BaO)或氧化鎂(MgO)。優(yōu)選地，吸氣劑材料為納米顆粒形式。吸氣劑顆粒的尺寸可以是1-1000nm。然而，優(yōu)選的是平均粒徑小于300nm，和更優(yōu)選小于200nm。進一步優(yōu)選平均粒徑為10O-250nm，和最優(yōu)選150-200nm。含光對準物質(zhì)的層也可包括聚合的對準LCP分子。由于對準的LCP-分子的雙折射導致含光對準物質(zhì)的層還充當光延遲片。優(yōu)選地，對于可見光譜光的至少一個波長來說，含光對準物質(zhì)的層充當四分之一波延遲片。在后一情況下，含光對準物質(zhì)的層還具有LCP層的功能，這意味著不要求單獨的LCP層。在本申請的上下文內(nèi)，術(shù)語“可聚合”和“聚合的”應(yīng)當分別包括“可交聯(lián)”和“交聯(lián)的”的含義。同樣，“聚合”應(yīng)當包括“交聯(lián)”的含義。圖1示出了本發(fā)明的含基底2的封裝結(jié)構(gòu)體的不同實施方案。該基底可以是例如撓性箔，優(yōu)選聚合物箔或薄膜玻璃。該基底優(yōu)選光學各向同性。在圖1a中，無機層3在基底之上，接著是含可光對準物質(zhì)的層4，所述含可光對準物質(zhì)的層4被光對準且用于對準聚合的液晶層5中的液晶。進一步地，偏振層6排列在液晶層上方。圖1b至1d是圖1a的備選實施方案，其中與圖1a的實施方案的唯一區(qū)別是無機層3的位置。在圖1b的實施方案中，無機層在液晶層和偏振層之間。在圖1c中，無機層在偏振層上方，這意味著在液晶層的對面。在圖1d中，相對于層4、5和6，無機層排列在基底的對面。當然，圖1a至1d的任何組合是可能的，這意味著該封裝結(jié)構(gòu)體可包括大于一層無機層，所述無機層可排列在圖1a至1d所指位置處。例如，封裝結(jié)構(gòu)體可包括四層無機層，其中一層無機層在基底2和含可光對準物質(zhì)的層4之間，如圖1a中一樣；第二無機層可排列在液晶層5和偏振層6之間，如圖1b中一樣；第三無機層可排列在偏振層6上方，如圖1c中一樣，和第四無機層可位于基底2下方，如圖1d中一樣。優(yōu)選地，在圖1a，1c或1d的實施方案中，在液晶層5和偏振層之間具有粘合劑層，或者在圖1b的實施方案中，在無機層3和偏振層之間具有粘合劑層。偏振層可以是偏振箔，優(yōu)選含聚乙烯醇層的偏振箔，它可夾在兩層聚合物膜例如TAC(三醋酸纖維素)膜之間。這種偏振片卷對卷地生產(chǎn)，且可以層壓在LCP層之上(在圖1a，1c和1d的實施方案中)或者層壓在圖1b的無機層上。然而，可在LCP層和偏振片或無機層和偏振片之間分別具有額外的層，例如硬涂層，使得偏振片并不必然分別層壓在LCP或無機層上。為了層壓，粘合劑層可與偏振器片材接觸。圖1e描繪了對應(yīng)于圖1a實施方案的一個實例，其中粘合劑層9在LCP層5和偏振器片材6之間。優(yōu)選地，可涂布的偏振片用作偏振層6?？赏坎嫉钠衿湫偷匕ㄔ谥黧w材料內(nèi)溶解的各向異性吸收分子，例如碳納米管或二色性染料?？赏ㄟ^不同方法，例如在施加到基底上之中或之后剪切該材料，或者通過施加可涂布的偏振片材料到具有對準能力的表面(例如具有被刷涂、光對準或者具有各向異性表面結(jié)構(gòu)體的表面)的基底上，從而進行可涂布偏振片的對準。優(yōu)選地，可涂布的偏振片材料包括可聚合的液晶和二色性染料。為了生成偏振層，優(yōu)選使用含可光對準物質(zhì)的額外層，在光對準之后，它提供具有對準能力的表面，并在其頂部上涂布含可聚合液晶和二色性染料的組合物。圖1f示出了對應(yīng)于圖1a的實施方案的一個實例，其中含可光對準物質(zhì)的額外層8與由可涂布的偏振材料制成的偏振層接觸。優(yōu)選地，可涂布的偏振材料包括吸氣劑材料。優(yōu)選地，吸氣劑材料是親水的且包括任何金屬，金屬氧化物，準金屬，準金屬氧化物，金屬碳化物，準金屬碳化物，金屬鹵化物，金屬鹽，金屬高氯酸鹽，金屬氮化物，準金屬氮化物，金屬氧氮化物，準金屬氧氮化物，金屬氧硼化物或準金屬氧硼化物顆粒，沸石，硅膠，活性氧化鋁和活性炭。優(yōu)選地，吸氣劑材料包括氧化物顆粒，優(yōu)選堿土金屬氧化物顆粒，優(yōu)選氧化鈣(CaO)或氧化鋇(BaO)或氧化鎂(MgO)。優(yōu)選地，吸氣劑材料為納米顆粒形式。吸氣劑顆粒的尺寸可以是1至1000nm。然而，優(yōu)選的是平均粒徑小于300nm，和更優(yōu)選小于200nm。進一步優(yōu)選平均粒徑為10O-250nm，和最優(yōu)選150-200nm。取決于可涂布的偏振片材料的吸收性能，可生成比標準片材偏振器顯著更薄的涂布的偏振片。優(yōu)選地，涂布的偏振片的厚度小于10μm，更優(yōu)選小于5μm，和最優(yōu)選小于2μm。圖2示出了其中偏振層6用作基底的實施方案。優(yōu)選地，該偏振層是撓性片材偏振器，其包括像以上所述的那樣的一種或多種聚合物膜。在圖2a中，含可光對準物質(zhì)的層4在偏振層上排列，接著是聚合的液晶層5。無機層3排列在與偏振層一面相對的液晶層上。與2a相比，圖2b和2c的實施方案的差別也是無機層3的位置，它可以是在偏振層6和液晶層4之間(圖2b)或者在偏振層下方，這意味著在液晶層的對面上(圖2c)。正如針對圖1的實施方案所討論的，圖2a至2c的任何組合是可能的，這意味著該封裝結(jié)構(gòu)體可包括大于一層無機層，它可排列在圖2a至2c所指的位置處。圖3示出了施加到含OLED基體的器件7上的封裝結(jié)構(gòu)體的不同實施方案。例如，不同層可相繼地施加到OLED器件上。因此，含可光對準物質(zhì)的層4在OLED器件7和聚合的液晶層5之間。偏振層6在與OLED器件相對的液晶層的一面上。一層或多層無機層3可以排列在OLED基體7和含可光對準物質(zhì)的層4之間(圖3a)和/或在液晶層5和偏振層6(圖3b)之間和/或在液晶層的對面上的偏振層上方(圖3c)。優(yōu)選地，偏振層是以上所述的涂布的偏振片。圖3d描繪了對應(yīng)于圖3a的一個實例，其中含可光對準物質(zhì)的額外的層8與由可涂布的偏振材料制成的偏振層接觸。圖3d的封裝結(jié)構(gòu)體可以非常薄，因為在沒有額外基底的情況下，所有層可相繼地在OLED器件上施加。由于每一層在數(shù)微米范圍內(nèi)，因此引入抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體的總厚度可以小于20μm或者甚至小于10μm。圖4示出了封裝的OLED顯示器的實施方案，其中施加圖1a至1d的封裝結(jié)構(gòu)體到OLED器件7上(圖4a至4d)。粘合劑層可以在OLED器件和封裝結(jié)構(gòu)體之間。在優(yōu)選的實施方案中，偏振層是在結(jié)構(gòu)體的頂部上層壓的箔。如上針對圖1e的實施方案所描述的，粘合劑層可以在偏振箔以下。在另一優(yōu)選的實施方案中，偏振層由可涂布的偏振片材料(優(yōu)選含可聚合的液晶和二色性染料)制成。優(yōu)選地，如以上針對圖1f中所討論的，通過偏振層下方的含可光對準物質(zhì)的額外層，對準這種可涂布的偏振片。圖5示出了封裝的OLED顯示器的實施方案，其中將圖2a至2c的封裝結(jié)構(gòu)體施加到OLED器件7上(圖5a至5c)，使得液晶層5在OLED器件和偏振層之間。粘合劑層在OLED器件和封裝結(jié)構(gòu)體之間。本發(fā)明引入抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體的進一步的優(yōu)點是，一層或多層可容易地側(cè)面結(jié)構(gòu)體化。例如，這可例如通過印刷方法，例如膠印或噴墨，或者通過物理或化學氣相沉積，以所需的形狀和位置局部沉積各單獨的層來進行?；蛘撸梢晳?yīng)用需要在較大區(qū)域內(nèi)施加各層和隨后在非所需區(qū)域內(nèi)除去該層內(nèi)的材料。這可通過本領(lǐng)域公知的不同方法來進行，其中包括照相-平版印刷方法。由于本發(fā)明的大多數(shù)層包括可聚合的化合物，因此除去非所需材料的優(yōu)選方法是通過僅僅局部聚合所需區(qū)域內(nèi)的層中的材料，尤其通過局部uv-輻照，和隨后例如使用合適的溶劑除去所需區(qū)域外部的非聚合的材料。通過側(cè)面結(jié)構(gòu)體化本發(fā)明的薄層，可通過防止經(jīng)層的邊緣的側(cè)漏，來增加抗氧氣和濕氣性。圖6示出了封裝的OLED顯示器的實例，其中含OLED基體的OLED器件7用無機層3完全覆蓋。然而，含可光對準物質(zhì)的第一和第二層4和8，液晶層5和偏振層6被側(cè)面結(jié)構(gòu)體化并覆蓋較小區(qū)域的OLED器件，尤其是OLED基體的區(qū)域。在整體結(jié)構(gòu)體上沉積的無機層1不僅在與OLED基體平行的大的表面積上而且在每一層的邊緣處充當阻擋層。因此，圖7中的所有層可對阻擋性能做出協(xié)同貢獻。顯而易見的是，生產(chǎn)具有現(xiàn)有技術(shù)的片材延遲器和偏振片的類似層的結(jié)構(gòu)體更加復雜，且可預期采用現(xiàn)有技術(shù)的延遲片和偏振片，通過添加例如使片材延遲器和偏振片的表面光滑的額外的層，僅僅可實現(xiàn)本發(fā)明的封裝結(jié)構(gòu)體的阻擋性能，這也會增加額外的工藝步驟。在圖1至6中彼此相鄰畫出的層可以直接接觸。然而，同樣可能的是，額外的層可排列在任何一對封裝結(jié)構(gòu)體層之間，除了在含可光對準物質(zhì)的層4和液晶層5之間以及除了在含可光對準物質(zhì)的額外的層8和偏振層6之間之外。可通過真空沉積技術(shù)，例如物理或化學氣相沉積，其中包括等離子體增強和等離子體輔助的化學氣相沉積，濺射和電子束物理氣相沉積，施加無機層。無機層可包括單一的無機材料或者兩種或更多種無機材料的組合物。可施加的無機材料的實例是金屬或半導體氧化物，例如氧化鋁，氧化硅和氧化錫銦，金屬或半導體氮化物，例如氮化硼和氮化硅，或金屬或半導體氧氮化物，例如氧氮化鋁或氧氮化硅。優(yōu)選的是含SixOy，SixNy或AlxOy的無機層，特別優(yōu)選氮化硅(SixNy)。所述組合物可以是化學計量的或者不是化學計量的。無機層的厚度典型地為1-1000nm。優(yōu)選地，該厚度為10-500nm，更優(yōu)選為50-300nm，和最優(yōu)選100-250nm。對于可見光譜光的至少一個波長來說，液晶層5優(yōu)選充當四分之一波延遲片。由于液晶材料具有強的雙折射，因此，液晶四分之一波延遲片層的厚度典型地為0.4-3μm，這取決于液晶材料的光學各向異性。優(yōu)選地，液晶層充當消色延遲片。當使用不具有消色性能的液晶材料時，可通過在封裝結(jié)構(gòu)體內(nèi)添加還充當延遲片的第二液晶層，實現(xiàn)消色延遲。優(yōu)選地，第二延遲片層的光軸方向不同于第一延遲片層的光軸方向。通過合適地設(shè)計兩層液晶延遲片層的厚度和光軸方向，可實現(xiàn)消色延遲片性能。優(yōu)選地，通過含可光對準物質(zhì)的另一層來對準第二液晶層。本發(fā)明的進一步的優(yōu)點是，液晶層可具有取向圖案。這可通過在不同方向上選擇性光對準含可光對準物質(zhì)的層的不同區(qū)域來進行。通過液晶層來改變所生成的對準圖案，因此形成具有區(qū)域性不同光軸方向的構(gòu)圖延遲片。由于光對準工藝具有高分辨率，因此各單獨的區(qū)域可能非常小，例如比人眼可分辨的要小。因此該圖案可以用于編碼可能或者不可能被人眼看到(尤其用于被光電系統(tǒng)識別)的任何種類的信息。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供制造引入抗反射性能的封裝的OLED顯示器的方法，該方法包括下述步驟：-在基底上生成OLED顯示器器件，-用提供抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體封裝OLED器件，所述結(jié)構(gòu)體包括無機層、含光對準物質(zhì)的層、與含光對準物質(zhì)的層接觸的液晶聚合物層和線性偏振層，使得液晶聚合物層在OLED器件和偏振層之間。在本發(fā)明的優(yōu)選實施方案中，在獨立的基底，例如圖1和2中描繪的結(jié)構(gòu)體上制造封裝結(jié)構(gòu)體，和隨后施加到OLED器件上，這導致封裝的OLED器件，例如像圖4和5中描繪的實施方案那樣。優(yōu)選地，通過層壓，將所述結(jié)構(gòu)體施加到OLED器件上。粘合劑層可以在OLED器件和封裝的層疊件之間。優(yōu)選地，單獨的基底是撓性的，例如撓性箔，優(yōu)選聚合物箔或薄膜玻璃。優(yōu)選地，單獨的基底是偏振箔。在本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方案中，封裝結(jié)構(gòu)體所要求的各單獨的層相繼地沉積在OLED器件上，使得該封裝結(jié)構(gòu)體在OLED器件上直接形成。或者，可在OLED器件和其他層上通過層壓直接沉積一層或多層。例如，可在OLED器件上形成無機層,含光對準物質(zhì)的層和液晶聚合物層，同時通過層壓偏振箔，施加偏振層。將含可光對準物質(zhì)的層暴露于所需偏振方向的對準光下，以便對準可光對準物質(zhì)的分子?？赏ㄟ^涂布、印刷或流延合適的材料，生成含可光對準物質(zhì)的層?？稍谳d體的全部區(qū)域上或者僅僅在它的一部分上施加該材料。合適的方法包括旋涂，刮涂，刮刀式涂布，吻輥涂布，流延涂布，縫口涂布，壓延涂布，模壓涂布，浸漬，刷涂，用棒流延，輥涂，流涂，注塑，漆包線涂布，噴涂，浸涂，轉(zhuǎn)盤涂布，階式涂布，幕涂，氣刀式涂布，間隙涂布，旋轉(zhuǎn)篩，逆輥涂，照相凹版式涂布，Meyer棒涂布，狹縫模(擠出)涂布，熱熔涂布，輥涂，柔性板涂布，絲網(wǎng)印刷機，凸版印刷，例如柔性版印刷，噴墨印刷，3D-打印，凹版印刷，例如直接凹版印刷或凹版膠印，平版印刷，例如膠印，或鏤模印刷，例如絲網(wǎng)印刷。為了比較容易地沉積，可在溶劑中稀釋該材料?？稍谡４髿鈮合禄蛘咴谡婵諚l件下進行材料的沉積。在后一情況下，優(yōu)選該材料不包括溶劑。還優(yōu)選無溶劑的組合物，因為應(yīng)用蒸發(fā)溶劑或者固化的加熱步驟不可能與上述組合物在其上涂布的層結(jié)構(gòu)體相容，尤其若所述組合物涂布在含OLED結(jié)構(gòu)體的組裝件上的話。另外，溶劑本身可能破壞在由所述組合物制造的層下方的層結(jié)構(gòu)體中的材料。優(yōu)選地，該材料組合物包括至少一種可光對準物質(zhì)和至少一種額外的物質(zhì)，其中如此選擇該物質(zhì)，以至于在載體上用該材料形成的層內(nèi)可能發(fā)生相分離，使得至少一種可光對準物質(zhì)的濃度在接近于與載體相對的表面處要高于在該層本體內(nèi)。優(yōu)選地，含可光對準物質(zhì)的材料包括可聚合但不可光對準的一種或多種物質(zhì)。優(yōu)選地，可聚合但不可光對準物質(zhì)的重量與可聚合但不可光對準物質(zhì)和可光對準物質(zhì)的重量之和的比值高于10％，更優(yōu)選高于30％，和最優(yōu)選高于70％。由于具有額外的可聚合物質(zhì)，因此上述方法可包括額外的步驟，其中在由含可光對準物質(zhì)的材料生成的層內(nèi)引發(fā)這種物質(zhì)的聚合。優(yōu)選地，通過暴露于光化光下，引發(fā)聚合。聚合步驟因此可以在將該層暴露于對準光下的步驟之前，之后或者同時。在該方法的優(yōu)選實施方案中，使用對準光來對準可光對準物質(zhì)，并引發(fā)額外的可聚合物質(zhì)的聚合。在另一優(yōu)選的實施方案中，其中聚合額外物質(zhì)的步驟在將含可光對準物質(zhì)的層暴露于對準光下的步驟之后。優(yōu)選地，在將該層暴露于對準光下期間，環(huán)境氛圍包括氧氣。優(yōu)選地，與在聚合額外物質(zhì)過程中的自然氧氣含量相比，減少環(huán)境氛圍內(nèi)的氧氣量。更優(yōu)選，在惰性氛圍或真空內(nèi)進行額外物質(zhì)的聚合。優(yōu)選地，引發(fā)額外的非可光對準物質(zhì)聚合所使用的光的波長范圍不同于引發(fā)可光對準物質(zhì)的光對準所使用的對準光的波長范圍。其優(yōu)點是，可通過光的波長，獨立地解決引發(fā)額外物質(zhì)的聚合并因光對準而產(chǎn)生各向異性。將含液晶聚合物材料的層施加到光對準層的頂部上。在液晶材料合適地適應(yīng)了光對準層提供的對準方向之后，可聚合液晶材料的聚合被引發(fā)。優(yōu)選地，選擇LCP層的參數(shù)，使得四分之一波延遲片導致對所需波長來說有效。更優(yōu)選LCP層是消色的并且對于大多數(shù)可見波長范圍來說提供基本上四分之一波延遲。優(yōu)選地，LCP材料包括吸氣劑材料。優(yōu)選吸氣劑材料是親水的且包括任何金屬，金屬氧化物，準金屬，準金屬氧化物，金屬碳化物，準金屬碳化物，金屬鹵化物，金屬鹽，金屬高氯酸鹽，金屬氮化物，準金屬氮化物，金屬氧氮化物，準金屬氧氮化物，金屬氧硼化物，或準金屬氧硼化物顆粒，沸石，硅膠，活性氧化鋁和活性炭。優(yōu)選地，吸氣劑材料包括氧化物顆粒，優(yōu)選堿土金屬氧化物顆粒，優(yōu)選氧化鈣(CaO)或氧化鋇(BaO)或氧化鎂(MgO)。優(yōu)選地，吸氣劑材料為納米顆粒形式。吸氣劑顆粒的尺寸可以是1-1000nm。然而，優(yōu)選的是平均粒徑小于300nm，和更優(yōu)選小于200nm。進一步優(yōu)選平均粒徑為10O-250nm，和最優(yōu)選150-200nm?？赏ㄟ^涂布和/或印刷，在有或無溶劑情況下施加LCP材料，且可在含光對準物質(zhì)的層的全部區(qū)域上或者僅僅在它的一部分上施加LCP材料?？衫缤ㄟ^印刷、涂布或流延方法，施加LCP材料，所述方法包括但不限于旋涂，刮涂，刮刀式涂布，吻輥涂布，流延涂布，縫口涂布，壓延涂布，模壓涂布，浸漬，刷涂，用棒流延，輥涂，流涂，注塑，漆包線涂布，噴涂，浸涂，轉(zhuǎn)盤涂布，階式涂布，幕涂，氣刀式涂布，間隙涂布，旋轉(zhuǎn)篩，逆輥涂，照相凹版式涂布，Meyer棒涂布，狹縫模(擠出)涂布，熱熔涂布，輥涂，柔性板涂布，絲網(wǎng)印刷機，凸版印刷，例如柔性版印刷，噴墨印刷，3D-打印，凹版印刷，例如直接凹版印刷或凹版膠印，平版印刷，例如膠印，或鏤模印刷，例如絲網(wǎng)印刷。優(yōu)選地，該方法涉及在施加LCP材料到含光對準物質(zhì)的層上之前或之后，加熱LCP材料。取決于LCP材料的性質(zhì)，可以有幫助的是在惰性氛圍，例如氮氣下或者在真空下，進行聚合。優(yōu)選地，基底是撓性箔，和以卷對卷工藝生產(chǎn)提供抗反射性能的封裝結(jié)構(gòu)體。所得膜最后可與基底箔一起纏繞在卷上，或者形成封裝結(jié)構(gòu)體的層可從基底上釋放，然后在沒有基底情況下以自立式膜形式纏繞。優(yōu)選地，基底是撓性的偏振箔，它具有偏振層的功能。其優(yōu)點是不要求其他基底，且優(yōu)選在卷對卷工藝中，封裝結(jié)構(gòu)體所要求的層可相繼地施加在偏振箔上。根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供一種材料組合物，其包括在本發(fā)明的方法與器件中使用的可光對準物質(zhì)。含可光對準物質(zhì)的材料組合物可包括大于一類可光對準物質(zhì)。在優(yōu)選的實施方案中，含可光對準物質(zhì)的材料組合物進一步包括液晶單體。優(yōu)選地，不具有溶劑的所述組合物在室溫以上具有液晶相。含可光對準物質(zhì)的材料組合物可包括不含可光對準部分的額外物質(zhì)。這種物質(zhì)包括聚合物，枝狀體，低聚物，預聚物和單體，它們在層的制造之中或之后可以聚合。合適的聚合物組的實例是但不限于：聚烯烴，例如聚乙烯，聚丙烯，聚環(huán)烯烴COP/COC，聚丁二烯，聚(甲基)丙烯酸酯，聚酯，聚苯乙烯，聚酰胺，聚醚，聚氨酯，聚酰亞胺，聚酰胺酸，聚碳酸酯，聚乙烯醇，聚氯乙烯，纖維素和纖維素衍生物，例如三醋酸纖維素。合適的單體組的實例是：單和多官能的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，環(huán)氧化物，異氰酸酯，烯丙基衍生物和乙烯基醚。優(yōu)選地，含可光對準物質(zhì)的組合物包括吸氣劑材料。優(yōu)選地，吸氣劑材料是親水的且包括任何金屬，金屬氧化物，準金屬，準金屬氧化物，金屬碳化物，準金屬碳化物，金屬鹵化物，金屬鹽，金屬高氯酸鹽，金屬氮化物，準金屬氮化物，金屬氧氮化物，準金屬氧氮化物，金屬氧硼化物，或準金屬氧硼化物顆粒，沸石，硅膠，活性氧化鋁和活性炭。優(yōu)選地，吸氣劑材料包括氧化物顆粒，優(yōu)選堿土金屬氧化物顆粒，優(yōu)選氧化鈣(CaO)或氧化鋇(BaO)或氧化鎂(MgO)。優(yōu)選地，吸氣劑材料為納米顆粒形式。吸氣劑顆粒的尺寸可以是1-1000nm。然而，優(yōu)選的是平均粒徑小于300nm，和更優(yōu)選小于200nm。進一步優(yōu)選平均粒徑為10O-250nm，和最優(yōu)選150-200nm。優(yōu)選針對噴墨印刷優(yōu)化所述組合物的性能。不包括光對準部分且支持阻擋性能的合適物質(zhì)與物質(zhì)混合物尤其是在WO2014012931中公開的那些，在本文中通過參考引入。特別地，WO2014012931公開了在OLED封裝用多層阻擋層疊件中用于水清除層的無溶劑的可輻射固化的樹脂組合物的配方。關(guān)于含可光對準物質(zhì)的材料組合物中的術(shù)語物質(zhì)不應(yīng)當包括溶劑。在本發(fā)明的上下文中，溶劑是稀釋組合物且有助于制備含所述組合物的配制劑并涂布或印刷組合物層但隨后例如通過干燥除去的化合物。換句話說，術(shù)語“物質(zhì)”的含義包括僅僅保留在最終層內(nèi)的那些化合物。特別地，下述化合物被視為溶劑：己烷，苯，甲苯，二乙醚，氯仿，乙酸乙酯，二氯甲烷，氯苯，1,4-二噁烷，四氫呋喃(THF)，丙酮，乙腈(MeCN)，二甲亞砜(DMSO)，N-甲基吡咯烷酮(NMP)，乙基吡咯烷酮，N-乙烯基吡咯烷酮，2-丁氧基乙醇(BC)，γ-丁內(nèi)酯(BL)，N-甲基嗎啉，乙腈，乙基卡必醇，丁基卡必醇，乙基卡必醇乙酸酯，乙二醇，丙二醇單乙酸酯，丙二醇二乙酸酯，二丙二醇，和二丙二醇單甲醚，1,2-二氯苯，四氫呋喃，Ν,Ν-二甲基乙酰胺，乙基溶纖劑，丁基溶纖劑，環(huán)戊酮(CP)，甲乙酮(MEK)，乙酸乙酯(EA)，茴香醚(AN)，環(huán)己酮(CHN)，甲基異丁基酮(MIBK)，1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯(MPA),N,N-二甲基-甲酰胺(DMF)，乙酸，正丁醇，異丙醇，正丙醇，乙醇，甲醇，甲酸，水，環(huán)戊烷，戊烷，石油醚，庚烷，二乙胺，叔丁基甲醚，環(huán)己烷，叔丁基醇，異丁基醇，異戊基醇，二乙基酮，1-辛醇，對二甲苯，間二甲苯，二甲氧基乙烷，乙酸丁酯，1-氯丁烷，鄰二甲苯，2-乙氧基乙醚，二乙二醇二甲醚，2-甲氧基乙醇，吡啶，丙酸，乙酸2-甲氧基乙酯，芐腈，六甲基磷酰胺，乙酸酐，二甘醇，碳酸亞丙酯，1,2-二氯乙烷，甘油，二硫化碳，二氯甲烷，硝基甲烷，硝基甲烷，氯仿，1,1,2-三氯三氟乙烷，四氯化碳和四氯乙烯。含可光對準物質(zhì)的材料組合物可含有改進粘合性的添加劑和/或光引發(fā)劑。取決于組合物內(nèi)物質(zhì)的類型，可發(fā)生在可光對準物質(zhì)和其他物質(zhì)之間的相分離。通過合適地選擇材料組合物，可控制相分離，使得一旦制造層，則大多數(shù)可光對準物質(zhì)朝該層的自由表面分離。這進一步允許減少組合物內(nèi)可光對準物質(zhì)的用量。優(yōu)選地，可光對準物質(zhì)之和與其他物質(zhì)之和的重量比為小于50％，更優(yōu)選小于20％，和最優(yōu)選小于10％。取決于采用該材料組合物制造的層的厚度，可光對準物質(zhì)的用量可以小于1wt％或甚至小于0.1wt％。在極端情況下，0.01wt％的可光對準物質(zhì)是足以仍然實現(xiàn)充足的對準性能。優(yōu)選地，可光對準物質(zhì)包括氟化和/或硅氧烷部分和/或是聚硅氧烷，以便支持相分離。在優(yōu)選的實施方案中，本發(fā)明的組合物包括可光對準物質(zhì)和可以是可光對準或者不是可光對準的或者這二者的其他物質(zhì)?？晒鈱饰镔|(zhì)和其他物質(zhì)可以是聚合物、枝狀體、低聚物、預聚物或單體。為了支持相分離，如此選擇可光對準物質(zhì)和其他物質(zhì)，以便可光對準物質(zhì)和其他物質(zhì)的單體偶極矩彼此不同。單體偶極矩應(yīng)當是指單體的偶極矩，或者在聚合物、低聚物和預聚物情況下分別是指這種聚合物、低聚物和預聚物的單體單元的偶極矩。優(yōu)選地，單體偶極矩相差大于0.5Debye，更優(yōu)選大于1Debye，和最優(yōu)選大于1.5Debye。所述組合物可含有額外的可光對準或非可光對準物質(zhì)。制造本發(fā)明層的組合物用的可光對準物質(zhì)可以是任何種類的光敏材料，其一旦暴露于對準光下可產(chǎn)生各向異性性能，而與光反應(yīng)機理無關(guān)，所述各向異性性能提供用于LCP材料的對準性能。因此，合適的可光對準物質(zhì)例如是其中一旦暴露于對準光下通過光-二聚化、光-分解、反式-順式異構(gòu)化或光-fries重排反應(yīng)而誘導各向異性的材料?？晒鈱饰镔|(zhì)(例如以上所述的那些)引入可光對準部分，所述可光對準部分一旦暴露于對準光下能產(chǎn)生優(yōu)選的方向并進而產(chǎn)生各向異性性能。這種可光對準部分優(yōu)選具有各向異性吸收性能。典型地，這一部分在230-500nm的波長范圍內(nèi)顯示出吸收。優(yōu)選地，在300-450nm的波長范圍內(nèi)，可光對準部分顯示出吸光，更優(yōu)選是在350-420nm的波長范圍內(nèi)顯示出吸收的部分。優(yōu)選地，可光對準部分具有碳-碳、碳-氮或氮-氮雙鍵。例如，可光對準部分是取代或未取代的偶氮染料，蒽醌，香豆素，部花青素，2-苯基偶氮噻唑，2-苯基偶氮苯并噻唑，茋，氰基茋，氟茋，肉桂腈，查爾酮，肉桂酸酯，氰基肉桂酸酯，苯乙烯基吡啶鹽(stilbazolium)，1,4-雙(2-苯基乙烯基)苯，4,4'-雙(芳基偶氮基)茋，茋類，二萘嵌苯，4,8-二氨基-1,5-萘醌染料，芳氧基羧酸衍生物，芳基酯，N-芳基酰胺，聚酰亞胺，具有與兩個芳環(huán)共軛的酮部分或酮衍生物的二芳基酮，例如取代二苯甲酮類，二苯甲酮亞胺類，苯基腙和半卡巴腙。以上列舉的各向異性吸收材料的制備是公知的，例如Hoffman等人的美國專利No.4,565,424，Jones等人的美國專利No.4,401,369中，Cole,Jr.等人的美國專利No.4,122,027中，Etzbach等人的美國專利No.4,667,020中和Shannon等人的美國專利No.5,389,285中所示。優(yōu)選地，可光對準部分包括芳基偶氮，聚(芳基偶氮)，茋，氰基茋，肉桂酸酯或查爾酮?？晒鈱饰镔|(zhì)可具有單體、低聚物或聚合物形式。可光對準部分可以共價鍵合在主鏈內(nèi)或者在聚合物或低聚物的側(cè)鏈內(nèi)或者它們可以是單體的一部分?？晒鈱饰镔|(zhì)可進一步是含不同類型可光對準部分的共聚物或者它可以是含有有和無可光對準部分的側(cè)鏈的共聚物。聚合物是指例如聚丙烯酸酯，聚甲基丙烯酸酯，聚酰亞胺，聚氨酯，聚酰胺酸，聚馬來酰亞胺，聚-2-氯丙烯酸酯，聚-2-苯基丙烯酸酯；未取代或者被C1-C6烷基取代的聚丙烯酰胺，聚甲基丙烯酰胺，聚-2-氯丙烯酰胺，聚-2-苯基丙烯酰胺，聚醚，聚乙烯基醚，聚酯，聚乙烯基酯，聚苯乙烯衍生物，聚硅氧烷，聚丙烯酸或聚甲基丙烯酸的直鏈或支鏈烷基酯；聚丙烯酸苯氧基烷基酯，聚甲基丙烯酸苯氧基烷基酯；具有1-20個碳原子的烷基殘基的聚甲基丙烯酸苯基烷基酯；聚丙烯腈，聚甲基丙烯腈，環(huán)烯烴(cycloolephinic)聚合物，聚苯乙烯，聚-4-甲基苯乙烯或其混合物?？晒鈱饰镔|(zhì)也可包括光敏劑，例如，酮基香豆素和二苯甲酮類。進一步地，優(yōu)選的可光對準單體或低聚物或聚合物描述于美國專利No.5,539,074，美國專利No.6,201,087，美國專利No.6,107,427，美國專利No.6,632,909和美國專利No.7,959,990中。實施例為了評價本發(fā)明封裝結(jié)構(gòu)體的性能，使用“鈣試驗”，如Nisato等人的OrganicElectronics15(2014),3746-3755在"Experimentalcomparisonofhigh-performancewatervaporpermeationmeasurementmethods"中所述。純的金屬鈣是不透明材料，它與水反應(yīng)，形成透明的氫氧化鈣。若被阻擋結(jié)構(gòu)體屏蔽，則鈣薄膜的腐蝕速率是阻擋結(jié)構(gòu)體的水蒸氣透過速率(WVTR)的量度。它可通過測量經(jīng)過鈣薄膜的透光率的變化來確定，其中殘留鈣厚度可由所述鈣薄膜來計算。在下述實施例中，在沒有偏振片的情況下，進行關(guān)于WVTR的試驗，所述偏振片是本發(fā)明抗反射結(jié)構(gòu)體的一部分。若偏振片影響WVTR，則它將僅僅降低它，因為它是封裝結(jié)構(gòu)體的額外層。因此，與以下的實施例中的相比，含偏振層的封裝結(jié)構(gòu)體將具有改進的WVTR性能。制備無溶劑的可輻射固化的樹脂組合物RES1根據(jù)WO2014012931的表頭中實施例F20的配方與說明，制備可聚合材料的組合物RES1，然而不具有CaO。組合物RES1由51wt％SR262，9.6wt％SR351，21.1wt％SR421a，17.3wt％SR307和1wt％Irgacure369組成。在下表1中列出了可商購的物質(zhì)的細節(jié)。RES1不含溶劑且在室溫下為液體。表1：制備可光對準組合物PAC1通過混合94.5wt％RES1、5wt％可光對準物質(zhì)PA1，并添加0.5％氧化鈣(CaO)顆粒，制備可光對準組合物PAC1。在室溫下攪拌所述組合物16小時。組合物PAC1不包括溶劑。聚合物PA1具有下述結(jié)構(gòu)體，且根據(jù)WO2015024810A1中的說明制備。制備含可光對準材料PA2的溶液PAC2通過在97wt％的50wt％乙酸丁酯/50wt％乙酸乙酯的溶劑混合物中稀釋3wt％的可光對準聚合物PA2，制備溶液PAC2。然后在室溫下攪拌該溶液30分鐘。聚合物PA2具有下述結(jié)構(gòu)體：制備LCP溶液LCP1將25wt％由95.475wt％苯甲酸、2,5-雙[[4-[[6-[(1–氧代-2-丙烯基)氧基]己基]氧基]苯甲?；鵠氧基]-戊酯、2wt％IrgacureOXE02(BASF)、0.5wt％TEGOFlow300(Evonik)、0.025wt％2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚(SigmaAldrich)和2wt％KayaradDPCA-20(NipponKayaku)組成的混合物溶解在75wt％乙酸正丁酯內(nèi)，并在室溫下攪拌90分鐘，以便接收LCP溶液LCP1。該溶液過濾通過0.45μmPTFE過濾器。制備Ca-試驗基底通過等離子體加強的化學氣相沉積(PECVD)，在130℃下，在清潔的15cmx15cm玻璃基底(1.1mm厚度)頂部上施加100nm的氮化硅(SiN)薄層。在陶瓷層的頂部上通過掩膜蒸發(fā)9組每組9個鈣正方形。81個鈣正方形中每一個具有5mmx5mm的側(cè)面尺寸和約50nm的厚度。在鈣下方的SiN層對以下所述在鈣上方制備的阻擋結(jié)構(gòu)體的阻擋性能不具有貢獻。制備在Ca-試驗基底上的封裝結(jié)構(gòu)體ES1在Ca-試驗基底上噴墨印刷20μm厚的RES1偏振層。在惰性氛圍下，使用LED燈，在395nm和4J/cm2下固化該材料。在固化之后，通過PECVD，在130℃下，沉積150nm的無機SiN層。然后在1000rpm下30秒+2000rpm下2秒，由溶液PAC2旋涂可光對準物質(zhì)PA2的層并在80℃下在熱板上熱固化4分鐘。在60mJ/cm2的能量下，將該聚合物暴露于線性偏振的UV-B光下，這將引起PA2層內(nèi)光對準。在對準的PA2層的頂部上，通過在1400rpm下旋涂溶液LCP130秒，并在熱板上在55℃下退火4分鐘，施加1.3μm厚的LCP膜。然后在15分鐘期間緩慢地降低溫度到室溫，并在氮氣氛圍下通過用具有1.5J/cm2的UV-A光輻照LCP層，從而交聯(lián)LCP層。通過PECVD，在LCP層的頂部上施加150nm厚的SiN層。最后，在SiN層的頂部上噴墨印刷20μm厚的RES1層。在惰性氛圍下，使用LED燈，在395nm和4J/cm2下，固化該材料。圖7示出了在交叉偏振片之間的Ca-試驗基底上最終的封裝結(jié)構(gòu)體ES1的照片，其中PA2層的誘導對準方向與偏振片的偏振方向呈45°。在玻璃外側(cè)的區(qū)域是暗的，因為偏振片交叉。在玻璃內(nèi)部，81個鈣正方形為暗的，因為它們不透明。沒有被鈣覆蓋的玻璃區(qū)域是亮的，因為通過PA2層對準的LCP材料具有雙折射。在這一區(qū)域內(nèi)采用傾斜補償器測量的光延遲為約140nm，它充當綠光的四分之一波延遲片。制備在Ca-試驗基底上的封裝結(jié)構(gòu)體ES2在Ca-試驗基底上噴墨印刷20μm厚的RES1的平面化層。在惰性氛圍下，使用LED燈，在395nm和4J/cm2下固化該材料。在固化之后，通過PECVD，在130℃下沉積150nm的無機SiN層。然后，在SiN層的頂部上噴墨印刷20μm厚的可光對準組合物PAC1層。用395nm波長和4J/cm2能量的光輻照PAC1層，以引發(fā)丙烯酸類單體聚合。然后，在60mJ/cm2的能量下，將PAC1層暴露于線性偏振的UV-B光下，這會引起PAC1層內(nèi)可光對準物質(zhì)PA1的光對準。，通過在1400rpm下旋涂溶液LCP1膜30秒，并在熱板上在55℃下退火4分鐘，施加在對準的PAC1層的頂部上的1.3μm厚的LCP膜。然后，在15分鐘的過程中緩慢地降低溫度到室溫，并在氮氣氛圍下，通過用具有1.5J/cm2的UV-A光輻照，交聯(lián)LCP層。通過PECVD，在LCP層的頂部上施加150nm厚的SiN層。最后，在SiN層的頂部上噴墨印刷20μm厚的RES1層。在惰性氛圍下，使用LED燈，在395nm和4J/cm2下固化該材料。當在交叉偏振片之間觀察到在Ca-試驗基底上的最終封裝結(jié)構(gòu)體ES2且PAC1層的誘導對準方向與偏振片的偏振方向呈45°時，玻璃是亮的，除了是81個鈣正方形以外，它是暗的，因為它們不透明。沒有被鈣覆蓋的玻璃區(qū)域是亮的，因為通過PAC1層對準的LCP材料具有雙折射。在這一區(qū)域內(nèi)采用傾斜補償器測量的光延遲為約140nm。制備在Ca-試驗基底上的封裝結(jié)構(gòu)體ES3在Ca-試驗基底上噴墨印刷20μm厚的RES1的平面化層。在惰性氛圍下，使用LED燈，在395nm和4J/cm2下固化該材料。在固化之后，通過PECVD，在130℃下沉積150nm無機SiN層。然后在1000rpm下30秒+2000rpm下2秒，由溶液PAC2旋涂可光對準物質(zhì)PA2的層并在80℃下在熱板上熱固化4分鐘。在60mJ/cm2的能量下，將該聚合物暴露于線性偏振的UV-B光下，這將引起PA2層內(nèi)光對準。在對準的PA2層的頂部上，通過在1400rpm下旋涂溶液LCP130秒，并在熱板上在55℃下退火4分鐘，施加1.3μm厚的LCP膜。然后在15分鐘期間緩慢地降低溫度到室溫，并在氮氣氛圍下通過用具有1.5J/cm2的UV-A光輻照LCP層，從而交聯(lián)LCP層。當在交叉偏振片之間觀察到在Ca-試驗基底上的最終封裝結(jié)構(gòu)體ES3且PA2層的誘導對準方向與偏振片的偏振方向呈45°時，玻璃是亮的，除了81個鈣正方形以外，它是暗的，因為它們不透明。沒有被鈣覆蓋的玻璃區(qū)域是亮的，因為通過PA2層對準的LCP材料具有雙折射。在這一區(qū)域內(nèi)采用傾斜補償器測量的光延遲為約140nm。評價封裝結(jié)構(gòu)體ES1、ES2和ES3的WVTR性能在氣候室內(nèi)，在60℃和90％的相對濕度下儲存在Ca-試驗基底上的封裝結(jié)構(gòu)體ES1、ES2和ES3885小時。圖8的照片中示出了試驗基底的外觀，其中圖8a示出了具有結(jié)構(gòu)體ES1的基底，圖8b示出了具有結(jié)構(gòu)體ES2的基底，和圖8c示出了具有結(jié)構(gòu)體ES3的基底。在每一基底上一些鈣正方形完全或部分消失。根據(jù)Nisato等人的解釋，出現(xiàn)這是因為水通過針孔和缺陷滲透。Ca區(qū)域的消失因此是所謂的非本質(zhì)(extrinsic)的WVTR的量度。另一方面，根據(jù)在鈣正方形的無缺陷部分內(nèi)透過率變化的測量，確定固有(intrinsic)的WVTR。對于其中在結(jié)構(gòu)體內(nèi)不具有針孔或缺陷的最好的情況來說，固有的WVTR因此是某些封裝結(jié)構(gòu)體的特征值。作為非本質(zhì)WVTR的亮度，確定在每一基底上總的殘留鈣區(qū)域，其概述于下表中：封裝結(jié)構(gòu)體殘留鈣區(qū)域ES174.3％ES279.1％ES346.7％封裝結(jié)構(gòu)體ES2的非本質(zhì)的WVTR略好于ES1。與ES3相比，ES1和ES2均顯示出改進的非本質(zhì)的WVTR，這最可能是由于ES1和ES2中額外的無機SiN層導致的。根據(jù)在無缺陷的鈣部分內(nèi)平均透過率的變化，確定固有的WVTR。以下列出了結(jié)果：封裝結(jié)構(gòu)體固有WVTR[g/m2/天]ES12.5×10-5ES23.7×10-5ES32.1×10-5固有的WVTR值彼此非常接近，且在測量不確定度內(nèi)可被視為相同。因此，本發(fā)明的每一封裝結(jié)構(gòu)體ES1,ES2和ES3具有優(yōu)越的固有WVTR。顯然，在結(jié)構(gòu)體ES1和ES2內(nèi)額外的無機SiN層沒有進一步改進固有WVTR。當前第1頁1 2 3